公开(公告)号：CN1034350C

公开(公告)日：1997-03-26

申请号：CN93120621.9

申请日：1993-12-07

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 叶锐曾 ,  于文秀 ,  陈仁治 ,  马跃发 ,  龚杰 ,  吴显云 ,  孙金贵 ,  孙庆标 ,  宋铂 ,  杨莲隐 ,  曹士伟 ,  崔绍成 ,  吕反修 ,  许庆芳 ,  袁建军

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明提供了一种镍钴铬铝硅铪钇类梯度涂层的制备方法，其特征在于采用双靶(分别为NiCoCrAlSiHfY靶和Al靶)磁控溅射沉积法将NiCoCrAlSiHfY及Al同时沉积在高温合金上，沉积时NiCoCrAlSiHfY靶功率逐渐降低，而Al靶功率逐渐增加，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层。沉积后进行热处理，以增加涂/基结合强度。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。

公开(公告)号：CN1103676A

公开(公告)日：1995-06-14

申请号：CN93120621.9

申请日：1993-12-07

Applicant: 北京科技大学

Inventor： 叶锐曾 ,  于文秀 ,  陈仁治 ,  马跃发 ,  龚杰 ,  吴显云 ,  孙金贵 ,  孙庆标 ,  宋铂 ,  杨莲隐 ,  曹士伟 ,  崔绍成 ,  吕反修 ,  许庆芳 ,  袁建军

IPC: C23C14/14 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明提供了一种MCrAlX涂层新工艺，其特征在于采用磁控溅射MCrAlX梯度涂层。即用双靶MCrAlX/Al磁控溅射沉积法将MCrAlX及Al同时沉积在高温合金上，沉积时靶功率逐渐变化，样品不断旋转，从而得到Al浓度逐渐变化的厚度均匀的MCrAlX包覆梯度涂层，沉积后进行热处理，以增强涂/基结合力。本发明的优点在于涂层晶粒细小，静态氧化抗力高，抗热腐蚀性能好。