基于散斑相关散射矩阵的边缘探测装置及边缘探测方法

    公开(公告)号:CN118967701A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411011488.8

    申请日:2024-07-26

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明属于光学测量技术领域,公开了一种基于散斑相关散射矩阵的边缘探测装置及边缘探测方法,边缘探测装置包括:激光器发射第一光束;空间光调制器,信号光调制区接收第一光束输出信号光束;参考光调制区接收第一光束输出参考光束;散射介质输出散射的信号光束和参考光束至图像传感器;数据处理模块,空间光调制器加载不同相位编码光场得到散射的信号光束和参考光束的干涉光场的强度并计算得到传输矩阵;空间光调制器加载待测图像,图像传感器采集散斑强度,对图像传感器采集的数据处理得到散斑相关散射矩阵,再计算得到边缘信息值。本发明不需要引入额外的干涉光路去测量待测量图像散斑的相位,避免额外干涉光路引入的不稳定性、节约时间成本。

    利用纵向光场传递信息的方法、装置、系统及电子设备

    公开(公告)号:CN116667929A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310647945.1

    申请日:2023-06-02

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开一种利用纵向光场传递信息的方法、装置、系统及电子设备,涉及光场纵向场定制技术领域,所述方法包括:确定待传信息的自身高斯点阵信息和隐藏横向场点阵信息;根据高斯点阵信息确定待传信息的初始纵向光场分布;根据初始纵向光场分布和隐藏横向场点阵信息,确定待传信息的横向光场分布;基于初始纵向光场分布和横向光场分布,确定待传信息的目标纵向光场分布;利用逆傅里叶变换,基于目标纵向光场分布,确定待传信息的入射光场;将入射光场作为待传信息的密文进行传递。对于任意待传信息,均可以通过自身高斯点阵信息和隐藏横向场点阵信息反推,得到入射光场,从而实现了利用纵向光场对信息进行传递。

    一种微纳结构加工方法及系统

    公开(公告)号:CN113552718B

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202110845915.2

    申请日:2021-07-26

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种微纳结构加工方法及系统。该方法包括:根据微纳结构的形状确定焦平面内的焦斑轨迹;对焦斑轨迹进行离散处理;对每一离散点进行如下处理:确定焦平面坐标系中离散点的方位角以及离散点与焦平面坐标原点的距离;根据离散点的方位角确定输入光场偏振变化的方向矢量与输入光场坐标系x轴的夹角,根据离散点与焦平面坐标原点的距离计算输入光场偏振变化的周期;根据输入光场偏振变化的周期和所述夹角确定相位型全息光栅的透射函数;在空间光调制器上加载遵循透射函数的相位型全息光栅来对离散点进行加工。本发明基于光场波前偏振的动态调控实现焦斑的动态变化,从而实现对特定焦斑轨迹的控制,进而实现了相应微纳结构的加工。

    一种微纳结构加工方法及系统

    公开(公告)号:CN113552718A

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202110845915.2

    申请日:2021-07-26

    Applicant: 南开大学

    Abstract: 本发明公开了一种微纳结构加工方法及系统。该方法包括:根据微纳结构的形状确定焦平面内的焦斑轨迹;对焦斑轨迹进行离散处理;对每一离散点进行如下处理:确定焦平面坐标系中离散点的方位角以及离散点与焦平面坐标原点的距离;根据离散点的方位角确定输入光场偏振变化的方向矢量与输入光场坐标系x轴的夹角,根据离散点与焦平面坐标原点的距离计算输入光场偏振变化的周期;根据输入光场偏振变化的周期和所述夹角确定相位型全息光栅的透射函数;在空间光调制器上加载遵循透射函数的相位型全息光栅来对离散点进行加工。本发明基于光场波前偏振的动态调控实现焦斑的动态变化,从而实现对特定焦斑轨迹的控制,进而实现了相应微纳结构的加工。

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