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公开(公告)号：CN110349996A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910260853.1
申请日：2019-04-02
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 发光装置、显示设备以及摄像设备。本发明提供发光装置，其包括：基板；第一EL元件和第二EL元件，第一EL元件和第二EL元件均从基板开始依次包括下电极、包括发光层的有机化合物层、上电极和滤色器；以及绝缘层，其覆盖下电极的端部。在平面图中观察时，第一EL元件的第一滤色器和第二EL元件的第二滤色器在重叠区域中彼此重叠，并且在平面图中观察时，第二EL元件的绝缘层的倾斜部之中最靠近第一EL元件的倾斜部与重叠区域彼此重叠。
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公开(公告)号：CN1064138C
公开(公告)日：2001-04-04
申请号：CN94112833.4
申请日：1994-10-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/141 , G02F1/133753 , G02F1/1416
Abstract: 一种液晶器件，它是通过一对基片，和设置在两基片之间呈现出至少两种稳定状态的手性近晶型液晶所构成。至少基片中的一个要经过包括正方向和大体上与正方向相反的反方向的两方向上的单轴排列处理，将液晶以排列状态放置，使得液晶提供一视在倾角θa-它是在所述两稳态之间的半角、相对于基片表面的倾角H和预倾角α，并形成近晶层，它与基片表面法线成倾斜角δ，其满足：H/2＜θa≤H和H＞α+δ。根据这种液晶器件，沿基片所不期望的液晶分子的运动可有效地得到抑制。
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公开(公告)号：CN110349996B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201910260853.1
申请日：2019-04-02
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 发光装置、显示设备以及摄像设备。本发明提供发光装置，其包括：基板；第一EL元件和第二EL元件，第一EL元件和第二EL元件均从基板开始依次包括下电极、包括发光层的有机化合物层、上电极和滤色器；以及绝缘层，其覆盖下电极的端部。在平面图中观察时，第一EL元件的第一滤色器和第二EL元件的第二滤色器在重叠区域中彼此重叠，并且在平面图中观察时，第二EL元件的绝缘层的倾斜部之中最靠近第一EL元件的倾斜部与重叠区域彼此重叠。
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公开(公告)号：CN1131305A
公开(公告)日：1996-09-18
申请号：CN95113123.0
申请日：1995-12-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J1/316 , H01J9/027 , H01J2201/3165 , H01J2329/00
Abstract: 一种产生电子发射器件的方法，包括如下步骤：形成一对电极，并在一个基片上形成导电薄膜，使这对电极与导电薄膜接触，并使用导电薄膜形成一个电子发射区，其中该方法的特征在于，以微滴形式向基片提供包含一种金属元素的溶液，借此形成导电薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1130747C
公开(公告)日：2003-12-10
申请号：CN95113123.0
申请日：1995-12-15
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J1/316 , H01J9/027 , H01J2201/3165 , H01J2329/00
Abstract: 一种产生电子发射器件的方法，包括如下步骤：形成一对电极，并在一个基片上形成导电薄膜，使这对电极与导电薄膜接触，并使用导电薄膜形成一个电子发射区，其中该方法的特征在于，以微滴形式向基片提供包含一种金属元素的溶液，借此形成导电薄膜。
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公开(公告)号：CN1148184A
公开(公告)日：1997-04-23
申请号：CN95115884.8
申请日：1995-08-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02F1/133
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/133711 , G02F1/133719 , G02F1/133723 , G02F1/141 , G02F2001/133397
Abstract: 一种液晶显示装置由一对相对设置的基片组成，其中包括一个具备单轴取向特性的第一基片和一个具备非单轴取向特性的第二基片并在第一和第二基片之间设有液晶。第一和第二基片在其与液晶接触的表面上受控具有彼此间绝对值至少为50mV的表面电位差。结果，使液晶显示装置在保留良好的液晶取向特性的同时，具备了改进的转换阈值的对称性。
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公开(公告)号：CN1109980A
公开(公告)日：1995-10-11
申请号：CN94112833.4
申请日：1994-10-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: G02F1/141 , G02F1/133753 , G02F1/1416
Abstract: 一种液晶器件，它是通过一对基片，和设置在两基片之间呈现出至少两种稳定状态的手性近晶型液晶所构成。至少基片中的一个要经过包括正方向和大体上与正方向相反的反方向的两方向上的单轴排列处理，将液晶以排列状态放置，使得液晶提供一视在倾角θa-它是在所述两稳态之间的半角、相对于基片表面的倾角H和预倾角α，并形成近晶层，它与基片表面法线成倾斜角δ，其满足：和根据这种液晶器件，沿基片所不期望的液晶分子的运动可有效地得到抑制。
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公开(公告)号：CN111850463B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202010330800.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下，所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差，然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前，所述可动构件移动到预定位置。
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公开(公告)号：CN111850463A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010330800.5
申请日：2020-04-24
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及一种基板处理设备和基板处理方法。所述基板处理设备包括：成膜室，在所述成膜室中，在基板上形成膜；以及可动构件，其被配置为在所述成膜室的内部空间中支撑掩模、或者所述掩模和所述基板这两者，并且能够移动。在所述基板上形成所述膜之前，在由基板输送机构输送至所述成膜室的内部空间的所述基板与由所述可动构件支撑的所述掩模分离的状态下，所述可动构件移动以减小所述基板和所述掩模之间的对准误差，然后支撑所述基板。在由所述可动构件支撑所述基板之后并且在通过所述基板输送机构从所述成膜室取出所述基板之前，所述可动构件移动到预定位置。
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