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公开(公告)号：CN114217454B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210159217.1
申请日：2022-02-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于衍射光学元件的空间频谱调制器件的设计与实现方法，属于光学器件领域。方法包括：在衍射光学元件的基底器件上加工一块抑光区域，得到空间滤波器；确定衍射光学元件的相位分布，并转换为各衍射单元的结构参数；根据各衍射单元的结构参数对所述空间滤波器进行加工，得到空间频谱调制器件。本发明使用了加工工艺成熟的衍射光学元件作为主要的光场调制器件；并且在加工衍射光学元件之前，通过镀膜工艺在其基底器件中心加工一块具有特定设计参数的不透光或渐变透光等分布特点的区域，使得本发明所提的空间频谱调制器件在具有对频域光场进行复调制能力的同时，兼顾了可定制化和零功耗的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114736480B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202210326785.6
申请日：2022-03-30
IPC: C08L33/24 , C08K9/04 , C08K3/04 , C08K3/08 , B29C64/112 , B29C64/268 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00
Abstract: 本发明提供了一种光响应纳米复合材料、制备方法以及微纳4D打印方法，属于4D打印技术领域，其为有机前驱体、引发剂、交联剂、光敏剂、吸光材料溶剂混合获得的分散液，各组分的质量比依次为：(0.8～1.25):(0.022～0.066):(0.9～2):(0.6～1.2):1，吸光材料溶剂是纳米级别的吸光材料均匀分散在溶剂中形成的，其在吸光材料溶剂中的质量比为0.1％～5％。本发明提供了光响应纳米复合材料的制备方法和采用上述光响应纳米复合材料进行微纳4D打印的方法。本发明材料有效提升了光刺激下微纳智能结构的响应速度和执行速度，并提升了微纳智能结构形变结构的设计自由度，能实现高效率微纳4D打印。
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公开(公告)号：CN118561530A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410699513.X
申请日：2024-05-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本申请属于微纳加工技术领域，更具体地，涉及一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用。本申请通过将高聚物材料和溶剂混合后旋涂于衬底表面制备高聚物薄膜，然后对高聚物薄膜进行刻蚀以露出部分衬底表面，并以刻蚀区域为起始加工位置，将三维立体结构的原料加工成形为目标三维立体结构，接着对上述目标三维立体结构进行刚度强化处理、浸泡上述溶剂、热解煅烧，得到各向同性收缩的三维微纳结构。本申请提供的三维微纳结构的各向同性收缩方法，能够有效解决3D微纳结构在制备过程中由于热解收缩所造成的形貌畸变、稳定性差等问题，同时实现了3D微纳结构的简易化、稳定化的原位制备。
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公开(公告)号：CN118561530B
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202410699513.X
申请日：2024-05-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本申请属于微纳加工技术领域，更具体地，涉及一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用。本申请通过将高聚物材料和溶剂混合后旋涂于衬底表面制备高聚物薄膜，然后对高聚物薄膜进行刻蚀以露出部分衬底表面，并以刻蚀区域为起始加工位置，将三维立体结构的原料加工成形为目标三维立体结构，接着对上述目标三维立体结构进行刚度强化处理、浸泡上述溶剂、热解煅烧，得到各向同性收缩的三维微纳结构。本申请提供的三维微纳结构的各向同性收缩方法，能够有效解决3D微纳结构在制备过程中由于热解收缩所造成的形貌畸变、稳定性差等问题，同时实现了3D微纳结构的简易化、稳定化的原位制备。
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公开(公告)号：CN114736480A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210326785.6
申请日：2022-03-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C08L33/24 , C08K9/04 , C08K3/04 , C08K3/08 , B29C64/112 , B29C64/268 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y50/00
Abstract: 本发明提供了一种光响应纳米复合材料、制备方法以及微纳4D打印方法，属于4D打印技术领域，其为有机前驱体、引发剂、交联剂、光敏剂、吸光材料溶剂混合获得的分散液，各组分的质量比依次为：(0.8～1.25):(0.022～0.066):(0.9～2):(0.6～1.2):1，吸光材料溶剂是纳米级别的吸光材料均匀分散在溶剂中形成的，其在吸光材料溶剂中的质量比为0.1％～5％。本发明提供了光响应纳米复合材料的制备方法和采用上述光响应纳米复合材料进行微纳4D打印的方法。本发明材料有效提升了光刺激下微纳智能结构的响应速度和执行速度，并提升了微纳智能结构形变结构的设计自由度，能实现高效率微纳4D打印。
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公开(公告)号：CN114217454A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202210159217.1
申请日：2022-02-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种基于衍射光学元件的空间频谱调制器件的设计与实现方法，属于光学器件领域。方法包括：在衍射光学元件的基底器件上加工一块抑光区域，得到空间滤波器；确定衍射光学元件的相位分布，并转换为各衍射单元的结构参数；根据各衍射单元的结构参数对所述空间滤波器进行加工，得到空间频谱调制器件。本发明使用了加工工艺成熟的衍射光学元件作为主要的光场调制器件；并且在加工衍射光学元件之前，通过镀膜工艺在其基底器件中心加工一块具有特定设计参数的不透光或渐变透光等分布特点的区域，使得本发明所提的空间频谱调制器件在具有对频域光场进行复调制能力的同时，兼顾了可定制化和零功耗的优点。
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