一种基于色品坐标测量获得薄膜厚度的方法

    公开(公告)号:CN115371570A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210926140.6

    申请日:2022-08-03

    Abstract: 本发明公开了一种基于色品坐标测量获得薄膜厚度的方法。本发明采用光纤导光、光栅以及面阵列探测模式,获取样品的光谱信号,根据反射谱与色品坐标的换算关系,计算出待测样品的色品坐标。通过理论计算获得薄膜的色品坐标与厚度的完整映射关系,对比实测色品坐标与理论映射关系中的色品坐标,可以准确获得薄膜样品的厚度信息。本发明克服了传统光谱测色方式在测量过程中需要旋转光栅或者棱镜进行波长扫描的缺点,实现单次全谱测量,缩短了测量所需的时间。同时,相较传统测量时的波长间隔,本发明采用更密集的光谱获取,从而更加准确的获取色度信息,基于此快速准确地获得了纳米薄膜的厚度信息。

    一种具有折射率渐变结构的辐射冷却薄膜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN119751936A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202411892527.X

    申请日:2024-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种具有折射率渐变结构的辐射冷却薄膜材料及其制备方法;该方法包括:将多孔材料与紫外固化光学胶充分混合,得到分散液;将分散液涂覆在衬底上;通过紫外灯照射方法固化分散液得到辐射冷却薄膜。本发明制得的辐射冷却薄膜在晴天时可以将户外物体的热量通过大气窗口辐射到宇宙空间中;其具有一种折射率渐变结构,有利于将目标物体内部热量以红外线方式向外辐射,大大提高辐射冷却的功率,使目标物体的降温幅度增加;可实现在太阳波段(300‑2500 nm)的反射率≥85%,红外波段(8‑13μm)的发射率≥92%;本发明制备方法简单,成本低,易于实现拓宽辐射冷却应用的范围。

    一种高环境可靠性宽带红外薄膜偏振器

    公开(公告)号:CN117666003A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202410040584.9

    申请日:2024-01-11

    Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域,具体为一种高环境可靠性宽带红外薄膜偏振器。该薄膜偏振器包括光学基片、偏振分光膜层和增透膜层。偏振分光膜层由光学基片一侧依次镀制的第一导纳匹配膜堆、对称周期膜堆和第二导纳匹配膜堆构成。该偏振器通过在高折射率膜层与低折射率膜层之间插入中折射率膜层,实现偏振器宽偏振区域和高环境可靠性。在功能设计上,对称周期膜堆用于将入射光束的偏振态进行分离,第一、第二导纳匹配膜堆用于将光学基片、入射介质与对称周期膜堆等效导纳进行匹配。本发明薄膜偏振器具有宽偏振区域,宽角度适用,高消光比以及高环境可靠性等特点。

    一种纳米材料燃点测量方法及测量系统

    公开(公告)号:CN111693561A

    公开(公告)日:2020-09-22

    申请号:CN202010471013.2

    申请日:2020-05-28

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明涉及一种纳米材料燃点测量方法及测量系统,所述测量方法包括以下步骤:1)利用变温椭圆偏振光谱仪在单波长和单角度下测量不同温度下纳米材料的P光、S光的复反射率比值ρ,进而获得两个椭偏参数ψ与Δ;2)基于步骤1)获得椭偏参数ψ、Δ随温度的变化谱;3)基于所述变化谱上的突变点确定纳米材料的相变点;4)根据每一所述相变点前后物质的变化情况,判断所述相变点是否为燃点,从而测量获得纳米材料的最终燃点。与现有技术相比,本发明具有无接触、快速、可靠性高等优点。

    一种消慧差宽带高分辨光谱仪

    公开(公告)号:CN110926613A

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201911310162.4

    申请日:2019-12-18

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明公开一种消慧差宽带高分辨光谱仪,包括入射狭缝、准直反射镜、集成光栅、二维聚焦成像镜和二维面阵探测器;入射光沿入射狭缝入射,并穿过集成光栅中心的通光孔,入射到准直反射镜上,入射光经准直反射镜准直后沿同轴光路L1入射到集成光栅,经集成光栅的各子光栅衍射后被二维聚焦成像镜聚焦,全光谱区的衍射光沿同轴光路L2,入射到二维面阵探测器的焦平面检测,L1和L2光路的离轴角为零。本发明无任何机械位移部件,实现全光谱区在衍射方向完全消除慧差影响差的宽光谱高分辨高速检测和分析,具有很高的光谱分辨率和工作可靠性。

