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公开(公告)号：CN112859543A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110141736.0
申请日：2021-02-02
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法。本发明通过分组复合及迭代设计方法进行初始结构的设计，从而快速高效的得到折反射式光刻物镜系统初始结构。物镜系统包括三个子系统：第一镜组G1，第二镜组G2和第三镜组G3。物镜系统设计方法包括如下步骤：根据设计需求设计G1和G3初始结构；设置G1的像面为G2的物面，G2的像面为G3的物面；设置G2，包括相对设置的2片反射镜，通过矩阵光学计算G2的球面初始结构，并对G2的球面初始结构进行分组复合及迭代拟合设计，完成G2镜组初始结构设计。通过后续优化设计，完成高性能折反式光刻物镜系统设计，提高了折反式深紫外光刻物镜系统整体设计效率。
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公开(公告)号：CN101609266A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910089426.8
申请日：2009-07-20
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种光刻机投影物镜波像差的现场测量装置。该装置基于Shack－Hartmann测量原理，包括主机和标准镜两大组成部分。主机部分包括光电传感器、衍射光学元件、准直物镜、带有圆孔的针孔掩模板，以及用于控制光路传输的分束器。标准镜部分包括当标定主机的系统误差时用于折返光路的第一标准镜和当主机测量投影物镜波像差时用于折返光路的第二标准镜。主机和第一标准镜集成在光刻机掩模台上，第二标准镜集成在硅片台上，测量时将掩模台和硅片台移动到测量位置，进行光刻机投影物镜全视场波像差的测量和校正。本发明具有较高的绝对测量精度，适合光刻机投影物镜波像差的现场测量，降低了装置的成本、体积和重量，便于集成。
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公开(公告)号：CN100535767C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200710178469.4
申请日：2007-11-30
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种调焦调平测量方法与装置，涉及应用于投影光刻系统中晶片的调焦调平传感系统的新方法，属于光学测量领域。本发明包括三大部分：光源准直模块、调焦子系统和调平子系统。本发明的激光器发出激光经过单模光纤准直，再经过漂移补偿装置后，透过偏振分光器和λ/4波片入射到被测硅片上，经过平面反射镜和直角反射棱镜使光线多次经过被测硅片，再利用透镜组在位置探测器前进行放大，得到硅片表面离焦信息。利用平面分光器将光线沿路返回，透过透镜入射到位置敏感探测器上，从而得到硅片表面的二维倾斜信息。本系统具有高分辨率、光路结构简单，不需要复杂的光学设计。
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公开(公告)号：CN101201549A
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200710178468.X
申请日：2007-11-30
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于微透镜阵列调焦调平的方法与装置，属于光电检测技术领域。本发明包括发射部分和接收部分。其中发射部分包括光源、聚焦透镜、针孔滤波器、扩束透镜、优化入瞳器件、微透镜阵列，转向反射镜；接收部分包括转向反射镜、微透镜阵列、聚焦透镜、微光机电系统(OMEMS)扫描反射镜、针孔滤波器和探测器。本发明采用优化入瞳器件控制通光量来改善测量光斑，或者通过开关状态控制成像点的数量来适应不同曝光视场；采用微透镜阵列替代狭缝阵列；采用微光机电系统(OMEMS)扫描反射镜替代单镜扫描；采用差分接收方法，降低对光源稳定性的要求，获得更高的测量精度。
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公开(公告)号：CN112859543B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202110141736.0
申请日：2021-02-02
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法。本发明通过分组复合及迭代设计方法进行初始结构的设计，从而快速高效的得到折反射式光刻物镜系统初始结构。物镜系统包括三个子系统：第一镜组G1，第二镜组G2和第三镜组G3。物镜系统设计方法包括如下步骤：根据设计需求设计G1和G3初始结构；设置G1的像面为G2的物面，G2的像面为G3的物面；设置G2，包括相对设置的2片反射镜，通过矩阵光学计算G2的球面初始结构，并对G2的球面初始结构进行分组复合及迭代拟合设计，完成G2镜组初始结构设计。通过后续优化设计，完成高性能折反式光刻物镜系统设计，提高了折反式深紫外光刻物镜系统整体设计效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102508353A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110352225.X
