-
公开(公告)号：CN109634055A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201910025630.7
申请日：2019-01-11
Applicant: 南京大学
CPC classification number: G03F7/0002 , C23C14/20 , C25D1/10
Abstract: 本发明属于微纳米加工，特别是纳米压印技术领域，提供一种低表面能镍纳米压印模板的制备方法。首先对纳米结构的硅模板进行防粘处理；然后滴加紫外光固化胶，填充硅模板孔隙形成平坦薄膜后盖上柔性材料，接着紫外曝光使其固化；脱模后在得到的紫外固化胶模板上利用物理气相沉积的方法沉积一层金属钛，作为电镀的种子层；之后放入电镀液中电镀得到镍镀层；脱模后得到表面附着了钛的镍模板；采用全氟烷基氯硅烷防粘处理之后得到一种新型低表面能的镍模板。本发明方法用金属钛取代传统的金属镍作为电镀的种子层，从而制备得到一种新型镍模板，其表面能更低，更容易脱模，而且硬度更高，机械性能更佳，纳米压印时不容易损坏，使用寿命更长。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112174087A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011059712.2
申请日：2020-09-30
Applicant: 南京大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明涉及一种仿猪笼草结构的超疏水高疏油表面的制备方法。该方法通过共混聚合物相分离的技术构建多孔纳米结构基底，利用全氟烷基氯硅烷进行表面修饰后，真空条件下填充低表面能、无毒害的润滑油，制备得到超疏水高疏油的新型功能表面。本发明采用的共混聚合物相分离技术结合干法刻蚀法，依托相分离技术可以简单方便地调控孔径大小、孔分布密度等参数，因此可以制备出占空比大、密集分布的纳米孔，从而实现了润滑液在孔中的高填充率，克服了传统疏水结构处于亚稳态，机械稳定性差的关键缺陷，具有良好的持久性、耐磨损性以及自我修复性能。
-
公开(公告)号：CN118604931A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410370407.7
申请日：2024-03-29
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明公开了一种高折射率高深宽比倾斜光栅制备方法，包括基底、有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层，所述有机掺杂高折胶层包括主体组分和掺杂组分，所述主体组分为烷氧基十二烷基丙稀酸脂、2‑苯氧基乙基丙烯酸酯混合物中的任一种及其组合，掺杂组分为含有硫元素的材料，包括如下步骤：S1：在基底表面依次旋涂两层胶体，由下往上分别为有机掺杂高折胶以及UV固化压印胶，形成有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层；S2：在UV固化压印胶层上制作直角光栅，同时形成残余层；S3：通过刻蚀工艺对UV固化压印胶层的残余层进行处理；S4：倾斜基底，以UV固化压印胶层上的直角光栅为掩膜对有机掺杂高折胶层进行刻蚀，获得高折射率高深宽比倾斜光栅。
-
公开(公告)号：CN109795979B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201811631703.9
申请日：2018-12-28
Applicant: 南京大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体涉及一种具有内嵌金属环的纳米孔阵列结构的制备方法。该制备方法包括在基底表面依次旋涂高分子层和紫外固化胶层，通过紫外压印、刻蚀、蒸镀、举离得到具有纳米孔阵列结构金属层的衬底，然后对基底进行刻蚀得到具有纳米孔阵列结构的基底，在基底表面、孔底及孔侧壁上镀上金属，刻蚀基底表面及孔底部平面上的金属层，得到内嵌金属环的纳米孔阵列结构。该制备方法通过控制模板结构、刻蚀和镀膜工艺参数对金属环的结构、尺寸、分布进行调整，从而调控金属纳米环阵列产生的局域表面等离激元效应，与具有纳米孔阵列结构的衬底带来的陷光效应协同作用，在光电器件、光催化等领域能够进一步提高光的转化效率。
-
公开(公告)号：CN109795979A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201811631703.9
申请日：2018-12-28
Applicant: 南京大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体涉及一种具有内嵌金属环的纳米孔阵列结构的制备方法。该制备方法包括在基底表面依次旋涂高分子层和紫外固化胶层，通过紫外压印、刻蚀、蒸镀、举离得到具有纳米孔阵列结构金属层的衬底，然后对基底进行刻蚀得到具有纳米孔阵列结构的基底，在基底表面、孔底及孔侧壁上镀上金属，刻蚀基底表面及孔底部平面上的金属层，得到内嵌金属环的纳米孔阵列结构。该制备方法通过控制模板结构、刻蚀和镀膜工艺参数对金属环的结构、尺寸、分布进行调整，从而调控金属纳米环阵列产生的局域表面等离激元效应，与具有纳米孔阵列结构的衬底带来的陷光效应协同作用，在光电器件、光催化等领域能够进一步提高光的转化效率。
-
公开(公告)号：CN109795975A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201811631648.3
申请日：2018-12-28
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明属于微纳加工技术领域，具体涉及一种金属微/纳米线阵列及其制备方法。该金属微/纳米线阵列包括支撑层金属薄片和竖立在所述金属薄片上的金属微/纳米线。该金属微/纳米线阵列具有大的深宽比，且该金属微/纳米线的直径、高度和金属薄片的厚度可以精确控制；金属微/纳米线直接竖立在金属薄片上，相互之间无交叉和重叠，提高了比表面积和重复利用率；该金属微/纳米线阵列可以应用于制备大深宽比、柔性的纳米器件。该制备方法以具有较好刚性和刻蚀稳定性的材料为衬底，可以保证刻蚀过程中不易出现坍塌等问题，得到高深宽比的微/纳米线阵列；此外，本方法可以通过控制刻蚀时间，精确控制微/纳米线的高度。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.023 seconds)
