一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备

    公开(公告)号:CN101469405A

    公开(公告)日:2009-07-01

    申请号:CN200710304553.6

    申请日:2007-12-28

    Abstract: 一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备,包括有:水箱,在该水箱的环壁内设有水夹层;筒状靶材,该筒状靶材的外环壁与水箱的内环壁紧密接触;加长型筒状阳极,其底壁设有若干个溅射气体进气孔,并配有阳极盖,在阳极盖上接有进气管路;数块磁体,该数块磁体围绕水箱的环壁的一周。加长筒型阳极采用无氧铜材料制成,水箱上的绝缘圈、阳极盖均为聚四氟乙烯材料绝缘制成。在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时,采用带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响,有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。

    用于制备薄膜的筒型辐射式加热器

    公开(公告)号:CN1499164A

    公开(公告)日:2004-05-26

    申请号:CN02146098.1

    申请日:2002-11-04

    Abstract: 本发明公开了一种用于制备薄膜的筒型辐射式加热器,包括一筒型炉体,在炉体的炉壁上绕有加热丝,炉体的外侧有隔热层,所述的加热丝受控于一控温单元装置;炉体炉底周边上均布若干孔。本加热器结构合理紧凑;温度恒温区面积有足够大的尺寸,可满足制备大面积双面超导薄膜的要求;温度可调且选择范围宽,温度可调且选择范围宽;使用该加热器,方便确定薄膜最佳工艺参数,并具重复性;使用寿命长,抗破坏能力强。

    一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备

    公开(公告)号:CN101469405B

    公开(公告)日:2010-12-08

    申请号:CN200710304553.6

    申请日:2007-12-28

    Abstract: 一种带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备,包括有:水箱,在该水箱的环壁内设有水夹层;筒状靶材,该筒状靶材的外环壁与水箱的内环壁紧密接触;加长型筒状阳极,其底壁设有若干个溅射气体进气孔,并配有阳极盖,在阳极盖上接有进气管路;数块磁体,该数块磁体围绕水箱的环壁的一周。加长筒型阳极采用无氧铜材料制成,水箱上的绝缘圈、阳极盖均为聚四氟乙烯材料绝缘制成。在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时,采用带加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响,有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。

    一种加长型筒状阳极
    4.
    实用新型

    公开(公告)号:CN201154986Y

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN200720191122.9

    申请日:2007-12-28

    Abstract: 一种加长型筒状阳极,该加长型筒状阳极为筒状,其底壁设有若干个溅射气体进气孔,其顶部为敞口,该敞口的周边缘向外凸出形成支撑边,该敞口并配有阳极盖,在阳极盖上接有进气管路。加长型筒状阳极的环壁在沉积薄膜的过程中均起到了与已有的平面阳极同样的作用,极大地增加了阳极面积,提高了溅射过程中的正效果。采用本实用新型的加长型筒状阳极的筒状靶溅射设备,在制备复杂氧化物薄膜、特别是高温YBCO等稀土钡铜氧薄膜时,可显著改善负氧离子轰击以及溅射物质堆积掉渣等负影响,有显著的改善薄膜生长质量、提高性能的作用。相比于普通采用小平面阳极的溅射设备,在同样条件下制备薄膜的性能更好、工艺窗口更宽、薄膜表面形貌以及均匀性均优于传统溅射设备,体现了本实用新型的突出有益效果。

    大尺寸柱状中空溅射阴极

    公开(公告)号:CN2719866Y

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN200420087974.X

    申请日:2004-08-13

    Abstract: 本实用新型公开了一种大尺寸柱状中空溅射阴极,由圆筒形高温超导溅射靶材、冷却水箱及置于冷却水箱内的冷却水循环单元组成,冷却水箱的内壁直接紧密接触高温超导溅射靶材壁,冷却水箱内壁内层覆有一层筒形软磁材,在筒形软磁材料周边上分布的一组可拼装磁体;磁体的充磁方向为内圆心至外圆周方向;冷却水循环单元的进水管开在冷却水箱的底部,出水管开在冷却水箱的顶部。其通过对原有大尺寸中空溅射阴极的改进,便于靶材在溅射过程中冷却;便于调整磁体位置和磁力线形状,增加了溅射环宽度和有效利用面积,提高制备大面积双面超导薄膜的溅射速率,整体化,设计易于扩展和拆装,满足批量化制备的要求。

