发光二极管芯片结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN108447955B

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201810216614.1

    申请日:2018-03-16

    Abstract: 本发明提供一种发光二极管芯片结构及其制作方法,结构包括衬底、外延结构、台面结构、第一电流阻挡层、电流扩展层、第二电流阻挡层、第一P电极、分布布拉格反射层、第二P电极以及N电极。第一电流阻挡层形成于外延结构的部分表面,电流扩展层包裹第一电流阻挡层,第二电流阻挡层形成于电流扩展层表面且具有图案化的粗糙表面,分布布拉格反射层包裹第一P电极、第二电流阻挡层表面及外延结构侧壁。本发明通过具有图案化的粗糙结构的电流阻挡层,能大大增加电流扩展层与分布布拉格反射层的界面表面积,使分布布拉格反射层入射光散射增强,从而提升芯片亮度。同时,可增强该电流阻挡层与分布布拉格反射层的黏附性,提高结构的可靠性。

    倒装LED芯片的制作方法

    公开(公告)号:CN105789402B

    公开(公告)日:2019-02-19

    申请号:CN201610325068.6

    申请日:2016-05-17

    Abstract: 本发明公开了倒装LED芯片的制作方法,LED芯片包括:基板;发光外延层,位于基板之上;ITO层,位于发光外延层之上;通过对ITO进行蚀刻处理后,实现对ITO表面粗化和氟化的改善处理,在ITO层上沉积金属反射层;短时间的蚀刻起到增强金属反射层在ITO表面的附着性的效果,同时,由于ITO表面的氟化处理,有效提升由外延层表面膜层、透明导电膜层、金属反射层组成的全方位反射镜(ODR)结构的反射率,实现LED光萃取效率的提升。

    发光二极管芯片结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN108447955A

    公开(公告)日:2018-08-24

    申请号:CN201810216614.1

    申请日:2018-03-16

    Abstract: 本发明提供一种发光二极管芯片结构及其制作方法,结构包括衬底、外延结构、台面结构、第一电流阻挡层、电流扩展层、第二电流阻挡层、第一P电极、分布布拉格反射层、第二P电极以及N电极。第一电流阻挡层形成于外延结构的部分表面,电流扩展层包裹第一电流阻挡层,第二电流阻挡层形成于电流扩展层表面且具有图案化的粗糙表面,分布布拉格反射层包裹第一P电极、第二电流阻挡层表面及外延结构侧壁。本发明通过具有图案化的粗糙结构的电流阻挡层,能大大增加电流扩展层与分布布拉格反射层的界面表面积,使分布布拉格反射层入射光散射增强,从而提升芯片亮度。同时,可增强该电流阻挡层与分布布拉格反射层的黏附性,提高结构的可靠性。

    一种发光二极管芯片结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN110088922A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201880004805.X

    申请日:2018-04-08

    Abstract: 本发明提供一种发光二极管芯片结构及其制作方法,结构包括:衬底;发光外延结构,位于所述衬底上,包括依次层叠的第一导电型半导体层、量子阱层以及第二导电型半导体层;电流扩展层,形成于所述外延结构的部分表面;绝缘层,包裹所述电流扩展层的侧壁,所述绝缘层具有一系列图案化通孔结构;金属层,形成于所述绝缘层表面,所述一部分金属层通过部分通孔结构与所述透明导电层接触,另一部分金属层通过部分通孔结构与所述发光外延结构接触。

    一种半导体芯片的切割方法

    公开(公告)号:CN105234560B

    公开(公告)日:2017-10-27

    申请号:CN201510635391.9

    申请日:2015-09-30

    Abstract: 本发明提供一种半导体芯片的切割方法,包括以下工艺步骤:提供一半导体晶圆片及一提供激光的激光器;在所述半导体晶圆片上定义出切割道,并形成掩膜层;所述激光穿过与切割道位置上下对应的掩膜层,用于切割半导体晶圆片,形成半导体芯片;所述用于切割半导体晶圆片的激光为多单元方形激光束,所述掩膜层分为M个区域,每个区域包括N个单元,且每个区域对应一次待方形激光切割。将传统的半导体芯片线性激光切割改为方形激光切割,并且在半导体芯片与方形激光间增设具有若干个区域的掩膜层,每个区域对应一次待方形激光切割,即一次性达成多个芯片单元的切割工艺,增加单位时间产能。

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