    一种新型硅纳米晶的制备方法

    公开(公告)号:CN100549245C

    公开(公告)日:2009-10-14

    申请号:CN200610118916.2

    申请日:2006-11-30

    Applicant: 复旦大学

    CPC classification number: Y02P20/125

    Abstract: 本发明属于纳米光电材料技术领域,具体为一种电子束蒸发制备硅纳米晶的方法。传统的硅纳米晶的制备方法包括电化学腐蚀法、离子注入法、溅射法、化学气相沉积法,以及热蒸发法等。本发明采用电子束蒸发生长SiOx/SiO2(1<x<2)超晶格多层膜结构,其中SiOx层和SiO2层将分别蒸发SiO粉末源材料和SiO2源材料而得到,然后在高温氮气环境中退火,从而获得SiO2基体中尺寸大小可控、且均匀分布的硅纳米晶。薄膜中硅纳米晶的尺寸大小、尺寸分布和硅纳米晶的密度可以独立控制,而且硅纳米晶在薄膜样品中的位置以及样品的超晶格周期也可以任意设计。本发明所涉及与成熟的Si基光电子集成工艺相兼容,为将来的器件研制打下基础。

    一种新型快速椭圆偏振光测量系统

    公开(公告)号:CN1664561A

    公开(公告)日:2005-09-07

    申请号:CN200510024432.7

    申请日:2005-03-17

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明是一种新型快速椭圆偏振光测量系统。在传统光度式椭圆偏振光测量仪结构中,需采用机械转动方式控制起偏器或检偏器来进行光偏振态的方位角扫描。由于机械转动的速度有限,大大限制了椭圆偏振光测量的检测速度。本发明采用组合检偏器和二维CCD阵列探测器结构配置的椭圆偏振测试系统来快速获取材料的光学参数。由于采用组合偏振器代替传统的旋转偏振器来获得傅立叶分析所要求的采样点数目,并采用二维CCD阵列探测器来并行探测各偏振态的光信号。在测试过程中,系统无须转动任何机械部件,因此可以使各类材料光学参数的测量速度大幅度提高。

    一种可调节环形光束的生成系统
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118244498A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410422593.4

    申请日:2024-04-09

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明公开了一种可调节环形光束的生成系统。该系统包括沿光轴方向依次设置的激光光源、扩束准直系统、可调节光阑、第一圆锥透镜、环形光阑滤波系统、第二圆锥透镜和图像接收器。本发明通过环形光阑滤波系统对锥透镜顶点加工面型误差引起的杂散光进行了消除,同时在双锥透镜组前加入一个扩束准直系统,可以最大程度对激光光源产生的高斯光束进行整形,最终得到一个环半径大小稳定且可调节的环形光束。本发明提供的光路设计简单,可用于消除锥透镜组不同大小顶点误差对环形光场的影响,适用性广泛,使得实际加工出来的双锥透镜组合对实心光束整形成环形光束的整形质量显著提升。

    一种V型投影光路消慧差光栅光谱仪

    公开(公告)号:CN113720456A

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN202111020539.X

    申请日:2021-09-01

    Abstract: 本发明公开了一种V型投影光路消慧差光栅光谱仪,包括依光的传播方向依次设置于光路上的入射狭缝S1、光栅G、入射球面反射镜M1、聚焦球面反射镜M2和出射狭缝S2,通过将入射狭缝S1和出射狭缝S2分别布设在光栅G两侧,且由入射狭缝S1和入射球面反射镜M1形成的入射同轴光路与光栅G和聚焦球面反射镜M2形成的衍射同轴光路,在衍射面内的投影形成V型结构,在对光栅的方位角进行全波长扫描的光谱区,与光栅扫描方位角无关,不依赖于光栅的扫描旋转角,从而有效克服了慧差缺陷在光谱仪应用中对光谱分辨率的影响,实现了全光谱区的高分辨率检测和分析,具有实际推广应用价值。

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