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公开(公告)号:CN114563866B
公开(公告)日:2024-02-20
申请号:CN202210244421.3
申请日:2022-03-14
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及集成电路制造技术领域,尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组,第一透镜组至第五透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正;五个透镜组满足:f2/L>‑0.1,f4/L>‑0.3;其中f2为第二透镜组的焦距,f4为第四透镜组的焦距,L为投影物镜系统的物像距;根据本发明的投影物镜系统,能够实现更好的像差控制,进而实现更加完美的图形曝光。
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公开(公告)号:CN113687493B
公开(公告)日:2024-01-26
申请号:CN202110992200.X
申请日:2021-08-27
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G02B7/28
Abstract: 本发明提供了一种自动调焦装置及其使用方法,其中自动调焦装置包括:机座,所述机座上设置有驱动机构,所述驱动机构连接有能够相对所述机座移动的传动机构,所述传动机构上连接有物镜;所述传动机构包括传动板,所述驱动机构包括抵接在所述传动板上的凸轮,所述凸轮在转动时能够带动所述传动机构移动,用以使所述物镜移动调焦。本发明中的自动调焦装置,通过设置凸轮形式的运动组件,降低了设备成本,提高了调焦精度,减小了空间尺寸;针对不同的调焦行程,只需要加工更换不同偏心距的偏心凸轮即可实现。
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公开(公告)号:CN114690433B
公开(公告)日:2023-09-19
申请号:CN202210375542.1
申请日:2022-04-11
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及光学物镜检测技术领域,尤其是涉及一种照明系统及物镜离线检测装置。照明系统包括沿光轴顺序设置的光源、聚光镜组、匀光器、针孔光阑、成像镜组和掩模板。光源用于提供照明光束,聚光镜组用于收集光源发出的照明光束,且经过聚光镜组,照明光束能够被转换为i线波段的出射光束并汇聚于匀光器的入射端,匀光器出射的照明光束经过针孔光阑和成像镜组后照射于掩模板上,形成大数值孔径、小尺寸光斑,且形成的光斑质量好,以满足物镜离线检测的高要求的照明需求。
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公开(公告)号:CN114637339A
公开(公告)日:2022-06-17
申请号:CN202210302912.9
申请日:2022-03-24
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G05D3/12
Abstract: 本申请提供了一种基于成像的对准方法、装置、电子设备及存储介质,生成第一位置控制信号并发送给运动台,使位于运动台上的待测物的目标面移动至第一位置控制信号所指示的第一位置;获取第一图像,确定目标面的第一位置信息,以生成第二位置控制信号并发送给运动台,使目标面移动至第二位置控制信号所指示的第二位置;获取第二图像,第二倍数大于第一倍数,确定目标面的第二位置信息,以生成第三位置控制信号并发送给运动台,使目标面的成像对准第二传感器的视场中心,用于包括多个不同放大倍数的放大成像光路的光学系统对待测物进行成像时,精确、快捷的将待测物的成像与视场范围较小的传感器的视场中心对准。
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公开(公告)号:CN114594659A
公开(公告)日:2022-06-07
申请号:CN202210244412.4
申请日:2022-03-14
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及集成电路制造技术领域,尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和第六透镜组,第一透镜组至第六透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正、正。根据本发明的投影物镜系统,能够实现更好的像差控制,进而实现更加完美的图形曝光。
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公开(公告)号:CN114563866A
公开(公告)日:2022-05-31
申请号:CN202210244421.3
申请日:2022-03-14
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及集成电路制造技术领域,尤其是涉及一种投影物镜系统。投影物镜系统包括从投影物镜系统的物方至像方的方向顺序设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组和第五透镜组,第一透镜组至第五透镜组的光焦度呈现出正、负、正、负、正;五个透镜组满足:f2/L>‑0.1,f4/L>‑0.3;其中f2为第二透镜组的焦距,f4为第四透镜组的焦距,L为投影物镜系统的物像距;根据本发明的投影物镜系统,能够实现更好的像差控制,进而实现更加完美的图形曝光。
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公开(公告)号:CN117268710A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202311001351.X
申请日:2023-08-09
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: G01M11/02
Abstract: 本申请涉及激光光轴校准技术领域,特别涉及一种激光光轴校准装置及校准方法。该校准装置包括对准参考系统、调节组件和预对准系统;对准参考系统包括光电探测器、聚焦透镜和二位调整架;调节组件包括位置二维调整系统、待准直激光器和俯仰二维调整系统;预对准系统包括平行平晶和自准直仪;光电探测器、聚焦透镜、待准直激光器、平行平晶和自准直仪同轴布置;二位调整架与聚焦透镜连接,用于调整聚焦透镜的位置;位置二维调整系统和俯仰二维调整系统分别与待准直激光器连接,分别用于调整待准直激光器的位置与俯仰角度。本申请可以在一定程度上解决激光准直调试难度大,光束垂直入射到安装面的中心位置精度低的问题。
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公开(公告)号:CN114690433A
公开(公告)日:2022-07-01
申请号:CN202210375542.1
申请日:2022-04-11
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及光学物镜检测技术领域,尤其是涉及一种照明系统及物镜离线检测装置。照明系统包括沿光轴顺序设置的光源、聚光镜组、匀光器、针孔光阑、成像镜组和掩模板。光源用于提供照明光束,聚光镜组用于收集光源发出的照明光束,且经过聚光镜组,照明光束能够被转换为i线波段的出射光束并汇聚于匀光器的入射端,匀光器出射的照明光束经过针孔光阑和成像镜组后照射于掩模板上,形成大数值孔径、小尺寸光斑,且形成的光斑质量好,以满足物镜离线检测的高要求的照明需求。
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公开(公告)号:CN114384658A
公开(公告)日:2022-04-22
申请号:CN202210171245.5
申请日:2022-02-24
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Abstract: 本申请涉及成像光路设计技术领域,尤其是涉及一种自动调焦集成系统,用于调节物镜的基准光轴,自动调焦集成系统包括基准调节装置、基准装置及物镜姿态调节装置,物镜设置于物镜姿态调节装置上;基准装置设置于基准调节装置与物镜之间;基准调节装置用于根据定心仪的光轴调节基准装置,以确定用于调节物镜的姿态的基准光轴;物镜姿态调节装置用于调节物镜的光轴与基准光轴重合。可见,本自动调焦集成系统属于一种新的自动调焦集成方案,集成度高,能够轻松完成调焦的工作。
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公开(公告)号:CN111215771A
公开(公告)日:2020-06-02
申请号:CN202010137414.4
申请日:2020-03-04
Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
IPC: B23K26/70 , B23K26/046
Abstract: 本发明提供了一种激光加工装置及加工方法,涉及晶圆加工技术领域。激光加工装置包括:激光加工装置包括移动机构和测量机构,测量机构安装在移动机构的活动端,移动机构用于带动测量机构在第一方向上运动;测量机构包括激光器和激光位移传感器,且激光器的发射方向与激光位移传感器的检测方向均沿第一方向设置。将待加工的工件放置在第一方向上,通过移动机构带动测量机构运动到某一位置,可以利用激光位移传感器检测出其距离工件表面的距离,因为激光位移传感器和激光器均固定在移动机构上,二者的焦点在第一方向上的偏差是已知的,通过该偏差和激光位移传感器的位置可以计算得出激光器焦点的位置,方便后续对工件的处理。
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