一种高激光损伤阈值ZrO2薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN1553220A

    公开(公告)日:2004-12-08

    申请号:CN200310109532.0

    申请日:2003-12-18

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域,具体涉及一种具有高激光损伤阈值的二氧化锆(ZrO2)薄膜的制备方法,在基底层上用化学镀膜法制备单层ZrO2薄膜。首先制备氧氯化锆(ZrOCl2·8H2O)的水溶液,并在密闭容器中对该水溶液进行水热合成,制得ZrO2水溶胶;再用乙二醇甲醚替换ZrO2水溶胶中的水,形成ZrO2醇溶胶;并在该醇溶胶中添加适量聚乙烯吡咯烷酮(PVP),充分搅拌形成均匀稳定的ZrO2-PVP溶胶。本发明制备过程简单方便,所制单层ZrO2-PVP薄膜膜层表面平整度高,膜层的抗激光损伤阈值达23J/cm2(1064nm,1ns);ZrO2-PVP溶胶性能稳定,可长期存放使用。

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