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公开(公告)号:CN1320955A
公开(公告)日:2001-11-07
申请号:CN01115889.1
申请日:2001-05-14
Applicant: 信息产业部电子第十三研究所
IPC: H01L21/335
Abstract: 本发明公开了一种量子线场效应晶体管结构材料及器件制备方法。该方法具有工艺简单,可重复性强,制造成本低等特点。量子线结构材料是利用分子束外延设备,通过控制生长温度、元素蒸气压比、生长速率和生长时间等条件自组织实现的,它不涉及光刻、外延层腐蚀等复杂工艺,具有高密度、高均匀性及良好的一维特性。理论上,量子线场效应管具有超高速、低功耗等优良性能,是微电子学的重要研究领域。
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公开(公告)号:CN1123922C
公开(公告)日:2003-10-08
申请号:CN01115889.1
申请日:2001-05-14
Applicant: 信息产业部电子第十三研究所
IPC: H01L21/335
Abstract: 本发明公开了一种量子线场效应晶体管的制备方法。该方法具有工艺简单,可重复性强,制造成本低等特点。量子线结构材料是利用分子束外延设备,通过控制生长温度、元素蒸气压比、生长速率和生长时间等条件自组织实现的,它不涉及光刻、外延层腐蚀等复杂工艺,具有高密度、高均匀性及良好的一维特性。理论上,量子线场效应管具有超高速、低功耗等优良性能,是微电子学的重要研究领域。
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