一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法

    公开(公告)号:CN110095950A

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201910378992.4

    申请日:2019-05-08

    Abstract: 本发明涉及一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,属于微纳加工领域。本发明公开了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,主要利用聚焦离子束刻蚀系统(FIB)完成对不同弯曲程度纳米梁的制备,涉及微纳加工领域。本发明通过FIB刻蚀样品、氢氟酸缓冲液腐蚀样品两个步骤制备出纳米梁,通过控制聚焦离子束的束流大小和扫描时间制备出不同弯曲程度的纳米梁。本发明提供了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,制备方法简单易行、制备精度高,为腔光力学的研究提供了新型纳米平台,为光力纳米器件的研究奠定了基础。

    一种制备复合纳米结构的方法

    公开(公告)号:CN109694035A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201910136118.X

    申请日:2019-02-25

    Abstract: 本发明涉及一种制备复合纳米结构的方法,特别涉及一种基于纳米机械手精准制备复合纳米结构的方法,属于纳米光子学领域中的微纳加工技术领域。本发明首次提出将纳米机械手用于制备芯片上的复合纳米结构,通过在聚焦离子束/电子束双束系统中引入纳米机械手,能自由、任意地操控特征尺寸为5nm到100nm、形状不限的纳米颗粒,能够将纳米颗粒精准移动至目标纳米结构中,完成芯片上的复合纳米结构的制备。本发明解决了现有的微纳操控技术在所操控纳米颗粒尺寸上的断层问题和形状受限问题,为复合纳米器件的精准制备提供了先进的方法。

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