公开(公告)号：CN1103676A

公开(公告)日：1995-06-14

申请号：CN93120621.9

申请日：1993-12-07

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 叶锐曾 ,  于文秀 ,  陈仁治 ,  马跃发 ,  龚杰 ,  吴显云 ,  孙金贵 ,  孙庆标 ,  宋铂 ,  杨莲隐 ,  曹士伟 ,  崔绍成 ,  吕反修 ,  许庆芳 ,  袁建军

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明提供了一种MCrAlX涂层新工艺，其特征在于采用磁控溅射MCrAlX梯度涂层。即用双靶MCrAlX/Al磁控溅射沉积法将MCrAlX及Al同时沉积在高温合金上，沉积时靶功率逐渐变化，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层，沉积后进行热处理，以增强涂/基结合力。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。

公开(公告)号：CN1033921C

公开(公告)日：1997-01-29

申请号：CN93104872.9

申请日：1993-04-29

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 吕反修 ,  程德刚 ,  叶锐曾 ,  孙庆标 ,  于文秀 ,  杨让

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/30 ,  C23C14/35 ,  H01S3/034 ,  G02B3/00

Abstract: 本发明提供了一种带有防潮阻反膜的氯化钾窗口和透镜材料及其制备方法，第一层为氟化钠膜，厚度为1.7～2.25μm，第二层为磁控溅射类金刚石碳膜，厚度为500～1000A，其中氟化钢膜用电子束蒸镀工艺进行沉积，背底真空度为1～2×10-3Pa，功率为50～120W，选用高纯NaF晶体作蒸发材料，所用蒸发舟材料为金属Mo，基片温度70～150℃。本发明的优点在于在10.6μm反射率小，吸收率低，抗连续CO2激光损伤阈值高，而且具有抗潮解的能力。

公开(公告)号：CN1034350C

公开(公告)日：1997-03-26

申请号：CN93120621.9

申请日：1993-12-07

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 叶锐曾 ,  于文秀 ,  陈仁治 ,  马跃发 ,  龚杰 ,  吴显云 ,  孙金贵 ,  孙庆标 ,  宋铂 ,  杨莲隐 ,  曹士伟 ,  崔绍成 ,  吕反修 ,  许庆芳 ,  袁建军

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明提供了一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法，其特征在于采用双靶(分别为NiCoCrAlSiHfY靶和Al靶)磁控溅射沉积法将NiCoCrAlSiHfY及Al同时沉积在高温合金上，沉积时NiCoCrAlSiHfY靶功率逐渐降低，而Al靶功率逐渐增加，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层。沉积后进行热处理，以增加涂/基结合强度。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。

公开(公告)号：CN1094758A

公开(公告)日：1994-11-09

申请号：CN93104872.9

申请日：1993-04-29

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 吕反修 ,  程德刚 ,  叶锐曾 ,  孙庆标 ,  于文秀 ,  杨让

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/30 ,  C23C14/35 ,  H01S3/034 ,  G02B3/00

Abstract: 本发明提供了一种氯化钾防潮阻反膜，其特征在于，第一层为氟化钠，厚度为1.7～2.25μm，第二层为磁控溅射类金刚石膜，厚度为500～1000，本发明的优点在于在10.6μm反射率小，吸收率低，抗连续CO2激光损伤阈值高，而且具有抗潮解的能力，因此适合于用作千瓦级以上乃至万瓦工业和军事高功率CO2激光KCl窗口和透镜的防潮阻反膜系，也适合于一般中、小功率红外光学器件及其它光学材料。