公开(公告)号：CN1244022C

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN03108649.7

申请日：2003-04-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 岛伸一 ,  前田浩平

IPC: G03F7/22

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70358 ,  G03F9/7023

Abstract: 提供了这样的曝光装置，它的特征在于包括：具有预定成像特性的投影光学系统；设于形成应复制的图案的掩模与上述投影光学系统之间用以减少上述图案畸变的校正光学元件；配置于上述掩模的图案面侧，通过上述校正光学元件来控制上述掩模表面形状的斜入射方式的检测装置。

公开(公告)号：CN1448797A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN03108649.7

申请日：2003-04-02

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 岛伸一 ,  前田浩平

IPC: G03F7/22

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70358 ,  G03F9/7023

Abstract: 提供了这样的曝光装置，它的特征在于包括：具有预定成像特性的投影光学系统；设于形成应复制的图案的掩模与上述投影光学系统之间用以减少上述图案畸变的校正光学元件；配置于上述掩模的图案面侧，通过上述校正光学元件来控制上述掩模表面形状的斜入射方式的检测装置。