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公开(公告)号：CN119470265A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411413089.4
申请日：2024-10-11
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种多功能偏振成像系统及其肿瘤精准识别方法，涉及光学成像技术领域，系统通过利用组织自身的光学特性进行成像，无需使用外源荧光染料，从而避免了染料标记带来的灵敏度和特异性问题。本发明的技术方案包括Stokes‑Muller成像模块、可旋转样品台模块、非共轴反射式及透射式照明模块，多功能OCT模块；多功能偏振成像系统可在不移动样品的同时实现透射式，共轴反射式，非共轴反射式Stokes‑Mueller成像，OCT，PS‑OCT，OCTA成像。多功能OCT模块可以同时获得光通过样品的强度衰减曲线、偏振信息图像和血管造影图像。
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公开(公告)号：CN118089959A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202311729012.3
申请日：2023-12-15
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种分域多方向斜率曲率混合波前重构方法，根据引入角度，通过分域相消思路划分任意大小子区域从而引入对角方向斜率曲率信息的重构思路，实现用两组方程就引入重构点周围水平，垂直，对角和反对角方向上斜率曲率信息，同等信息引入量下更快速重构的算法流程，本发明能够在实时性较好的基础上，提高波前重构精度和抗噪能力，从而实现高阶像差的精密测量。
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公开(公告)号：CN117553702A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311504844.5
申请日：2023-11-13
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24 , G01B11/255
Abstract: 本发明公开了补偿范围可调的通用化非球面非零位干涉检测装置及方法，所设计的补偿器为球面形透镜，成本低，加工简单；可通过改变可调补偿器中两透镜的距离以改变补偿器的补偿范围，具有更灵活的检测方式和更广泛的应用领域；所用入射光为平行光，且可调补偿器中的透镜有一面为平面，检测光路的对准及设计简单；相较于其他球面形补偿器，具有更大的补偿范围；带有与之相匹配的系统误差校准方法，具有更高的检测精度。
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公开(公告)号：CN117387780A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311452819.7
申请日：2023-11-03
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明公开了测量高数值孔径球面波的横向剪切干涉仪校准方法，通过对高数值孔径球面波入射横向剪切干涉仪的几何光路进行理论分析，利用推导出的剪切波面系统误差公式定量计算剪切波面系统误差的大小；本发明方法通过在两束相干光的剪切波面中减去系统误差波面，然后对消除剪切波面系统误差后的剪切波面进行波前重构，得到校准后的待测波前，从而实现高数值孔径球面波的横向剪切干涉仪校准；本发明提高了测量波前的精度；本发明不需要对横向剪切干涉仪和待测系统的位置进行大范围移动，思路简单，操作方便；本发明的适用范围广，不仅适用于高数值孔径发散球面波的横向剪切干涉仪校准，也适用于高数值孔径会聚球面波的横向剪切干涉仪校准。
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公开(公告)号：CN116836097A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310702939.1
申请日：2023-06-14
Applicant: 北京理工大学 , 宁波南大光电材料有限公司
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , C07C25/18 , C07C17/35 , C07C41/18 , C07C43/225 , C07C43/247 , C07C201/12 , C07C205/12 , C07D333/76 , C07D347/00 , C07D327/08 , C07C309/10 , C07C309/17 , C07C303/32 , C07J31/00
Abstract: 本申请适用于光刻胶领域，具体公开一种光致产酸剂及其制备方法、以及应用该光致产酸剂的光刻胶。本申请的光致产酸剂可控制光酸的扩散距离以及光酸产生的扩散系数，从而控制光刻胶形貌的边缘粗糙度，提高光刻胶的分辨率；同时该光致产酸剂还可以避免曝光不足的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112859543B
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202110141736.0
申请日：2021-02-02
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法。本发明通过分组复合及迭代设计方法进行初始结构的设计，从而快速高效的得到折反射式光刻物镜系统初始结构。物镜系统包括三个子系统：第一镜组G1，第二镜组G2和第三镜组G3。物镜系统设计方法包括如下步骤：根据设计需求设计G1和G3初始结构；设置G1的像面为G2的物面，G2的像面为G3的物面；设置G2，包括相对设置的2片反射镜，通过矩阵光学计算G2的球面初始结构，并对G2的球面初始结构进行分组复合及迭代拟合设计，完成G2镜组初始结构设计。通过后续优化设计，完成高性能折反式光刻物镜系统设计，提高了折反式深紫外光刻物镜系统整体设计效率。
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公开(公告)号：CN108761604A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810527075.3
申请日：2018-05-29
Applicant: 北京理工大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种基于全局随机编码规则的位相衍射光栅，通过采用两种透射率像元，在衍射光栅进行全局随机分布，并保证各个周期的同一像元位置的平均透射率等于理想正弦衍射光栅在对应位置的透射率；该衍射光栅不需要借助级选择板便能达到完全消除高阶衍射光的效果，避免了精度和测量范围的损失，同时与改进的Hartmann掩模或是随机编码混合光栅相比，抑制高阶衍射级次光的效果更好，提高了波前的检测精度；此外，由于光栅中像元只有1和‑1两种透射率，因此该纯位相的结构具有更易加工，光的利用率大的优势。
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公开(公告)号：CN102269937B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201110199582.7
申请日：2011-07-16
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明提出一种光刻机投影物镜波像差在线检测装置及方法，所述在线检测装置包括物方掩模板和像方掩模板；物方掩模板位于光刻机的物方工件台上，且设有二维周期布局的方形针孔阵列A和二维周期布局的方孔A；像方掩模板位于光刻机的像方工件台上，且设有二维周期布局的方形针孔阵列B和二维周期布局的方孔B。本发明利用设有二维周期布局的针孔阵列以及二维周期布局的方孔阵列的掩膜板，一方面消除了照明系统对光刻投影物镜波像差检测的影响，另一方面极大提高了曝光光源光强的利用率，弥补了采用点光源时投影物镜曝光时间长及干涉条纹对比度低的不足，从而可以极大提高检测速度和检测精度。
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公开(公告)号：CN102252765B
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201110174342.1
申请日：2011-06-24
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明提出一种扩束准直系统波面像差检测装置及方法，其中所述检测装置包括剪切单元、调节单元、光电探测单元、存储单元以及信号处理单元；其中，剪切单元与光电探测单元依次设置于扩束准直系统出射光束的光路上，剪切单元位于扩束准直系统与光电探测单元之间；剪切单元包括一维位相光栅A和一维位相光栅B，用于实现对入射光波的剪切；两一维位相光栅上两相邻透光部分之间的非透光部分的宽度为p/6，透光部分的宽度为p/3，p为一维位相光栅的周期；设定p≥16β，β为光电探测单元的像元尺寸。本装置可消除±3级及±3的倍级衍射光的影响，所形成的干涉波光的能量主要集中在±1级衍射光波中，消除了其他倍数级衍射光波对波面像差检测的影响，从而提高了检测精度。
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公开(公告)号：CN102200695A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201110128071.6
申请日：2011-05-17
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明提供一种系统误差自校准的投影物镜波像差在线检测装置，能够实现对光刻机投影物镜波相差的高精度检测。采用设有方形针孔阵列的物方掩模板，通过方形针孔阵列产生理想的球面波，消除了照明系统对光刻机投影物镜波像差检测的影响，从而进一步提高了检测精度。利用针孔阵列滤波的系统误差自校准，通过在光刻机投影物镜的物面放置方孔掩模板和像面放置针孔阵列掩模板，在保证曝光光源利用率的同时，实现了对待测照明系统残留像差和投影物镜波像差的空间滤波，从而可以快速，高精度的获得投影物镜的波像差。
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