公开(公告)号：CN101821678B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200880110591.0

申请日：2008-09-29

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 奥雷利安·多多克 ,  萨沙·布莱迪斯特尔 ,  奥拉夫·康拉迪 ,  阿里夫·卡齐

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70891 ,  G03F7/70308

Abstract: 一种微光刻投射曝光设备(10)，包括产生投射光的主照明系统(12)、投射物镜(20；120)和校正光学系统。校正光学系统包括副照明系统(30；130)，其在基准表面(48；148)中产生校正光的强度分布；和校正元件(32；132)，其包括加热材料并布置在与该基准表面(48；148)至少大体上光学共轭的平面(38；174)中，以使校正光和投射光在它们打到校正元件(32；132)之前经过包含在投射物镜(20；120)中的至少一个透镜。校正光和投射光两者经过的所有透镜(34；L1至L5)都由透镜材料制成，透镜材料相比包含在校正元件内的加热材料对校正光具有更低的吸收系数。

公开(公告)号：CN101297243B

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN200680028253.3

申请日：2006-05-23

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 海科·费尔德曼 ,  丹尼尔·克雷默 ,  让-克洛德·佩林 ,  朱利安·卡勒 ,  奥雷利安·多多克 ,  弗拉基米尔·卡梅诺夫 ,  奥拉夫·康拉迪 ,  托拉夫·格鲁纳 ,  托马斯·奥孔 ,  亚历山大·埃普勒

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70225 ,  G02B17/08 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70941

Abstract: 对于一种用于将布置在物平面的图案成像到像平面的微光刻投影物镜，相对于抑制这种投影物镜中的虚光进行了描述。

公开(公告)号：CN101802717B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN200880108261.8

申请日：2008-09-18

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： 丹尼尔·克里默 ,  奥雷利安·多多克 ,  汉斯-于尔根·曼 ,  托拉尔夫·格鲁纳

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/00 ,  G02B17/06

CPC classification number: G02B5/003 ,  G02B5/005 ,  G02B17/0657 ,  G02B27/0018 ,  G03F7/70233

Abstract: 用于微光刻的具有遮挡光瞳的投射物镜(10)包括：第一光学表面(S4)，其具有提供用于施加有用光的第一区域；和至少一个第二光学表面(S5)，其具有提供用于施加有用光的第二区域，有用光的束包络(SH)在第一区域和第二区域之间延展。在第一光学表面(S4)和第二光学表面(S5)之间布置至少一个管，该管在光传播方向的输入侧和输出侧开口并用于屏蔽散射光，所述管的壁在有用光的波长范围是不透明的，并且所述管在有用光的传播方向中至少在束包络(SH)的部分长度上展延并沿周边围绕束包络(SH)。