    滑块往复式对靶溅射加热传动装置

    公开(公告)号:CN2734775Y

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200420118600.X

    申请日:2004-10-14

    Abstract: 一种滑块往复式对靶溅射加热传动装置,它包括有一个箱体,在箱体的底部设有样品架往复移动口,在箱体的底部设有蜗杆,在该蜗杆上连接有滑块,该滑块的上端连接有进入箱体内的支撑杆,在该支撑杆的上端连接有样品架,在箱体前后面内设有加热陶瓷基体,在箱体前后对应面上设有方形溅射口。所述的样品架为长方形结构,在长方形的样品架上均匀开有至少两个基片固定槽孔。在加热陶瓷基体上设有蛇形加热丝。在加热陶瓷基体内侧设有均热石英板。本实用新型的优点是,结构简单、使用方便、可高效地满足直流溅射方法制备高性能、均匀性好的大面积高温超导薄膜,并满足批量化制备的要求。

    滑轨往复式对靶溅射加热传动装置

    公开(公告)号:CN2730887Y

    公开(公告)日:2005-10-05

    申请号:CN200420118599.0

    申请日:2004-10-14

    Abstract: 一种滑轨往复式对靶溅射加热传动装置,它包括有一个箱体,在箱体的一侧设有样品架进出口,在箱体内的底部和样品架进出口的外部设有样品架进出导轨,在导轨上设置可移动的样品架,在箱体前后面内设有加热陶瓷平行板基体,在箱体前后对应面上设有方形溅射口。所述的样品架为长方形结构,在长方形的样品架上均匀开有至少两个基片固定槽孔,在样品架的下端连接有导轮。所述的样品架外侧连接有推拉杆,其由步进马达带动。在加热陶瓷平行板基体上设有蛇形加热丝。本实用新型的优点是,结构简单、使用方便、可高效地满足直流溅射方法制备高性能、均匀性好的大面积高温超导薄膜,并满足批量化制备的要求。

    筒型辐射式加热器
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN2575575Y

    公开(公告)日:2003-09-24

    申请号:CN02282480.4

    申请日:2002-11-04

    Abstract: 本实用新型公开了一种筒型辐射式加热器,包括一筒型炉体,在炉体的炉壁上绕有加热丝,炉体的外侧有隔热层,所述的加热丝受控于一控温单元装置;炉体炉底周边上均布若干孔。本加热器结构合理紧凑;温度恒温区面积有足够大的尺寸,可满足制备大面积双面超导薄膜的要求;温度可调且选择范围宽,重复性好,使用寿命长,抗破坏能力强。

    大面积双面超导薄膜基片夹具

    公开(公告)号:CN2720624Y

    公开(公告)日:2005-08-24

    申请号:CN200420087776.3

    申请日:2004-08-17

    Abstract: 一种大面积双面超导薄膜基片夹具,是采用上盖和底座基体的扣合的结构,上盖和底座基体皆为圆环状,以螺钉和销孔的配合的方式组装一起。放置样品时,先将单晶基片放入台阶式的内环槽中或底座基体的样品底托上,以防止基片位移,稳妥放置样品,并采用突起部与底座基体一起定位,防止基片位移、嵌入和脱落,同时上盖和底座基体采用螺钉和销孔的结构进行紧固。该基片夹具可以使基片在往复和旋转运动过程中夹持稳妥,基片在夹具内移动小,受力小不易产生破损。定位螺钉和定位销孔固定的设计可使样品装卸方便。基片作为整体可以嵌入样品架、台,适于批量化制备大面积双面超导薄膜。

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