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公开(公告)号：CN1285419A
公开(公告)日：2001-02-28
申请号：CN00126009.X
申请日：2000-08-18
Applicant: 日新电机株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32614
Abstract: 本发明涉及一种电弧型蒸发源,该蒸发源拥有基本上呈柱状的阴极,其轴向长度大于其直径;阴极供料装置,用于沿该阴极的轴向向该阴极供料;阴极冷却装置,用于以冷却剂冷却该阴极的至少一侧表面;和磁线圈,用于产生基本垂直延伸到该阴极前端的蒸发表面或从该蒸发表面向外延伸的磁通。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104427736A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410415737.X
申请日：2014-08-21
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32119
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，可以提升在天线的长度方向上的基板处理的均匀性。天线形成将高频电极收纳在电介质盒内的构造。高频电极形成：使2片电极导体以两者作为整体来呈现矩形板状的方式，相互隔开间隙且接近并平行地配置，且利用导体将两电极导体的长度方向的其中一端彼此连接而构成返回导体构造，且高频电流相互逆向地流向两电极导体。且在电极导体的间隙侧的边形成开口部，将该开口部以多个分散并配置在高频电极的长度方向。将该天线以高频电极的主面与基板的表面成为实质上相互垂直的方向而配置在真空容器内。
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公开(公告)号：CN100497724C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN03178688.X
申请日：2003-07-22
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32009
Abstract: 本发明公开了一种真空电弧沉积设备，组成该沉积设备的电弧蒸发源具有多个阴极、一触发电极、一触发驱动单元、一挡板、以及一挡板驱动单元。触发驱动单元可变换触发电极的位置，从而将其定位在某个所需阴极的前方，并使触发电极在该已变换位置上与所需阴极接触/脱离。挡板遮挡着除所需阴极之外其它所有阴极的前方。挡板驱动单元使挡板移动，从而可变换未被挡板遮挡着的阴极。另外，该真空电弧沉积设备还具有一变换控制单元，用于对挡板驱动单元和触发驱动单元进行控制，由此可变换未被挡板遮挡着的阴极，并将触发电极定位在未被挡板遮挡着的阴极之前。
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公开(公告)号：CN112313791A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201980040697.6
申请日：2019-06-18
Applicant: 日新电机株式会社
Inventor： 入泽一彦
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本发明即便在变更了成为处理对象的基板的大小或材质等的情况下，也可对照变更后的基板调节支撑所述基板的位置。本发明包括：框体，载置由搬送装置所搬送的基板；以及基板交接机构，将由所述搬送装置搬送至所述框体的上方的所述基板交接至所述框体，且所述基板交接机构包含：支撑销，配置于所述框体的下方；支撑销进退机构，使所述支撑销在设定于所述框体的框内下侧的支撑销升降位置与设定于所述框体的框外的支撑销退避位置之间进退；以及支撑销升降机构，使通过所述支撑销进退机构而配置于所述支撑销升降位置的所述支撑销以穿过所述框体的框内来支撑所述基板的方式上升后下降。
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公开(公告)号：CN104427736B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410415737.X
申请日：2014-08-21
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32541 , H01J37/321 , H01J37/3211 , H01J37/32119
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置，可以提升在天线的长度方向上的基板处理的均匀性。天线形成将高频电极收纳在电介质盒内的构造。高频电极形成：使2片电极导体以两者作为整体来呈现矩形板状的方式，相互隔开间隙且接近并平行地配置，且利用导体将两电极导体的长度方向的其中一端彼此连接而构成返回导体构造，且高频电流相互逆向地流向两电极导体。且在电极导体的间隙侧的边形成开口部，将该开口部以多个分散并配置在高频电极的长度方向。将该天线以高频电极的主面与基板的表面成为实质上相互垂直的方向而配置在真空容器内。
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公开(公告)号：CN1495282A
公开(公告)日：2004-05-12
申请号：CN03178688.X
申请日：2003-07-22
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32009
Abstract: 本发明公开了一种真空电弧沉积设备，组成该沉积设备的电弧蒸发源具有多个阴极、一触发电极、一触发驱动单元、一挡板、以及一挡板驱动单元。触发驱动单元可变换触发电极的位置，从而将其定位在某个所需阴极的前方，并使触发电极在该已变换位置上与所需阴极接触/脱离。挡板遮挡着除所需阴极之外其它所有阴极的前方。挡板驱动单元使挡板移动，从而可变换未被挡板遮挡着的阴极。另外，该真空电弧沉积设备还具有一变换控制单元，用于对挡板驱动单元和触发驱动单元进行控制，由此可变换未被挡板遮挡着的阴极，并将触发电极定位在未被挡板遮挡着的阴极之前。
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