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公开(公告)号:CN118078834A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202410224910.1
申请日:2024-02-29
Applicant: 华中科技大学同济医学院附属协和医院
IPC: A61K31/519 , A61K9/00 , A61K47/34 , A61K47/42 , A61P31/00 , A61P29/00 , A61P35/00 , A61P1/16 , A61P13/12 , A61P1/14
Abstract: 本发明属于生物技术领域,具体公开芦可替尼静脉制剂及其制备方法和应用。一方面涉及M@NP‑R及其制备方法,还涉及M@NP‑R在制备治疗细胞因子风暴、治疗噬血细胞综合征的静脉制剂中的应用,进一步还涉及M@NP‑R在制备治疗噬血细胞综合征合并多脏器功能损伤综合征的静脉制剂中的应用。本发明的M@NP‑R通过静脉注射的方式给药,可以有效的治疗噬血细胞综合征,并且对噬血细胞综合征的部分并发症也同样具有明显的治疗效果,尤其是针对重症噬血细胞综合征的治疗,避免了患者无法口服药物的问题,并且通过静脉注射可以产生更为有益的效果,特别是对于快速进展的噬血细胞综合征的治疗可以极大的提升存活时间。
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公开(公告)号:CN113786490A
公开(公告)日:2021-12-14
申请号:CN202111076318.4
申请日:2021-09-14
Applicant: 华中科技大学同济医学院附属协和医院
IPC: A61K45/06 , A61K31/706 , A61K31/4406 , A61K31/7105 , A61K31/711 , A61K31/713 , A61K48/00 , A61P7/00
Abstract: 本发明涉及能调控巨噬细胞表观遗传的制剂用于制备治疗噬血细胞综合征药物的应用,属于生物技术领域。本发明能调控巨噬细胞表观遗传的制剂用于制备治疗噬血细胞综合征药物的应用,能调控巨噬细胞表观遗传的制剂为DNA甲基转移酶抑制剂、组蛋白乙酰化酶抑制剂或下调DNA甲基转移酶表达的基因药物。能降低炎症因子的表达水平,并且提高血细胞计数、缓解肝脾肿大以及减少脾脏细胞中活化巨噬细胞的比值和数目。噬血细胞综合征为原发性噬血细胞综合征或继发性噬血细胞综合征。
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公开(公告)号:CN105791645B
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201610147937.0
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种电调平面与三维光场双模成像探测芯片。包括电控液晶微光学结构和面阵光敏探测器;在电控液晶微光学结构上加载的信号电压的均方幅值高于某一阈值时,电控液晶微光学结构等效为面阵电控液晶微透镜,双模成像探测芯片呈现三维光场成像模式,在电控液晶微光学结构上加载的信号电压的均方幅值低于所述阈值或不加载信号电压时,电控液晶微光学结构等效为对入射光波具有延迟作用的液晶相移板,双模成像探测芯片被调变或切换为具有高空间分辨率的常规平面成像模式。本发明具有成像模式切换灵活,调光响应快,以及目标的高空间分辨率平面图像与其局域三维形态/姿态特征兼容获取的特点。
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公开(公告)号:CN105866982B
公开(公告)日:2018-07-13
申请号:CN201610353247.0
申请日:2016-05-25
Applicant: 华中科技大学 , 上海航天控制技术研究所
IPC: G02F1/01
Abstract: 本发明公开了一种基于金属纳尖阵电极的电调透射光薄膜,其包括:由纳米尺度间隔的纳尖高密度排布构成的一层纳米厚度的金属纳尖阵阴极和一层纳米厚度的平面阳极,该阳极由透光的纳米厚度的金属氧化物导电膜制成,阴阳电极间填充有由纳米厚度的透明光学介质材料制成的电隔离膜;在加电态下,金属纳尖阵阴极上可自由移动的电子被电极间所激励的电场驱控,向纳尖顶聚集,纳尖底部及相邻尖端间的平坦区域上的自由电子分布密度因部分甚至绝大多数自由电子被抽走而减少甚至急剧降低,对应于有自由电子密集分布的各尖顶的光透过率将减弱。本发明可对光透过率执行电控调变,具有适用于较宽谱域及较强光束、偏振不敏感、驱控灵活以及调光响应快的特点。
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公开(公告)号:CN105810704B
公开(公告)日:2018-06-12
申请号:CN201610145799.2
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L27/146 , G01J5/20
Abstract: 本发明公开了一种广谱成像探测芯片。包括热辐射结构和光敏阵列。广谱入射光波进入热辐射结构后,在纳尖表面激励产生等离激元,驱动图形化金属膜中的自由电子向纳尖产生振荡性集聚,纳尖收集的自由电子与等离激元驱控下涌入的自由电子相叠合,产生压缩性脉动,使电子急剧升温并向周围空域发射主要成分为可见光的热电磁辐射,光敏阵列将热电磁辐射转换为电信号,经预处理后得到电子图像数据并输出。本发明能将广谱入射光波基于压缩在纳空间中的高温电子运动实现二次可见光辐射进而执行光电转换与成图操作,具有波谱适用范围宽、光电灵敏度高、光电响应快以及成本相对低廉的特点。
