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公开(公告)号：CN108447577A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810438310.X
申请日：2018-05-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，该屏蔽帘防护装置包括：屏蔽帘轨道，为回转轨道；两个以上的屏蔽帘组件在屏蔽帘轨道的延伸方向上相互间隔设置于屏蔽帘轨道，并能够沿屏蔽帘轨道移动；所述屏蔽帘组件包括卷帘轴和连接在卷帘轴上的屏蔽帘，卷帘轴能够自转，以使屏蔽帘在卷帘轴上能够在收卷状态与展开状态之间切换。本发明公开的屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，能够消除待测物品进出检测设备的相对阻力，减少屏蔽帘与待测物品之间的摩擦，并提高屏蔽效果，同时实现屏蔽帘的有效固定，显著的降低加工难度，提高加工效率，且避免屏蔽帘发生下垂，进一步提高屏蔽效果，以及能够提高检测设备的安全性能和使用寿命。
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公开(公告)号：CN107807401A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201711009460.0
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明涉及一种安装平台及安检设备，安装平台用于光机，包括：层叠设置的第一支撑台、第二支撑台及第三支撑台；第二支撑台与第一支撑台通过第一回转部件转动连接，以使第一支撑台能够以第一回转部件的回转轴线为中心相对于第二支撑台平转；第三支撑台与第二支撑台通过第二回转部件转动连接，以使第二支撑台能够以第二回转部件的回转轴线为中心相对于第三支撑台翻转；其中，第一回转部件的回转轴线与第二回转部件的回转轴线相交。本发明实施例提供的安装平台及安检设备，能够用于安装光机并能够对光机的位置进行调整，使得光路对正，保证光机的成像效果，满足安全检测要求。
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公开(公告)号：CN107783201B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN201711008514.1
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01V5/22
Abstract: 本发明涉及一种光机屏蔽罩及安检设备，光机屏蔽罩包括：框架本体，框架本体具有容纳腔、端部开口及射线出口，容纳腔用于容纳光机，射线出口用于透过光机发出的射线；端部罩体，端部罩体设置于端部开口处，具有与容纳腔相通的密闭腔；和转接部件，转接部件设置于端部罩体与框架本体之间并且具有使密闭腔与容纳腔连通的开孔，转接部件将端部罩体可移动地连接于框架本体，以调节端部罩体至端部开口的距离。本发明实施例提供光机屏蔽罩及安检设备，能够对光机产生的无用的射线进行有效的屏蔽，避免对人体造成伤害，同时不会对光机本身造成损伤。
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公开(公告)号：CN107807405B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN201711008509.0
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V8/20
Abstract: 本发明涉及一种探测装置，用于扫描成像设备，其包括：支座，支座具有弧形基面；后准组件，后准组件通过第一导轨滑动设置在支座上，以使后准组件能够相对于支座沿弧形基面的轴向进行直线运动；探测器组件，探测器组件通过第二导轨滑动设置在后准组件上，以使探测器组件能够相对后准组件沿弧形基面的轴向进行直线运动。本发明实施例探测装置包括的后准组件和探测器组件的位置均可根据实际应用要求进行调整，以使后准组件、探测器组件和光路对准，提高探测精度。
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公开(公告)号：CN108447577B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN201810438310.X
申请日：2018-05-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，该屏蔽帘防护装置包括：屏蔽帘轨道，为回转轨道；两个以上的屏蔽帘组件在屏蔽帘轨道的延伸方向上相互间隔设置于屏蔽帘轨道，并能够沿屏蔽帘轨道移动；所述屏蔽帘组件包括卷帘轴和连接在卷帘轴上的屏蔽帘，卷帘轴能够自转，以使屏蔽帘在卷帘轴上能够在收卷状态与展开状态之间切换。本发明公开的屏蔽帘防护装置、方法、设备及检测系统，能够消除待测物品进出检测设备的相对阻力，减少屏蔽帘与待测物品之间的摩擦，并提高屏蔽效果，同时实现屏蔽帘的有效固定，显著的降低加工难度，提高加工效率，且避免屏蔽帘发生下垂，进一步提高屏蔽效果，以及能够提高检测设备的安全性能和使用寿命。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107727670A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201711008503.3
