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发明公开
一种p-GaN欧姆接触电极及其制备方法和电子元件审中-实审

公开(公告)号：CN116364768A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202111568259.2

申请日：2021-12-21

Applicant: 南方科技大学

Inventor： 唐楚滢 , 陈玺光 , 于洪宇 , 汪青 , 卢宏浩 , 杜方舟 , 高荣宇

IPC: H01L29/45 , H01L21/04

Abstract: 本申请提供一种p‑GaN欧姆接触电极及其制备方法和电子元件，该p‑GaN欧姆接触电极包括p‑GaN材料层和电极；电极包括设置在p‑GaN材料层表面的强亲氧性金属层和设置在强亲氧性金属层上的高功函数金属层。利用强亲氧性金属的强亲氧性，在后期退火工艺过程中，还原P‑GaN表面上生成的GaO，达到原位去除表面GaO的作用，降低金属/p‑GaN间的肖特基势垒高度。同时电极金属中选择功函数高、致密性好的金属作为第二金属层，第二金属层一方面做为阻挡层，阻止强亲氧性金属的向外扩散，另一方面退火过程中第二金属层的元素扩散到p‑GaN材料层，与p‑GaN材料层直接接触，易于与p‑GaN形成欧姆接触。

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