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公开(公告)号:CN105826341A
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201610145847.8
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L27/146
CPC classification number: H01L27/14603
Abstract: 本发明公开了一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片。包括面阵电控液晶成像微透镜和面阵光敏探测器,其中,单元电控液晶成像微透镜用于对目标通过物镜形成的压缩光场执行进一步的汇聚式压缩,通过调变加载在所述面阵电控液晶成像微透镜上的信号电压的均方幅值,调变所述单元电控液晶成像微透镜的光汇聚能力,进而调变由物镜和所述单元电控液晶成像微透镜共同确定的目标对焦平面,从而在深度方向上改变能清晰成像的目标图层,执行成像视场在深度方向上的可寻址层析检录。该芯片易与其它功能性光学、光电及电子学结构耦合,易于插入常规成像光路中替换传统光敏成像芯片执行寻址层析视场式的成像探测。
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公开(公告)号:CN101428328A
公开(公告)日:2009-05-13
申请号:CN200810236705.8
申请日:2008-12-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: B22C3/00
Abstract: 本发明公开了一种粉末状消失模铸造铸铁专用涂料,该粉末涂料的组成为180目至200目的耐火材料为60~70%,悬浮剂2.0~3.0%,粘结剂1.5~2.5%,有机硅消泡剂0.3~0.6%,防腐剂0.01~0.03%,余量为180目至200目的云母粉。制备时将各种粉末状物质按所需比例称取,依次放入粉末搅拌机中低速搅拌20~40分钟,然后出料包装。本涂料使用时按粉水比为1∶1.1~1.4的比例称取适量的水放入搅拌容器。开启搅拌容器后,分批量加入称取好的粉末涂料。本涂料制备成浆料后使用,具有悬浮性好、强度高、涂层均匀、触变性好、流平性好、表面光洁、无泡、无裂纹等优点。用户可以浸涂、挂涂、刷涂,涂料粘度变化视用户需要而定,不同的粘度可以得到不同的涂层厚度。
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公开(公告)号:CN116785099A
公开(公告)日:2023-09-22
申请号:CN202310411058.4
申请日:2023-04-17
Applicant: 华中科技大学同济医学院附属协和医院
Abstract: 本发明涉及体温监测护理技术领域,且公开了一种医用体温监测护理装置,包括放置箱,放置箱背面上方的左右两侧均设置有合页,合页的一侧固定连接有透明罩,透明罩的左右两侧均开设有若干数量的透气孔,透明罩的上表面中部固定连接有把手。该医用体温监测护理装置,通过放置箱左右两侧连接的转轴,转轴在套管的内部可以进行转动,放置箱通过两侧的转轴可以在两个连接板之间进行转动运动,弧形槽的形状为弧形,贯穿于连接板的内部下方,可以对螺纹杆进行限位,螺纹杆在弧形槽的内部可以及逆行弧形滑动,固定杆的顶部垂直连接于放置箱的下表面,与螺纹杆相连接,固定转钮可以将螺纹杆的位置固定住,从而可以达到提高装置在使用时的灵活性的作用。
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公开(公告)号:CN115539936A
公开(公告)日:2022-12-30
申请号:CN202211255557.0
申请日:2022-10-13
Applicant: 西安热工研究院有限公司 , 华中科技大学 , 华能(浙江)能源开发有限公司玉环分公司
Abstract: 本发明提出一种燃煤机组再循环烟气的动态调控方法,其中,方法包括:获取燃煤机组燃烧过程中脱硝设备前当前烟气NOx浓度值以及火焰燃烧图像;在当前烟气NOx浓度值超过预设浓度阈值和/或火焰燃烧偏离稳定状态时,获取燃煤机组的当前工作状态信息;将当前工作状态信息输入至预先训练的BP神经网络,得到目标再循环烟气的注入位置和注入量;根据目标再循环烟气的注入位置和注入量调整引风机的输出功率以及再循环烟气管路的电动阀门的开度值。该方法可以实现最优烟气循环布置方案,动态调控再循环烟气注入位置和注入量,以改善烟气循环效果,使燃煤机组安全稳定运行。
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公开(公告)号:CN105826341B
公开(公告)日:2018-11-30
申请号:CN201610145847.8
申请日:2016-03-15
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L27/146
Abstract: 本发明公开了一种可寻址层析视场的液晶基成像探测芯片。包括面阵电控液晶成像微透镜和面阵光敏探测器,其中,单元电控液晶成像微透镜用于对目标通过物镜形成的压缩光场执行进一步的汇聚式压缩,通过调变加载在所述面阵电控液晶成像微透镜上的信号电压的均方幅值,调变所述单元电控液晶成像微透镜的光汇聚能力,进而调变由物镜和所述单元电控液晶成像微透镜共同确定的目标对焦平面,从而在深度方向上改变能清晰成像的目标图层,执行成像视场在深度方向上的可寻址层析检录。该芯片易与其它功能性光学、光电及电子学结构耦合,易于插入常规成像光路中替换传统光敏成像芯片执行寻址层析视场式的成像探测。
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