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公开(公告)号：CN101041891A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710088796.0
申请日：2007-03-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12
Abstract: 本发明的目的是，减少在汽相淀积源中产生的激溅，并以稳定、高速的汽相淀积速度实施汽相淀积。通过以下步骤实施根据本发明的汽相淀积：将多个多纳圈状平板垂直层叠在坩埚中，将薄的汽相淀积材料安装在多纳圈状平板上，使用包围坩埚的加热器以加热多纳圈状平板上的汽相淀积材料，使得从汽相淀积材料产生的蒸汽通过各层上的流动空间A流到垂直的流动路径B中，和从流动路径B的顶部的开口向要被淀积的衬底排放蒸汽。流动空间A的传导力比流动路径B的传导力小。
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公开(公告)号：CN102560364A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110339529.2
申请日：2011-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/546 , C23C14/24
Abstract: 这里提供了一种真空气相沉积系统，它能够精确测量气相沉积速率，并能够以更高精度来控制膜厚度。真空气相沉积系统包括：真空腔室；基片保持机构；气相沉积源；用于监测的膜厚度传感器；控制系统，该控制系统包括温度控制器和膜厚度控制器；以及用于校准的膜厚度传感器，其中，从用于监测的膜厚度传感器和用于校准的膜厚度传感器中的要提高测量精度的一个膜厚度传感器至气相沉积源的开口中心的距离小于从另一膜厚度传感器至气相沉积源的开口中心的距离。还提供了一种使用这种真空沉积系统制造有机电致发光元件的方法。
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公开(公告)号：CN109676638A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201811213955.X
申请日：2018-10-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B25J15/0491 , B25J15/0009 , B25J15/0066 , B25J15/0475 , B25J15/04 , B25J19/00
Abstract: 本发明提供工具储存器、工具、机器人系统及控制方法、存储介质。用于保持工具的工具储存器配备有使工具储存器倾斜的储存器倾斜件，并且还配备有对可互换工具附装到机器人臂和从机器人臂拆卸的附装/拆卸位置进行调整的机构。能够通过使用工具储存器来调整附装/拆卸位置，以适当地适合机器人臂的移动路径。
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公开(公告)号：CN102465262A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110339499.5
申请日：2011-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/546
Abstract: 提供一种可在成膜对象物上精确地形成均一膜的成膜装置。成膜装置(1)包括成膜源(21)、测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)。当在成膜对象物(30)上形成成膜材料的薄膜时，在成膜源(21)内加热成膜材料以释放出该成膜材料的蒸气。测量用石英振荡器(22)测量形成在成膜对象物(30)上的成膜材料量(形成在其上的薄膜厚度)，而校正用石英振荡器(23)校正测量用石英振荡器(22)。成膜装置(1)中，还提供用于相对于成膜对象物在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，以及用于控制测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)的温度至基本相同的温度控制部(传感器闸门(26))。
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公开(公告)号：CN109676638B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN201811213955.X
申请日：2018-10-18
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供工具储存器、工具、机器人系统及控制方法、存储介质。用于保持工具的工具储存器配备有使工具储存器倾斜的储存器倾斜件，并且还配备有对可互换工具附装到机器人臂和从机器人臂拆卸的附装/拆卸位置进行调整的机构。能够通过使用工具储存器来调整附装/拆卸位置，以适当地适合机器人臂的移动路径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102465263A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110339521.6
申请日：2011-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/546
Abstract: 本发明提供一种成膜装置和成膜方法。成膜装置(1)包括成膜源(21)、测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)。当在成膜对象物(30)上形成成膜材料的薄膜时，在成膜源(21)内加热成膜材料以释放出该成膜材料的蒸气。测量用石英振荡器(22)测量形成在成膜对象物(30)上的成膜材料量，而校正用石英振荡器(23)校正测量用石英振荡器(22)。在成膜装置(1)中，还设置用于相对于成膜对象物在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，该移动部保持测量用石英振荡器(22)，以维持其相对于成膜源(21)的相对位置，且当移动部处于成膜待机位置时，校正用石英振荡器(23)设在移动部的上方。
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公开(公告)号：CN101041891B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200710088796.0
申请日：2007-03-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12
Abstract: 本发明的目的是，减少在汽相淀积源中产生的激溅，并以稳定、高速的汽相淀积速度实施汽相淀积。通过以下步骤实施根据本发明的汽相淀积：将多个多纳圈状平板垂直层叠在坩埚中，将薄的汽相淀积材料安装在多纳圈状平板上，使用包围坩埚的加热器以加热多纳圈状平板上的汽相淀积材料，使得从汽相淀积材料产生的蒸汽通过各层上的流动空间A流到垂直的流动路径B中，和从流动路径B的顶部的开口向要被淀积的衬底排放蒸汽。流动空间A的传导力比流动路径B的传导力小。
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公开(公告)号：CN101106848A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200710128785.0
申请日：2007-07-12
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H05B33/10
CPC classification number: C23C14/26 , C23C14/243 , C23C14/545 , C23C14/56 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 实现了一种能够提高有机电致发光部件的生产率的真空淀积装置。第一管道连接到用于蒸发有机电致发光材料的淀积源，并且两个第二管道指向由衬底和掩膜组成的两个薄膜淀积对象，由此形成有机淀积薄膜。蒸汽从淀积源同时释放到不同平面上的多个薄膜淀积对象以淀积薄膜，这促进了薄膜淀积时间的减少和装置的小型化。
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公开(公告)号：CN102465276A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110339500.4
申请日：2011-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C16/52 , C23C14/24 , C23C14/546 , C23C16/46
Abstract: 提供一种成膜装置和成膜方法，可精确地控制形成在成膜对象物上的薄膜的厚度。成膜装置(1)包括用于在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，此移动部保持测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)以维持它们相对于成膜源(21)的相对位置。在成膜对象物上形成膜的成膜步骤当中执行利用校正用石英振荡器(23)的监测值校正测量用石英振荡器的监测值的校正步骤。
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公开(公告)号：CN102465264A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110339524.X
申请日：2011-11-01
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: C23C14/24 , C23C14/546 , H01L51/001 , H01L2251/558
Abstract: 这里提供了一种真空气相沉积系统，包括：气相沉积源；用于监测的膜厚度传感器；以及用于校准的膜厚度传感器，其中，从气相沉积源的开口的中心至用于校准的膜厚度传感器的距离L1和从气相沉积源的开口的中心至用于监测的膜厚度传感器的距离L2满足L1≤L2的关系；由从气相沉积源的开口的中心至基片的膜形成表面的垂直线和使得气相沉积源的开口的中心与用于校准的膜厚度传感器连接的直线所形成的角度θ1以及由从气相沉积源的开口的中心至基片的膜形成表面的垂直线和使得气相沉积源的开口的中心与用于监测的膜厚度传感器连接的直线所形成的角度θ2满足θ2≥θ1的关系。还提供了一种利用所述真空气相沉积系统制造有机发光装置的方法。
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