一种基于激光直写的金属微纳3D打印方法

    公开(公告)号:CN115106537B

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202210693822.7

    申请日:2022-06-19

    Abstract: 本发明提供了一种基于激光直写的金属微纳3D打印方法,属于激光加工技术领域,包括:S1配置光固化前驱体,该光固化前驱体包括材料单体、交联剂、光敏剂和引发剂,材料单体、交联剂、光敏剂和引发剂的质量比为1:(0.1~0.9):(0.05~0.8):(0.01~0.1),材料单体为能与金属离子形成配位键的有机化合物,S2利用激光直写方式在光固化前驱体中成形预定义的微纳三维结构,并将其浸入金属离子溶液中吸附金属离子,S3将吸附金属离子的预定义的微纳三维结构进行化学还原,S4对化学还原后的预定义的微纳三维结构退火。本发明方法能提高金属微纳3D打印制造的速度,产品致密度和精度,可以实现多种金属材料的打印。

    一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法

    公开(公告)号:CN117687129B

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202311847795.5

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法,属于微纳光学领域,本发明根据调控方式设计超像素超表面器件;计算光场调控量的空间分布并将其编码为结构光场分布;利用结构光场编码投影模块生成对应结构光束作用于超像素超表面器件,从而实现目标光场调制;能够实现高精度、高速度的像素化复杂光场调控;本发明提供的超像素超表面器件,借助于晶胞单元的小结构尺寸和优异的光场调控能力,能够实现高精度光场调控;借助于超晶胞的器件设计概念,结合结构光场编码投影模块可以实现像素化的任意光场调控。通过同时照射多个子结构以及对子结构进行复用设计,可增强器件的调制能力如实现复振幅调控等,具有较大的优化和功能挖掘潜力。

    一种大视场开普勒色散补偿方法及补偿模块

    公开(公告)号:CN116859587A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310784246.1

    申请日:2023-06-28

    Abstract: 本发明提供一种大视场开普勒色散补偿方法及补偿模块,包括:将开普勒色散补偿模块划分为前组和后组;确定开普勒色散补偿模块的色散补偿需求;根据前组透过复色光的波长范围和前组光焦度确定前组的轴向色差需求,以结合前组轴向色差需求设计第一、第二组合透镜的参数及第一、第二组合透镜的间距,使得第一和第二组合透镜光焦度的绝对值相对较低;根据后组透过复色光的波长范围和后组光焦度确定后组的轴向色差需求,以结合后组轴向色差需求设计第三、第四组合透镜的参数及第三、第四组合透镜的间距,使得第三和第四组合透镜光焦度的绝对值相对较低。本发明能够保证开普勒色散补偿模块在大视场下仍能正确补偿角色散且不引入过量的单色像差。

    一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法

    公开(公告)号:CN117687129A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202311847795.5

    申请日:2023-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种光寻址像素化空间光调制器与空间光场调制方法,属于微纳光学领域,本发明根据调控方式设计超像素超表面器件;计算光场调控量的空间分布并将其编码为结构光场分布;利用结构光场编码投影模块生成对应结构光束作用于超像素超表面器件,从而实现目标光场调制;能够实现高精度、高速度的像素化复杂光场调控;本发明提供的超像素超表面器件,借助于晶胞单元的小结构尺寸和优异的光场调控能力,能够实现高精度光场调控;借助于超晶胞的器件设计概念,结合结构光场编码投影模块可以实现像素化的任意光场调控。通过同时照射多个子结构以及对子结构进行复用设计,可增强器件的调制能力如实现复振幅调控等,具有较大的优化和功能挖掘潜力。

    基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜及其制备方法、膜电极和电解池

    公开(公告)号:CN120006348A

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202510263437.2

    申请日:2025-03-06

    Abstract: 本发明涉及电解池技术领域,具体来说是基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜及其制备方法、膜电极和电解池。本发明通过采用激光器发射激光,对电解池用质子交换膜表面进行图案化加工处理,得到基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜。采用本发明方法获得的基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜解决了商用电解池用质子交换膜与催化剂层二维接触问题,减小内部电阻,增加三相反应区,克服表面光滑致密的电解池用质子交换膜与催化剂层之间近似二维平面接触存在的技术缺陷。同时采用本发明基于激光表面图案化改性的电解池用质子交换膜先制得膜电极,然后采用膜电极制得电解池,对电解池进行应用。

