基板处理设备和基板处理方法

    公开(公告)号:CN111850463B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202010330800.5

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括:成膜室,在所述成膜室中,在基板上形成膜;以及可动构件,其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者,并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前,在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下,所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差,然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前,所述可动构件移动到预定位置。

    基板处理设备和基板处理方法

    公开(公告)号:CN111850463A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202010330800.5

    申请日:2020-04-24

    Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括:成膜室,在所述成膜室中,在基板上形成膜;以及可动构件,其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者,并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前,在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下,所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差,然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前,所述可动构件移动到预定位置。

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