公开(公告)号：CN100475803C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN02828462.3

申请日：2002-10-11

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  浦野洋治 ,  高桥昌弘

IPC: C07D311/76 ,  C07D311/86 ,  C08G59/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/68 ,  C08G65/105 ,  C08G2650/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。

公开(公告)号：CN1854133A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：CN200610081844.9

申请日：2002-10-11

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  浦野洋治 ,  高桥昌弘

IPC: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/68 ,  C08G65/105 ,  C08G2650/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。

公开(公告)号：CN1622943A

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN02828462.3

申请日：2002-10-11

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  浦野洋治 ,  高桥昌弘

IPC: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/68 ,  C08G65/105 ,  C08G2650/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：如右式(1)、(2)或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，如式[35] (式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。

公开(公告)号：CN1854133B

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200610081844.9

申请日：2002-10-11

Applicant: 和光纯药工业株式会社

Inventor： 石原正巳 ,  浦野洋治 ,  高桥昌弘

IPC: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C07D311/16 ,  C07D311/86 ,  C08G59/68 ,  C08G65/105 ,  C08G2650/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及适用于阳离子性光聚合引发剂、化学放大型抗蚀剂用酸发生剂的含杂环鎓盐，提供一种用通式[1](式中，R表示用通式[2]或通式[3]表示的基团)表示的含杂环的锍盐：或用通式[35]表示的含杂环的鎓盐，(式中，R26及R27的至少一种是用上述通式[2]或[3]表示的基团)。