    一种基于时间轴补偿的数控机床空间误差建模方法

    公开(公告)号:CN115421444B

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202211159538.8

    申请日:2022-09-22

    Abstract: 本发明公开一种基于时间轴补偿的数控机床空间误差建模方法,步骤如下:(1)使测量机床三个进给轴的移动误差、转角误差以及垂直度误差;(2)根据测量得到的误差数据,建立误差项拟合函数;(3)选择机床类型数学模型,根据机床进给速度及加工时间,基于Simulink仿真平台建立机床空间误差仿真模型,获得机床空间误差三项误差计算表达式;(4)根据机床加工G代码,导入机床进给速度与行程,即可得到基于时间轴变化的机床三项空间误差变化曲线;在机床进行加工时,就可以该变化曲线进行相关误差量的连续补偿。该方法实现了对机床几何误差的动态补偿,弥补了现有误差建模方法补偿效果不连续的缺点,进一步提高了机床的加工精度。

    一种基于激光直写的高自由度液晶分子组装方法

    公开(公告)号:CN118605088B

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202410596049.1

    申请日:2024-05-14

    Abstract: 本发明提出了一种基于激光直写的高自由度液晶分子组装方法,包括以下步骤:S1,将液晶前驱体溶液滴于衬底上,聚焦飞秒激光,聚焦光斑半径≤600nm,采用飞秒激光直写技术构建分离的二维或三维扫描路径使液晶分子按照扫描路径有序组装,聚合结构的长径比≥5:1,直写结构线间距大于聚焦光斑半径;S2,组装完成后,显影去除衬底上未固化的前驱体,对于三维的聚合结构还需将衬底放于CO2超临界干燥仪干燥,得到高自由度的液晶分子组装。本发明利用飞秒激光路径编程,实现定制化高自由度的2D、3D液晶分子组装;利用双光子聚合超越衍射极限的分辨率实现高精度的组装;本发明在取向液晶的同时固化液晶,因此只需要一步即可实现液晶分子的组装,实现了工艺的简便性。本发明与现有的液晶分子组装方法相比,具有亚微米尺度的高精度与高自由度(任意三维取向)的组装优势,组装的工艺简便,适用的材料广泛;并且无需另外搭建其他复杂的场取向装置或是对基底的特殊处理。

    一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用

    公开(公告)号:CN118561530A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202410699513.X

    申请日:2024-05-31

    Abstract: 本申请属于微纳加工技术领域,更具体地,涉及一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用。本申请通过将高聚物材料和溶剂混合后旋涂于衬底表面制备高聚物薄膜,然后对高聚物薄膜进行刻蚀以露出部分衬底表面,并以刻蚀区域为起始加工位置,将三维立体结构的原料加工成形为目标三维立体结构,接着对上述目标三维立体结构进行刚度强化处理、浸泡上述溶剂、热解煅烧,得到各向同性收缩的三维微纳结构。本申请提供的三维微纳结构的各向同性收缩方法,能够有效解决3D微纳结构在制备过程中由于热解收缩所造成的形貌畸变、稳定性差等问题,同时实现了3D微纳结构的简易化、稳定化的原位制备。

    一种激光复合切割分离透明脆性材料的方法及装置

    公开(公告)号:CN110303257B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN201910693520.8

    申请日:2019-07-30

    Abstract: 本发明属于激光加工应用技术领域,公开了一种激光复合切割分离透明脆性材料的方法及装置,该方法是采用超短脉冲激光和连续激光两者同时作为贝塞尔激光光源,将两者同光轴合束得到贝塞尔合成激光束对透明脆性材料进行激光扫描,同时基于该贝塞尔合成激光束中超短脉冲激光部分对透明脆性材料的烧蚀改性机理、以及连续激光部分的热应力切割分离机理,实现激光复合切割分离透明脆性材料。本发明通过对切割方法的切割原理、加工工艺流程的整体设计,以及对应装置的各构成组件及它们的连接关系等进行改进,可一次高速完成切割分离透明脆性材料,无需后续施加分离力或温差进行分离工序,能够简化工艺流程,提高激光切割分离透明脆性材料的加工效率。

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