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公开(公告)号：CN113460584A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202010240976.1
申请日：2020-03-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明提供了一种用于安检设备的折叠式传输机(100)，所述折叠式传输机(100)包括基体和可翻转部(2)，所述可翻转部(2)被配置为能够相对于基体翻转，使得可翻转部(2)能够在相对于安检设备收起的收起状态和相对于安检设备展开的展开状态之间移动。根据本发明的折叠式传输机减小了运输包装尺寸和所需的存放空间，减小了卡包风险。
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公开(公告)号：CN113460584B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202010240976.1
申请日：2020-03-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明提供了一种用于安检设备的折叠式传输机(100)，所述折叠式传输机(100)包括基体和可翻转部(2)，所述可翻转部(2)被配置为能够相对于基体翻转，使得可翻转部(2)能够在相对于安检设备收起的收起状态和相对于安检设备展开的展开状态之间移动。根据本发明的折叠式传输机减小了运输包装尺寸和所需的存放空间，减小了卡包风险。
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公开(公告)号：CN113049614B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN201911272103.2
申请日：2019-12-11
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/046 , G01V5/00
Abstract: 本公开提供调节定位装置和方法，以及辐射扫描成像设备，调节定位装置用于调整辐射扫描成像设备的射线源组件的方位。调节定位装置包括：底座(100)，其包括彼此连接的第一部件和第二部件，并被构造成用于支撑射线源组件(10)，以使射线源组件竖直地定位在第二部件上；第一调节机构(200)，其安装至底座的第一部件和所述设备框架，并被配置成通过驱动整个底座相对于设备框架运动而带动射线源组件在第一方向上进行平移运动，以调整射线源组件的位置；和第二调节机构(300)，其安装至底座的第二部件和设备框架，并被配置成通过驱动第二部件相对于第一部件运动而带动射线源组件在一角度范围内转动，以调整射线源组件的出束方向。
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公开(公告)号：CN115038227A
公开(公告)日：2022-09-09
申请号：CN202110237810.9
申请日：2021-03-03
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: H05G1/02
Abstract: 本申请公开了一种用于X射线源的冷却系统，包括：散热器，用于将冷却介质所带的热量释放到周围环境中；储液箱，存储冷却介质；泵，将冷却介质从储液箱中泵出并使冷却介质在冷却系统中循环；风机，促使散热器与周围空气进行热交换；膨胀装置，连接到储液箱，用于调节所述管路中的冷却介质的压力；安全阀机构，用于调节冷却系统内的压力，其中，在安全阀机构的调节下，冷却介质从储液箱沿着管路到达X射线源，吸收X射线源的热量之后经散热器，通过风机加速完成热交换，最后返回储液箱。本申请可以实现对X射线源组件良好的散热及保护，从而确保其安全、平稳地工作，进而保证CT的高质量成像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104750039A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310739125.1
申请日：2013-12-26
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G06F13/4208 , G05B15/02 , G05B19/042 , G05B23/0267 , G05B2219/2642 , G05B2219/31457 , G06F11/0784 , G06F13/364 , G06F13/385 , G05B19/41865
Abstract: 本发明公开了安检设备的集中管理系统、装置和方法，按照总线通信方式，提供本地的安检设备与远程控制站点之间的连接和通信。系统包括：布置在现场的多个安检设备；布置在远程端的远程控制站点；以及现场总线网络，将多个安检设备与远程控制站点连接，并按照总线通信方式在多个安检设备与远程控制站点之间传输信号。根据本发明实施，能够采用较少信号线和比较简单的布线，实现在远程控制站点处对本地安检设备的正确、可靠的集中管理。
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公开(公告)号：CN115855982A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211497150.9
申请日：2019-12-11
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/046 , G01V5/00
Abstract: 本公开提供调节定位装置和方法，以及辐射扫描成像设备，调节定位装置用于调整辐射扫描成像设备的射线源组件的方位。调节定位装置包括：底座(100)，其包括彼此连接的第一部件和第二部件，并被构造成用于支撑射线源组件(10)，以使射线源组件竖直地定位在第二部件上；第一调节机构(200)，其安装至底座的第一部件和所述设备框架，并被配置成通过驱动整个底座相对于设备框架运动而带动射线源组件在第一方向上进行平移运动，以调整射线源组件的位置；和第二调节机构(300)，其安装至底座的第二部件和设备框架，并被配置成通过驱动第二部件相对于第一部件运动而带动射线源组件在一角度范围内转动，以调整射线源组件的出束方向。
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公开(公告)号：CN113049614A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201911272103.2
申请日：2019-12-11
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/046 , G01V5/00
Abstract: 本公开提供调节定位装置和方法，以及辐射扫描成像设备，调节定位装置用于调整辐射扫描成像设备的射线源组件的方位。调节定位装置包括：底座(100)，其包括彼此连接的第一部件和第二部件，并被构造成用于支撑射线源组件(10)，以使射线源组件竖直地定位在第二部件上；第一调节机构(200)，其安装至底座的第一部件和所述设备框架，并被配置成通过驱动整个底座相对于设备框架运动而带动射线源组件在第一方向上进行平移运动，以调整射线源组件的位置；和第二调节机构(300)，其安装至底座的第二部件和设备框架，并被配置成通过驱动第二部件相对于第一部件运动而带动射线源组件在一角度范围内转动，以调整射线源组件的出束方向。
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公开(公告)号：CN104750039B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201310739125.1
申请日：2013-12-26
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G06F13/4208 , G05B15/02 , G05B19/042 , G05B23/0267 , G05B2219/2642 , G05B2219/31457 , G06F11/0784 , G06F13/364 , G06F13/385
Abstract: 公开了安检设备的集中管理系统、装置和方法，按照总线通信方式，提供本地的安检设备与远程控制站点之间的连接和通信。系统包括：布置在现场的多个安检设备；布置在远程端的远程控制站点；以及现场总线网络，将多个安检设备与远程控制站点连接，并按照总线通信方式在多个安检设备与远程控制站点之间传输信号。根据本发明实施，能够采用较少信号线和比较简单的布线，实现在远程控制站点处对本地安检设备的正确、可靠的集中管理。
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公开(公告)号：CN203643824U
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201320876890.3
申请日：2013-12-26
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 本实用新型公开了安检设备的集中管理系统和装置，按照总线通信方式，提供本地的安检设备与远程控制站点之间的连接和通信。系统包括：布置在现场的多个安检设备；布置在远程端的远程控制站点；以及现场总线网络，将多个安检设备与远程控制站点连接，并按照总线通信方式在多个安检设备与远程控制站点之间传输信号。根据本实用新型，能够采用较少信号线和比较简单的布线，实现在远程控制站点处对本地安检设备的正确、可靠的集中管理。
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