一种氮化镓基场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN110690284A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201911133631.X

    申请日:2019-11-19

    Abstract: 本发明实施例公开了一种氮化镓基场效应晶体管及其制备方法,其中氮化镓基场效应晶体管结构包括:衬底、缓冲层、背势垒层、沟道层、势垒层、p型栅层和钝化层;与p型栅层接触的栅极,以及与势垒层接触的源极和漏极,其中,栅极位于第一区域,源极和漏极位于第二区域,p型栅层在第二区域的膜层中的p型掺杂剂未激活。显著改善了栅极刻蚀工艺,解决传统工艺中p型材料必须完全去除的问题,使得刻蚀的容错率更低,适合于大批量生产,这种技术方法增加了栅极刻蚀的工艺窗口宽度,不受刻蚀工艺精度限制,使得栅极刻蚀可控性高,重复性好。

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