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公开(公告)号:CN106835052A
公开(公告)日:2017-06-13
申请号:CN201710246585.9
申请日:2017-04-16
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/021 , C23C14/042 , C23C14/08 , C23C14/5806
Abstract: 本发明公开了利用射频磁控溅射工艺制备BiFeO3薄膜阻变存储器的方法,本方法选择NSTO作为基底,通过射频磁控溅射法制备钙钛矿结构BFO铁电薄膜,然后通过直靶溅射在薄膜上制备0.3mmx0.3mm的顶部电极即可。与现有的技术相比,本发明工艺可控性强,易操作,成本低,制得产物纯度高。而且本发明制备的薄膜具有优越的阻变特性,并具有二极管的单向导电特性,这些优越的特性可使BFO铁电薄膜在阻变存储器中获得应用。
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公开(公告)号:CN106409818A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201610905648.2
申请日:2016-10-17
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L23/64
CPC classification number: H01L28/55
Abstract: 一种非破坏性得到柔性铁电薄膜电容的方法,属于铁电器件及半导体工艺领域。本发明为通过便捷、经济的方法得到无机衬底且具备柔性的铁电薄膜电容器件,通过使用金刚砂、工业蜡、玻璃片和玻璃板等常见材料作为衬底研磨的工具,利用加热平台使工业蜡融化并粘合玻璃片与PZT,而后用金刚砂可以将衬底厚度约为500μm的刚性PZT器件减薄到100μm厚从而成为柔性PZT,再利用少量化学试剂可以去除粘附在器件表面的残留工业蜡。该方法原理简单、成本低廉、安全可靠,相比于其他方法可以更快更安全地得到柔性铁电薄膜器件,同时不会失去其优良的电学特性,且该柔性器件在反复受力条件下仍能保持良好的电学性能,具备优良的可靠性。
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公开(公告)号:CN106409818B
公开(公告)日:2019-01-22
申请号:CN201610905648.2
申请日:2016-10-17
Applicant: 北京工业大学
IPC: H01L23/64
Abstract: 一种非破坏性得到柔性铁电薄膜电容的方法,属于铁电器件及半导体工艺领域。本发明为通过便捷、经济的方法得到无机衬底且具备柔性的铁电薄膜电容器件,通过使用金刚砂、工业蜡、玻璃片和玻璃板等常见材料作为衬底研磨的工具,利用加热平台使工业蜡融化并粘合玻璃片与PZT,而后用金刚砂可以将衬底厚度约为500μm的刚性PZT器件减薄到100μm厚从而成为柔性PZT,再利用少量化学试剂可以去除粘附在器件表面的残留工业蜡。该方法原理简单、成本低廉、安全可靠,相比于其他方法可以更快更安全地得到柔性铁电薄膜器件,同时不会失去其优良的电学特性,且该柔性器件在反复受力条件下仍能保持良好的电学性能,具备优良的可靠性。
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