一种微纳结构加工方法及系统

    公开(公告)号:CN113552718B

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202110845915.2

    申请日:2021-07-26

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种微纳结构加工方法及系统。该方法包括:根据微纳结构的形状确定焦平面内的焦斑轨迹;对焦斑轨迹进行离散处理;对每一离散点进行如下处理:确定焦平面坐标系中离散点的方位角以及离散点与焦平面坐标原点的距离;根据离散点的方位角确定输入光场偏振变化的方向矢量与输入光场坐标系x轴的夹角,根据离散点与焦平面坐标原点的距离计算输入光场偏振变化的周期;根据输入光场偏振变化的周期和所述夹角确定相位型全息光栅的透射函数;在空间光调制器上加载遵循透射函数的相位型全息光栅来对离散点进行加工。本发明基于光场波前偏振的动态调控实现焦斑的动态变化,从而实现对特定焦斑轨迹的控制,进而实现了相应微纳结构的加工。

    一种微纳结构加工方法及系统

    公开(公告)号:CN113552718A

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202110845915.2

    申请日:2021-07-26

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种微纳结构加工方法及系统。该方法包括:根据微纳结构的形状确定焦平面内的焦斑轨迹;对焦斑轨迹进行离散处理;对每一离散点进行如下处理:确定焦平面坐标系中离散点的方位角以及离散点与焦平面坐标原点的距离;根据离散点的方位角确定输入光场偏振变化的方向矢量与输入光场坐标系x轴的夹角,根据离散点与焦平面坐标原点的距离计算输入光场偏振变化的周期;根据输入光场偏振变化的周期和所述夹角确定相位型全息光栅的透射函数;在空间光调制器上加载遵循透射函数的相位型全息光栅来对离散点进行加工。本发明基于光场波前偏振的动态调控实现焦斑的动态变化,从而实现对特定焦斑轨迹的控制,进而实现了相应微纳结构的加工。

    一种基于动态调控的焦场轨迹制作微结构的装置

    公开(公告)号:CN105259666B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201510860470.X

    申请日:2015-11-30

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 一种基于动态调控的焦场轨迹制作微结构的装置。包括飞秒激光器、动态飞秒矢量光场阵列产生及调控系统和紧聚焦微加工系统。工作原理是:在空间光调制器上加载全息光栅来生成矢量光场阵列,经显微物镜聚焦,获得具有特定光强分布的紧聚焦焦场。通过设计动态变化的全息光栅来获得动态变化的矢量光场阵列,其经紧聚焦后可产生随时间变化的、呈现特定形状(如四边形、八边形、风扇叶形等)的焦场轨迹。基于生成的焦场轨迹即可获得与焦场轨迹对应的微结构。本发明相比于其他制作微纳结构的方法具有无需样品或光源移动的独特优点,制作的微结构接近波长量级,可加工任意设计的二维/三维微结构,在制作微结构时具有高效、可重复性高、稳定性好等优点。

    一种基于动态调控的焦场轨迹制作微结构的装置

    公开(公告)号:CN105259666A

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201510860470.X

    申请日:2015-11-30

    Applicant: 南开大学

    CPC classification number: G02B27/4233 G02B27/283

    Abstract: 一种基于动态调控的焦场轨迹制作微结构的装置。包括飞秒激光器、动态飞秒矢量光场阵列产生及调控系统和紧聚焦微加工系统。工作原理是:在空间光调制器上加载全息光栅来生成矢量光场阵列,经显微物镜聚焦,获得具有特定光强分布的紧聚焦焦场。通过设计动态变化的全息光栅来获得动态变化的矢量光场阵列,其经紧聚焦后可产生随时间变化的、呈现特定形状(如四边形、八边形、风扇叶形等)的焦场轨迹。基于生成的焦场轨迹即可获得与焦场轨迹对应的微结构。本发明相比于其他制作微纳结构的方法具有无需样品或光源移动的独特优点,制作的微结构接近波长量级,可加工任意设计的二维/三维微结构,在制作微结构时具有高效、可重复性高、稳定性好等优点。

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