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公开(公告)号：CN114637339A
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202210302912.9
申请日：2022-03-24
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05D3/12
Abstract: 本申请提供了一种基于成像的对准方法、装置、电子设备及存储介质，生成第一位置控制信号并发送给运动台，使位于运动台上的待测物的目标面移动至第一位置控制信号所指示的第一位置；获取第一图像，确定目标面的第一位置信息，以生成第二位置控制信号并发送给运动台，使目标面移动至第二位置控制信号所指示的第二位置；获取第二图像，第二倍数大于第一倍数，确定目标面的第二位置信息，以生成第三位置控制信号并发送给运动台，使目标面的成像对准第二传感器的视场中心，用于包括多个不同放大倍数的放大成像光路的光学系统对待测物进行成像时，精确、快捷的将待测物的成像与视场范围较小的传感器的视场中心对准。
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公开(公告)号：CN114545645A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210186417.6
申请日：2022-02-28
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种潜望式集成光路的装调方法，通过对中心偏差测量仪的载物台进行校准，以将中心偏差测量仪对应的第一光轴的方向调整至第一预设方向；放置标准反射镜在中心偏差测量仪的预设位置上，通过校准后的中心偏差测量仪调整标准反射镜，以使标准反射镜将第一预设方向的入射光线反射至与第一预设方向垂直的第二预设方向；放置平面反射镜在标准反射镜的一侧，调整平面反射镜，以使平面反射镜将标准反射镜沿第二预设方向反射出的光线，沿第一预设方向反射至中心偏差测量仪的载物台上，以实现对潜望式集成光路中所有光学器件的安装角度的装调。
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公开(公告)号：CN114578788B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202210200008.7
申请日：2022-03-02
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种位移机构的位移标定方法及装置，包括：确定预先设置的电机步数向量集合；控制电机按照电机步数向量集合中的各步数向量依次进行运动，在电机每运动一个步数向量时，获取测微计采集到的位移测量值；针对每个步数向量，根据该步数向量对应的位移测量值和中点位移向量，确定该步数向量对应的滑块的位移标定值；根据每个步数向量以及与各步数向量对应的位移标定值，建立多个步数向量与多个位移标定值之间的映射关系，以完成对位移机构的位移标定。本申请通过预先对位移标定机构进行位移标定，有助于消除电机回隙造成的定位误差，以提高位移机构的定位精度。
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公开(公告)号：CN115014720A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210623878.5
申请日：2022-06-02
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及光学组件组装设备技术领域，尤其是涉及一种光学组件的测试装置及方法、光路系统的调试方法。基准机构包括基准支撑平台及基准光学组件，基准光学组件设置于基准支撑平台的基准平面，基准光学组件有交于基准点的y向基准和x向基准；可调支撑机构使测量机构移动至使测量机构的预定光轴与y向基准和x向基准均垂直且经过基准点的位置；基准平面的测试工位位于基准光学组件与测量机构之间，通过测量机构测量待测光学组件的沿y向基准的偏心误差及绕x向基准的倾角误差。该光学组件的测试方法采用该装置实施。该光路系统的调试方法采用该测试方法实施。光学组件的测试装置及方法、光路系统的调试方法，实现了光学组件与光路系统的误差解耦。
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公开(公告)号：CN114578788A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210200008.7
申请日：2022-03-02
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种位移机构的位移标定方法及装置，包括：确定预先设置的电机步数向量集合；控制电机按照电机步数向量集合中的各步数向量依次进行运动，在电机每运动一个步数向量时，获取测微计采集到的位移测量值；针对每个步数向量，根据该步数向量对应的位移测量值和中点位移向量，确定该步数向量对应的滑块的位移标定值；根据每个步数向量以及与各步数向量对应的位移标定值，建立多个步数向量与多个位移标定值之间的映射关系，以完成对位移机构的位移标定。本申请通过预先对位移标定机构进行位移标定，有助于消除电机回隙造成的定位误差，以提高位移机构的定位精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114384658A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202210171245.5
