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公开(公告)号：CN109605186B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201811470707.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 本发明涉及一种球体抛光机，包含：机台、球体抛光装置；所述球体抛光装置用以在驱动球体全方位转动的同时对球体进行抛光；其特征在于，所述球体抛光机还包含：干涉件、第一驱动机构；所述第一驱动机构用以在球体全方位转动时，驱动干涉件按预设的频率接触和远离球体的表面。本发明采用了电机带动渐开线凸轮对全方位旋转运动的球体进行间隔拨动，增加了球体运动的复杂性，使得球体加工表面纹路更加无规律性，减少中频误差，提高表面精度。
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公开(公告)号：CN109590892B
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201811474109.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 一种研抛装置，该装置由轴承、套筒、导流盘、半球基体、抛光垫和导流通道自锁组件等组成。套筒和导流盘之间安装有轴承，并由此实现套筒和导流盘之间的相对旋转。套筒下半部分开设有一个通孔，以便抛光液流入装置内部。导流盘开设有周向均匀分布的通孔和一个圆柱空腔。半球基体开设有一个半球空腔与周向均匀分布的流体通道。导流盘与半球基体通过螺纹连接。半球基体的导流通道出口端安装有自锁组件。抛光垫安装在半球基体表面，抛光垫表面设计并制备有织构。本发明实现了抛光液直接内部供给至抛光区，克服了大下压量下气囊工具出现的内凹现象，增强了抛光垫耐磨性能，适用于进动方式下的高效研抛加工。
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公开(公告)号：CN109590892A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811474109.3
申请日：2018-12-04
Abstract: 一种研抛装置，该装置由轴承、套筒、导流盘、半球基体、抛光垫和导流通道自锁组件等组成。套筒和导流盘之间安装有轴承，并由此实现套筒和导流盘之间的相对旋转。套筒下半部分开设有一个通孔，以便抛光液流入装置内部。导流盘开设有周向均匀分布的通孔和一个圆柱空腔。半球基体开设有一个半球空腔与周向均匀分布的流体通道。导流盘与半球基体通过螺纹连接。半球基体的导流通道出口端安装有自锁组件。抛光垫安装在半球基体表面，抛光垫表面设计并制备有织构。本发明实现了抛光液直接内部供给至抛光区，克服了大下压量下气囊工具出现的内凹现象，增强了抛光垫耐磨性能，适用于进动方式下的高效研抛加工。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109623565A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811474782.7
申请日：2018-12-04
CPC classification number: B24B19/00 , B24B29/02 , B24B41/007 , B24B41/04 , B24B51/00
Abstract: 本发明涉及一种磨抛装置，包含一具有磨头的磨抛机构。所述磨抛装置还包含一压力调整机构，用以驱动磨抛机构前后活动，以调节磨头的抛磨力度；所述压力调整机构包含：一安装座；一柔性铰链组件，其上安装有所述磨抛机构；所述柔性铰链组件配置于安装座上，且能够受力前后形变；一压电促进器，配置于安装座上，且连接柔性铰链组件，以调整柔性铰链组件前后形变量。将磨抛机构连接一压电促进器和一柔性铰链组件，通过柔性铰链组件和压电促进器的配合，能够在连续加工过程中进行恒力控制或者变力控制，从而提高加工效率和加工效果，并进一步达到了解决因力度过小造成需要多次磨抛而力度过大时造成工件或刀具的损坏的目的。
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公开(公告)号：CN109605186A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201811470707.3
申请日：2018-12-04
CPC classification number: B24B27/0076 , B24B11/10 , B24B37/025 , B24B37/34 , B24B41/00 , B24B47/00 , B24B57/02
Abstract: 本发明涉及一种球体抛光机，包含：机台、球体抛光装置；所述球体抛光装置用以在驱动球体全方位转动的同时对球体进行抛光；其特征在于，所述球体抛光机还包含：干涉件、第一驱动机构；所述第一驱动机构用以在球体全方位转动时，驱动干涉件按预设的频率接触和远离球体的表面。本发明采用了电机带动渐开线凸轮对全方位旋转运动的球体进行间隔拨动，增加了球体运动的复杂性，使得球体加工表面纹路更加无规律性，减少中频误差，提高表面精度。
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公开(公告)号：CN109551356A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201811531256.X
申请日：2018-12-14
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种球体的新型精密研抛装置，涉及球体的研磨与抛光。设有立柱、齿轮、电机、机架、球铰链杆、轴承、转盘、驱动盘、橡胶圈、杯型砂轮、被抛光球体、弹簧、固定圆盘、调节螺母、球铰链和螺杆；上机架设在立柱上，第1电机带动第1齿轮转动，第1齿轮带动固定在转盘上的第2齿轮转动；转盘与下机架之间安装有轴承；转盘上固定有第2电机，第2电机上安装有驱动盘；驱动盘的最外圈粘接有橡胶圈；上杯型砂轮通过球铰链杆和上机架固定连接，下杯型砂轮下端连接有螺杆，螺杆穿过弹簧和固定圆盘，在螺杆尾部安装调节螺母，上杯型砂轮上连接球铰链，球铰链通过固定杆穿过转盘中间孔并固定安装在上机架上。
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公开(公告)号：CN109551356B
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201811531256.X
申请日：2018-12-14
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种球体的新型精密研抛装置，涉及球体的研磨与抛光。设有立柱、齿轮、电机、机架、球铰链杆、轴承、转盘、驱动盘、橡胶圈、杯型砂轮、被抛光球体、弹簧、固定圆盘、调节螺母、球铰链和螺杆；上机架设在立柱上，第1电机带动第1齿轮转动，第1齿轮带动固定在转盘上的第2齿轮转动；转盘与下机架之间安装有轴承；转盘上固定有第2电机，第2电机上安装有驱动盘；驱动盘的最外圈粘接有橡胶圈；上杯型砂轮通过球铰链杆和上机架固定连接，下杯型砂轮下端连接有螺杆，螺杆穿过弹簧和固定圆盘，在螺杆尾部安装调节螺母，上杯型砂轮上连接球铰链，球铰链通过固定杆穿过转盘中间孔并固定安装在上机架上。
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公开(公告)号：CN109531403A
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201811531247.0
申请日：2018-12-14
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B37/025 , B24B37/27 , B24B37/34 , B24B47/12
Abstract: 球体的精密研抛装置，涉及球体的加工。设有第1电机、机架、驱动头、第2电机、旋转盘、被抛光球、抛光盘、固定套、底部支撑盘、抛光垫、定位球铰链和调整装置；第1电机安装在机架上端，电机轴连接旋转盘，旋转盘上装有第2电机，电机轴装有驱动头；驱动头与被加工球体接触点和被加工球体球心的连线垂直于第2电机的电机轴；机架下端安装有底部支撑盘，底部支撑盘上设有定位球铰链及调整装置；调整装置设有定位球铰链、锁紧螺母和固定套，被抛光球位于3个定位球铰链支承的抛光垫上，抛光垫粘接在定位球铰链的外盘上，抛光垫设在抛光盘顶部，抛光盘与固定套之间由调整装置连接。
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