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公开(公告)号:CN1234160C
公开(公告)日:2005-12-28
申请号:CN03106005.6
申请日:2003-02-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/304 , B24B57/00
CPC classification number: F04B49/20 , F04B2205/09
Abstract: 一种具有气泡消除装置的监测系统,该监测系统包括输送装置、气泡消除装置、流量计装置及中央控制装置。利用中央控制装置控制气泡消除装置的操作,以排除来自输送装置中研浆的气泡,使监测系统的研浆流速趋于稳定。并进一步利用具有稳定流速的研浆,有效维持研浆中研磨剂的混合比例,而大幅降低混合比例的变动量。
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公开(公告)号:CN1487576A
公开(公告)日:2004-04-07
申请号:CN03106005.6
申请日:2003-02-14
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/304 , B24B57/00
CPC classification number: F04B49/20 , F04B2205/09
Abstract: 一种具有气泡消除装置的监测系统,该监测系统包括输送装置、气泡消除装置、流量计装置及中央控制装置。利用中央控制装置控制气泡消除装置的操作,以排除来自输送装置中研浆的气泡,使监测系统的研浆流速趋于稳定。并进一步利用具有稳定流速的研浆,有效维持研浆中研磨剂的混合比例,而大幅降低混合比例的变动量。
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公开(公告)号:CN1485888A
公开(公告)日:2004-03-31
申请号:CN02144250.9
申请日:2002-09-29
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/304 , B24B1/00 , B24B7/22
Abstract: 一种利用复合控制模式的研浆流量控制方法及系统,该研浆流量控制系统包括流体计测装置、复合控制器、中央控制装置及输送装置。操作时,利用所述中央控制装置实时比较所述流体计测装置的研浆流量测量值与流量设定值之间的差值,以选用所述复合控制器的闭回路控制法或开回路控制法,使所述输送装置准确地控制研浆的流量输出。
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公开(公告)号:CN1305115C
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN02144250.9
申请日:2002-09-29
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/304 , B24B1/00 , B24B7/22
Abstract: 一种利用复合控制模式的研浆流量控制方法及系统,该研浆流量控制系统包括流体计测装置、复合控制器、中央控制装置及输送装置。操作时,利用所述中央控制装置实时比较所述流体计测装置的研浆流量测量值与流量设定值之间的差值,以选用所述复合控制器的闭回路控制法或开回路控制法,使所述输送装置准确地控制研浆的流量输出。
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