公开(公告)号：CN1447395A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：CN03107541.X

申请日：2003-03-27

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司 ,  山下永二 ,  铃木聪

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。

公开(公告)号：CN1299334C

公开(公告)日：2007-02-07

申请号：CN200410028731.3

申请日：2004-03-12

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 铃木聪 ,  富藤幸雄

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/00 ,  B08B3/02

Abstract: 提供一种在把冲洗液供给到基板的表面而处理基板的场合，可以减少冲洗液(纯水)的使用量的方法。在基板(W)被向水洗处理部(10)的处理腔(12)内搬入的当初，从入口喷嘴(20)与上部喷雾嘴(22)向基板供给冲洗液，然后，在基板被从处理腔(12)内搬出之前，从上部喷雾嘴(22)与下部喷雾嘴(24)向基板供给冲洗液。

公开(公告)号：CN1280876C

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN03107541.X

申请日：2003-03-27

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司 ,  山下永二 ,  铃木聪

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。

公开(公告)号：CN1531029A

公开(公告)日：2004-09-22

申请号：CN200410028731.3

申请日：2004-03-12

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 铃木聪 ,  富藤幸雄

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/00 ,  B08B3/02

Abstract: 提供一种在把冲洗液供给到基板的表面而处理基板的场合，可以减少冲洗液(纯水)的使用量的方法。在基板(W)被向水洗处理部(10)的处理腔(12)内搬入的当初，从入口喷嘴(20)与上部喷雾嘴(22)向基板供给冲洗液，然后，在基板被从处理腔(12)内搬出之前，从上部喷雾嘴(22)与下部喷雾嘴(24)向基板供给冲洗液。