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发明公开
一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法无效

公开(公告)号：CN110095950A

公开(公告)日：2019-08-06

申请号：CN201910378992.4

申请日：2019-05-08

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 路翠翠 , 张红钰 , 肖致远 , 刘舟慧 , 王晨阳 , 钟锦锐

IPC: G03F7/20 , B82Y40/00

Abstract: 本发明涉及一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，属于微纳加工领域。本发明公开了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，主要利用聚焦离子束刻蚀系统(FIB)完成对不同弯曲程度纳米梁的制备，涉及微纳加工领域。本发明通过FIB刻蚀样品、氢氟酸缓冲液腐蚀样品两个步骤制备出纳米梁，通过控制聚焦离子束的束流大小和扫描时间制备出不同弯曲程度的纳米梁。本发明提供了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，制备方法简单易行、制备精度高，为腔光力学的研究提供了新型纳米平台，为光力纳米器件的研究奠定了基础。

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