公开(公告)号：CN101821678B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200880110591.0

申请日：2008-09-29

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 奥雷利安·多多克 ,  萨沙·布莱迪斯特尔 ,  奥拉夫·康拉迪 ,  阿里夫·卡齐

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70308

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括产生投射光的主照明系统(12)、投射物镜(20；120)和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统(30；130)，其在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和校正元件(32；132)，其包括加热材料并布置在与该基准表面(48；148)至少大体上光学共轭的平面(38；174)中，以使校正光和投射光在它们打到校正元件(32；132)之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜。校正光和投射光两者经过的所有透镜(34；L1至L5)都由透镜材料制成，透镜材料相比包含在校正元件内的加热材料对校正光具有更低的吸收系数。

公开(公告)号：CN101784954B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN200880104142.5

申请日：2008-05-06

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 马库斯·豪夫 ,  乌尔里克·舍恩霍夫 ,  帕亚姆·泰耶巴蒂 ,  迈克尔·蒂尔 ,  蒂尔曼·海尔 ,  奥利·弗吕格 ,  阿里夫·卡齐 ,  亚历山大·索尔霍弗 ,  格哈德·福赫特 ,  约琴·韦伯 ,  托拉尔夫·格鲁纳 ,  阿克赛尔·戈纳迈耶 ,  德克·赫尔韦格

IPC: G02F7/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B7/008 ,  G02B7/1815 ,  G02B26/06 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891

Abstract: 本发明涉及具有热致动器的光学校正装置(208、600)，该热致动器影响光学校正装置(208、600)中的热分布。光学校正装置(208、600)由至少两个传输热的能力不同的局部元件(201、202、604)构建。此外，本发明涉及影响光学元件(208)中的温度分布的方法。

公开(公告)号：CN101517489B

公开(公告)日：2012-08-29

申请号：CN200780035069.6

申请日：2007-09-21

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 埃里克·埃娃 ,  帕亚姆·塔伊巴蒂 ,  迈克尔·蒂尔 ,  马库斯·豪夫 ,  乌尔里希·舍恩霍夫 ,  奥勒·弗吕格 ,  阿里夫·卡齐 ,  亚历山大·绍尔赫费尔 ,  格哈德·福赫特 ,  约亨·韦伯 ,  托拉夫·格鲁纳

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/02

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G02B7/028 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70266

Abstract: 本发明涉及一种光学元件(1)，用于对光束所照射的光学系统的波前像差进行至少部分的、局部化修正，所述光学元件包括：对光束为光学活性的区域、以及位于光学活性区内的导体轨道(3)，其中，所述导体轨道至少在与光束的入射方向横截的方向具有至多50微米的直径。