公开(公告)号：CN103180969A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180051092.0

申请日：2011-10-19

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 王克嘉 ,  G·苏普拉提克

IPC: H01L31/18

CPC classification number: H01L31/072 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02485 ,  H01L21/02491 ,  H01L21/02502 ,  H01L21/02557 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02628 ,  H01L21/02631 ,  H01L31/0326 ,  Y02E10/50

Abstract: 在衬底上真空沉积Kesterite膜并对其进行退火。沉积在低温下进行以提供良好的组分控制和有效的金属使用。在高温下进行短时长的退火。可采用在高真空环境中热蒸发、电子束蒸发或溅射作为沉积方法的一部分。