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/00
CPC classification number: G01N23/00
Abstract: 本发明涉及一种扫描成像设备，其包括：固定支架；探测装置，设置于固定支架，探测装置通过固定支架支撑于安装基面上，探测装置包括水平调整组件和升降调整组件，探测装置通过水平调整组件调整位置以保持水平状态，探测装置通过升降调整组件作升降运动以沿竖直方向调整位置；位置标定装置，设置于固定支架，位置标定装置与探测装置相连接；其中，探测装置作升降运动调整自身位置后，通过位置标定装置标定当前位置是否仍保持于水平状态。本实施例的扫描成像设备包括的探测装置在完成水平方向上的位置调整，再在竖直方向上调整位置后，通过位置标定装置可以标定出探测装置的当前状态是否仍保持调整前的水平状态，标定过程简单快速，省时省力。
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公开(公告)号：CN107807404B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN201711006506.3
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V8/20
Abstract: 本发明涉及一种探测装置以及扫描成像设备。探测装置包括：环形底座以及设置于环形底座内侧的多个探测器，多个探测器沿环形底座的周向分布；其中，环形底座具有沿自身轴向间隔设置的第一环部以及第二环部，第一环部和第二环部均朝向环形底座的轴线延伸；每个探测器通过周向定位部件与第一环部连接定位，周向定位部件能够限制对应的探测器沿环形底座的周向移动，每个探测器通过连接部件与第二环部连接固定。本发明的探测装置中包括的探测器能够自定位至环形底座，不需要外部工具辅助定位，从而能够使得探测器与环形底座组装过程操作简单快捷，省时省力。
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公开(公告)号：CN107807404A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201711006506.3
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V8/20
CPC classification number: G01V8/20
Abstract: 本发明涉及一种探测装置以及扫描成像设备。探测装置包括：环形底座以及设置于环形底座内侧的多个探测器，多个探测器沿环形底座的周向分布；其中，环形底座具有沿自身轴向间隔设置的第一环部以及第二环部，第一环部和第二环部均朝向环形底座的轴线延伸；每个探测器通过周向定位部件与第一环部连接定位，周向定位部件能够限制对应的探测器沿环形底座的周向移动，每个探测器通过连接部件与第二环部连接固定。本发明的探测装置中包括的探测器能够自定位至环形底座，不需要外部工具辅助定位，从而能够使得探测器与环形底座组装过程操作简单快捷，省时省力。
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公开(公告)号：CN107807138A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：CN201711014616.4
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/00
CPC classification number: G01N23/00
Abstract: 本发明涉及一种探测装置及扫描成像设备。探测装置包括：支座，具有相对设置的支承面以及弧形基面；支撑部件，设置于弧形基面，支撑部件与支座可拆卸连接，支撑部件具有朝向支座的配合面以及背向支座的定位面，配合面与弧形基面彼此形状匹配；探测器组件，设置于定位面，支撑部件设置于支座与探测器组件之间，探测器组件与支撑部件可拆卸连接，探测器组件包括多个探测器；多个探测器围绕弧形基面的轴线均匀分布。本发明实施例探测装置，包括分体结构的支座和支撑部件，能够在保证定位面满足加工精度要求的前提下，能够降低支座和支撑部件的加工制造难度，节约加工成本。
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公开(公告)号：CN107796838B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN201711014580.X
申请日：2017-10-25
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/207
Abstract: 本发明涉及一种后准直器以及扫描成像设备。后准直器包括：遮光壳体，包括相对且间隔设置的第一端板和第二端板，第一端板上设置有第一透光孔，第二端板上设置有第二透光孔；导光组件，设置于遮光壳体内且与遮光壳体可拆卸连接，导光组件包括导光通孔；其中，第一透光孔、导光通孔以及第二透光孔在由第一端板至第二端板的方向上相互对齐设置，以使外部射线能够依次穿过第一透光孔、导光通孔以及第二透光孔。本发明实施例的后准直器为分体结构，遮光壳体和导光组件能够被单独地加工制造再进行组装，从而降低后准直器的整体加工难度和加工成本，并能够保证后准直器的精度。
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