申请日：2011-11-09
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明涉及一种高分辨率福布斯非球面光刻物镜，属于高分辨力投影光刻物镜技术领域；具体包括前透镜组、后透镜组，数值孔径为0.75，共使用29片透镜，其中有6个表面使用了福布斯非球面；透镜材料使用熔石英和氟化钙，其中氟化钙的作用为校正色差；前后透镜组通过透镜外框上的机械组件按一定间距固定连接在一起，两个透镜组同光轴。本发明提高了现有投影光刻物镜的分辨力，确保每个非球面与非球面系数的有效性，使得系统设计在减少非球面个数与有效数字个数的同时提高了像质，并大幅降低了公差灵敏度；以中心光线为参考时单色均方根波像差小于0.5nm，畸变小于0.5nm；可以应用于照明光源波长为193nm的深紫外投影光刻装置中。
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公开(公告)号：CN101655670B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910093833.6
申请日：2009-09-22
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种可标定系统误差的光刻机投影物镜波像差在线检测装置，属于光学检测领域。本装置包括开有圆孔的物方掩模板、移相装置、光电传感器、存储器、控制器、运算器、分束装置和像方掩模板。所述分束装置包括两个二元衍射光栅：第一光栅和第二光栅；像方掩模板包括一个窗口和两个直径相同第一圆孔和第二圆孔。分束装置的第二光栅和像方掩模板的第二圆孔作为系统误差标定元件，根据Zernike多项式在单位圆域的正交特性和奇偶对称性质标定本装置的系统误差。本发明装置集成在光刻机的掩模工件台和硅片工件台上，相对于现有技术，能够标定测量装置本身引入的系统测量误差，进而提高测量精度。
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公开(公告)号：CN101552486B
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN200910083689.8
申请日：2009-05-07
Applicant: 北京理工大学
CPC classification number: Y02E10/566 , Y02E70/30
Abstract: 本发明公开了一种基于模型分析的光电微能源系统设计方法，属于光电技术领域。本发明根据集成光电微能源传感器节点的组成及功能要求，将其分为能量转换子系统、能量存储子系统、能量管理子系统和传感器节点四部分。对这四部分的能量参数进行分析，根据光电微能源系统为传感器节点供电方式，建立光电微能源系统不同能量参数之间关系的设计模型。根据光电微能源的功能要求及微能源使用地区的环境特点，确定出系统设计参数。系统设计参数结合微能源设计模型，确定出光伏电池的面积和微能源系统的单元电路，从而完成集成传感器光电微能源系统设计。本发明利用设计模型，大大简化了系统的设计过程，为光电微能源系统设计建立了普适的设计方法。
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公开(公告)号：CN101552486A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910083689.8
申请日：2009-05-07
Applicant: 北京理工大学
CPC classification number: Y02E10/566 , Y02E70/30
Abstract: 本发明公开了一种基于模型分析的光电微能源系统设计方法，属于光电技术领域。本发明根据集成光电微能源传感器节点的组成及功能要求，将其分为能量转换子系统、能量存储子系统、能量管理子系统和传感器节点四部分。对这四部分的能量参数进行分析，根据光电微能源系统为传感器节点供电方式，建立光电微能源系统不同能量参数之间关系的设计模型。根据光电微能源的功能要求及微能源使用地区的环境特点，确定出系统设计参数。系统设计参数结合微能源设计模型，确定出光伏电池的面积和微能源系统的单元电路，从而完成集成传感器光电微能源系统设计。本发明利用设计模型，大大简化了系统的设计过程，为光电微能源系统设计建立了普适的设计方法。
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公开(公告)号：CN114547855B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202210049465.0
申请日：2022-01-17
Applicant: 北京理工大学
IPC: G06F30/20 , G06F30/17 , G06F111/04 , G06F111/06
Abstract: 本发明提供一种光学成像系统多目标自动优化方法，采用指标中间量Bl渐进式的逼近各待优化性能Tl对应的最优指标Al，使得本发明在进行多性能优化的时候，可以避免优化过程陷入某些待优化性能的最优指标已经实现，但是其余某些待优化性能的最优指标无法实现的局部最优解的过程，也即渐进式的逼近，可以确保所有待优化性能对应的最优指标均能实现；同时，本发明根据每轮迭代优化设计后的结果，自动更新每一轮待优化视场点位置与光学设计软件中采用的约束条件，通过各项待优化性能的最优指标在优化过程中的相互影响，实现了多种成像系统性能的综合优化，有效的提升了成像系统的成像质量。
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