申请日：2022-02-24
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及成像光路设计技术领域，尤其是涉及一种自动调焦集成系统，用于调节物镜的基准光轴，自动调焦集成系统包括基准调节装置、基准装置及物镜姿态调节装置，物镜设置于物镜姿态调节装置上；基准装置设置于基准调节装置与物镜之间；基准调节装置用于根据定心仪的光轴调节基准装置，以确定用于调节物镜的姿态的基准光轴；物镜姿态调节装置用于调节物镜的光轴与基准光轴重合。可见，本自动调焦集成系统属于一种新的自动调焦集成方案，集成度高，能够轻松完成调焦的工作。
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公开(公告)号：CN111215771A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN202010137414.4
申请日：2020-03-04
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: B23K26/70 , B23K26/046
Abstract: 本发明提供了一种激光加工装置及加工方法，涉及晶圆加工技术领域。激光加工装置包括：激光加工装置包括移动机构和测量机构，测量机构安装在移动机构的活动端，移动机构用于带动测量机构在第一方向上运动；测量机构包括激光器和激光位移传感器，且激光器的发射方向与激光位移传感器的检测方向均沿第一方向设置。将待加工的工件放置在第一方向上，通过移动机构带动测量机构运动到某一位置，可以利用激光位移传感器检测出其距离工件表面的距离，因为激光位移传感器和激光器均固定在移动机构上，二者的焦点在第一方向上的偏差是已知的，通过该偏差和激光位移传感器的位置可以计算得出激光器焦点的位置，方便后续对工件的处理。
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公开(公告)号：CN110666343A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201911057301.7
申请日：2019-10-31
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: B23K26/046 , B23K26/064
Abstract: 本申请公开一种激光转折装置、激光加工光路系统及光路调试方法，涉及激光加工技术领域。激光加工光路系统包括加工基座、激光扩束准直装置、激光转折装置、激光聚焦装置和同轴调节装置。激光扩束准直装置和激光转折装置沿X轴方向间隔设置，激光扩束准直装置用于发射激光并对激光进行准直扩束；激光聚焦装置连接于加工基座，激光聚焦装置用于将由光路出口射出的激光聚焦成加工用的微细光斑；同轴调节装置沿Z轴方向连接于激光转折装置，同轴调节装置用于识别对位加工标记以及辅助调节激光光路。激光加工光路系统能够快速便捷地实现激光光束的扩束、转折调节及聚焦，光路调试方法简单，调试精度高，为激光加工设备的工业化生产提供了保障。
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公开(公告)号：CN114545645B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202210186417.6
申请日：2022-02-28
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种潜望式集成光路的装调方法，通过对中心偏差测量仪的载物台进行校准，以将中心偏差测量仪对应的第一光轴的方向调整至第一预设方向；放置标准反射镜在中心偏差测量仪的预设位置上，通过校准后的中心偏差测量仪调整标准反射镜，以使标准反射镜将第一预设方向的入射光线反射至与第一预设方向垂直的第二预设方向；放置平面反射镜在标准反射镜的一侧，调整平面反射镜，以使平面反射镜将标准反射镜沿第二预设方向反射出的光线，沿第一预设方向反射至中心偏差测量仪的载物台上，以实现对潜望式集成光路中所有光学器件的安装角度的装调。
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公开(公告)号：CN114758013A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210472520.7
申请日：2022-04-29
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请提供了一种基于成像的定位方法、装置、电子设备及存储介质，通过响应启动指令，生成第一位置控制信号并发送给可调焦物镜，使物镜分别移动到第一位置控制信号指示的多个第一预测行程值对应的位置上；根据确定出的第一图像集，确定第一目标行程值；根据第一目标行程值，生成第二位置控制信号并发送给可调焦物镜，使物镜分别移动到第二位置控制信号指示的多个第二预测行程值对应的位置上；根据确定出的第二图像集，确定第二目标行程值，当物镜在第二目标行程值对应的位置上时，光学系统的成像清晰度指标值满足预设清晰度指标值，以快速、精确地确定出光学系统中可调焦物镜中物镜的最佳焦面位置。
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