公开(公告)号：CN109082641A

公开(公告)日：2018-12-25

申请号：CN201810986292.9

申请日：2018-08-28

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  杨宇 ,  王耀辉 ,  程奕天 ,  焦东玲 ,  刘仲武 ,  钟喜春

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明属于金属涂层制备技术领域，公开了一种三层膜结构涂层及其制备方法。所述三层膜结构涂层由双相Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层、单相α-(Al,Cr)2O3支撑层和单相纳米α-Al2O3表层构成。以CrAl合金靶，通过直流磁控溅射依次沉积Cr+α-(Al,Cr)2O3基体粘结层和α-(Al,Cr)2O3支撑层；以Al+α-Al2O3复合靶，通过射频磁控溅射得到单相纳米α-Al2O3表层。本发明所得涂层的表面工作层为单相纳米α-Al2O3结构，硬度高，韧性好，高温热稳定性高，与金属基体摩擦时摩擦系数小，与高速钢，热作模具钢和高温合金等基体结合牢固。

公开(公告)号：CN109023226A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201810817668.3

申请日：2018-07-24

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  王耀辉 ,  熊成 ,  焦东玲 ,  刘仲武 ,  钟喜春 ,  张辉

IPC: C23C8/70

Abstract: 本发明属于渗硼技术领域，公开了一种柔性硼势固体渗硼剂及制备单相Fe2B渗硼层的方法。所述渗硼剂由供硼剂B4C、活化剂KBF4、添加剂Ni粉和填充剂构成。将供硼剂B4C、活化剂KBF4、添加剂Ni粉和填充剂经机械搅拌混合均匀，得到渗硼剂；将钢铁基体表面经预处理后埋入渗硼剂中，密封，然后升温至880～950℃进行渗硼处理，冷却后取出钢铁基体，在钢铁基体表面得到单相Fe2B渗硼层。本发明显著扩大制备出单相Fe2B渗硼层B4C用量范围，渗硼剂重复利用率高，并能回收生产KF副产品。所得单相Fe2B渗硼层表层孔隙疏松显著降低，厚度比传统渗硼剂提高20～50％。

公开(公告)号：CN109972079B

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN201910259675.0

申请日：2019-04-02

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  王耀辉 ,  焦东玲 ,  钟喜春 ,  刘仲武

IPC: C23C8/70

Abstract: 本发明属于表面强化耐磨渗层技术领域，公开了一种渗硼剂及电场辅助低温制备单相Fe2B渗层的方法。所述渗硼剂由供硼剂B4C、活化剂KBF4和填充剂α‑Al2O3组成，并可添加Ni粉。采用本发明的渗硼剂通过电场辅助低温制备单相Fe2B渗层的方法，渗硼温度在650～850℃仍可得到较厚的单相Fe2B渗硼层，厚度比直接渗硼大8～10倍，而且为致密单相Fe2B渗层。电场辅助对渗硼罐内的温度升高很小，只比炉内温度高10～50℃。因渗硼温度显著降低，表层的孔洞和疏松基本消失。渗硼层的韧性得到显著提高。

公开(公告)号：CN109023226B

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201810817668.3

申请日：2018-07-24

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  王耀辉 ,  熊成 ,  焦东玲 ,  刘仲武 ,  钟喜春 ,  张辉

IPC: C23C8/70

Abstract: 本发明属于渗硼技术领域，公开了一种柔性硼势固体渗硼剂及制备单相Fe2B渗硼层的方法。所述渗硼剂由供硼剂B4C、活化剂KBF4、添加剂Ni粉和填充剂构成。将供硼剂B4C、活化剂KBF4、添加剂Ni粉和填充剂经机械搅拌混合均匀，得到渗硼剂；将钢铁基体表面经预处理后埋入渗硼剂中，密封，然后升温至880～950℃进行渗硼处理，冷却后取出钢铁基体，在钢铁基体表面得到单相Fe2B渗硼层。本发明显著扩大制备出单相Fe2B渗硼层B4C用量范围，渗硼剂重复利用率高，并能回收生产KF副产品。所得单相Fe2B渗硼层表层孔隙疏松显著降低，厚度比传统渗硼剂提高20～50％。

公开(公告)号：CN109082641B

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201810986292.9

申请日：2018-08-28

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  杨宇 ,  王耀辉 ,  程奕天 ,  焦东玲 ,  刘仲武 ,  钟喜春

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08

Abstract: 本发明属于金属涂层制备技术领域，公开了一种三层膜结构涂层及其制备方法。所述三层膜结构涂层由双相Cr+α‑(Al,Cr)2O3基体粘结层、单相α‑(Al,Cr)2O3支撑层和单相纳米α‑Al2O3表层构成。以CrAl合金靶，通过直流磁控溅射依次沉积Cr+α‑(Al,Cr)2O3基体粘结层和α‑(Al,Cr)2O3支撑层；以Al+α‑Al2O3复合靶，通过射频磁控溅射得到单相纳米α‑Al2O3表层。本发明所得涂层的表面工作层为单相纳米α‑Al2O3结构，硬度高，韧性好，高温热稳定性高，与金属基体摩擦时摩擦系数小，与高速钢，热作模具钢和高温合金等基体结合牢固。

公开(公告)号：CN109972079A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201910259675.0

申请日：2019-04-02

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 邱万奇 ,  王耀辉 ,  焦东玲 ,  钟喜春 ,  刘仲武

IPC: C23C8/70

Abstract: 本发明属于表面强化耐磨渗层技术领域，公开了一种渗硼剂及电场辅助低温制备单相Fe2B渗层的方法。所述渗硼剂由供硼剂B4C、活化剂KBF4和填充剂α‑Al2O3组成，并可添加Ni粉。采用本发明的渗硼剂通过电场辅助低温制备单相Fe2B渗层的方法，渗硼温度在650～850℃仍可得到较厚的单相Fe2B渗硼层，厚度比直接渗硼大8～10倍，而且为致密单相Fe2B渗层。电场辅助对渗硼罐内的温度升高很小，只比炉内温度高10～50℃。因渗硼温度显著降低，表层的孔洞和疏松基本消失。渗硼层的韧性得到显著提高。