图案转印设备、压印设备和图案转印方法

    公开(公告)号:CN101059650A

    公开(公告)日:2007-10-24

    申请号:CN200710100809.1

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 一种把在具备对准标记的印模上形成的压印图案转印到具备对准标记的基板上,或者转印到置于基板和印模之间的树脂材料上的图案转印方法,所述图案转印方法包括通过把提供给印模的对准标记和提供给参考基板的对准标记布置在第一物体位置,并通过第一图像拾取装置观察对准标记,获得第一图像的第一步骤,通过把提供给参考基板的对准标记布置在与第一物体位置分开的第二物体位置,并通过第二图像拾取装置观察对准标记,获得第二图像的第二步骤,和通过使用第一和第二图像,获得和对准标记之间图像位置方面的差异有关的信息的第三步骤。

    对准方法、压印方法、对准设备和压印设备

    公开(公告)号:CN101427185B

    公开(公告)日:2013-03-20

    申请号:CN200780013834.4

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 在用于进行两个板状物之间的对准的对准方法中,将配置有第一对准标记的第一板状物和配置有第二对准标记的第二板状物相互相对放置。将第一区域和第二区域布置在通过图像拾取装置所观察的图像拾取区域中相互不重叠的位置处。从基本上与第一和第二板状物的平面内方向垂直的方向,通过图像拾取装置,拾取第一和第二对准标记的图像。通过使用第一对准标记相对于第一区域中的预定位置的偏移的第一信息和第二对准标记相对于第二区域中的预定位置的偏移的第二信息,来进行对准控制。

    压印设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102053490A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010539354.5

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 本发明涉及一种压印设备,其执行印模和基片之间的对准并将印模的图案压印到基片的层上,该压印设备包括:支撑部,被配置为支撑印模;工作台,被配置为与支撑部支撑的印模相对地支撑基片;和显微镜,包含图像拾取装置,显微镜被配置为经由图像拾取装置的第一图像拾取区域检测具有第一周期性结构并且形成在印模中的第一对准标记,以及经由图像拾取装置的第二图像拾取区域检测具有第二周期性结构并且形成在印模中的第二对准标记,第一和第二图像拾取区域彼此不重叠,其中,压印设备被配置为使得通过将经由第一图像拾取区域检测到的第一对准标记的基频分量与经由第二图像拾取区域检测到的第二对准标记的基频分量数值相乘而获得莫尔条纹的相位。

    压印设备
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102053490B

    公开(公告)日:2014-02-05

    申请号:CN201010539354.5

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 本发明涉及一种压印设备,其执行印模和基片之间的对准并将印模的图案压印到基片的层上,该压印设备包括:支撑部,被配置为支撑印模;工作台,被配置为与支撑部支撑的印模相对地支撑基片;和显微镜,包含图像拾取装置,显微镜被配置为经由图像拾取装置的第一图像拾取区域检测具有第一周期性结构并且形成在印模中的第一对准标记,以及经由图像拾取装置的第二图像拾取区域检测具有第二周期性结构并且形成在印模中的第二对准标记,第一和第二图像拾取区域彼此不重叠,其中,压印设备被配置为使得通过将经由第一图像拾取区域检测到的第一对准标记的基频分量与经由第二图像拾取区域检测到的第二对准标记的基频分量数值相乘而获得莫尔条纹的相位。

    对准方法、压印方法、对准设备和位置测量方法

    公开(公告)号:CN101427185A

    公开(公告)日:2009-05-06

    申请号:CN200780013834.4

    申请日:2007-04-18

    Abstract: 在用于进行两个板状物之间的对准的对准方法中,将配置有第一对准标记的第一板状物和配置有第二对准标记的第二板状物相互相对放置。将第一区域和第二区域布置在通过图像拾取装置所观察的图像拾取区域中相互不重叠的位置处。从基本上与第一和第二板状物的平面内方向垂直的方向,通过图像拾取装置,拾取第一和第二对准标记的图像。通过使用第一对准标记相对于第一区域中的预定位置的偏移的第一信息和第二对准标记相对于第二区域中的预定位置的偏移的第二信息,来进行对准控制。

    曝光设备及曝光方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100419576C

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN02145784.0

    申请日:2002-10-17

    Abstract: 提供一种曝光设备,具备:对准部件,检测形成在晶片上的对准标记;晶片台,保持上述晶片;以及存储部,存储由关于上述晶片的第1信息、关于上述晶片的第2信息、以及通过检查基于上述第1信息而被曝光的上述晶片而求出的重合检查结果所决定的对准参数的值,其中,上述第1信息是通过把对准参数作为第1值来处理通过驱动上述对准部件和上述晶片台而获得的对准信号而获得的,上述第2信息是通过把上述对准参数作为不同于上述第1值的第2值来处理上述对准信号而获得的,其中预测上述晶片基于上述第2信息被曝光时可能产生的重合误差,当上述预测的重合误差好于上述重合检查结果时,将上述第2值决定为上述决定的上述对准参数的值。

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