公开(公告)号：CN104051477A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201310362353.1

申请日：2013-08-19

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 戴志和 ,  江柏融 ,  苏柏菖 ,  陈启峰 ,  林荣义

IPC: H01L27/146

Abstract: 本发明提供一种用于在图像传感器的像素中围绕光电二极管的区域阻挡光的系统和方法。在实施例中，第一光学阻挡层形成在第一粘合层上并且第二粘合层形成在第一光学阻挡层上。重复一次或更多次第一光学阻挡层和第二粘合层的形成以形成多个光学阻挡层和多个粘合层。这样，如果在进一步处理期间，光学阻挡层中的空隙开口，则另一光学阻挡层阻挡可能穿过空隙的任何光。本发明还公开了图像传感器件及方法。

公开(公告)号：CN104051477B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201310362353.1

申请日：2013-08-19

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 戴志和 ,  江柏融 ,  苏柏菖 ,  陈启峰 ,  林荣义

IPC: H01L27/146

Abstract: 本发明提供一种用于在图像传感器的像素中围绕光电二极管的区域阻挡光的系统和方法。在实施例中，第一光学阻挡层形成在第一粘合层上并且第二粘合层形成在第一光学阻挡层上。重复一次或更多次第一光学阻挡层和第二粘合层的形成以形成多个光学阻挡层和多个粘合层。这样，如果在进一步处理期间，光学阻挡层中的空隙开口，则另一光学阻挡层阻挡可能穿过空隙的任何光。本发明还公开了图像传感器件及方法。