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公开(公告)号：CN106536100B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201580003729.7
申请日：2015-07-13
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: B23B27/14 , C23C16/403 , C23C16/56 , C23C28/042 , C23C28/044
Abstract: 根据本发明的表面被覆切削工具(10)包括基材(11)和形成在基材上的覆膜(12)。该覆膜包括α‑Al2O3层，所述α‑Al2O3层包含多个α‑Al2O3的晶粒，所述晶粒的粒界包括CSL粒界和一般粒界。前刀面(1)侧和后刀面(2)侧的所述α‑Al2O3层均示出(001)取向。在前刀面侧的α‑Al2O3层内，Σ3晶界的长度LR3超过Σ3‑29晶界的长度LR3‑29的80％，并且为全部粒界的总长LR的10％以上50％以下。在后刀面侧的α‑Al2O3层内，Σ3晶界的长度LF3超过Σ3‑29晶界的长度LF3‑29的80％，并且为全部粒界的总长LF的10％以上50％以下。长度LR3与长度LR3‑29之比LR3/LR3‑29小于长度LF3与长度LF3‑29之比LF3/LF3‑29。
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公开(公告)号：CN106856660A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201680002109.6
申请日：2016-06-21
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: C30B29/20 , B23B27/148 , B23B2224/04 , B23B2224/28 , B23B2224/36 , B23B2228/04 , B23B2228/105 , C23C16/0272 , C23C16/36 , C23C16/403 , C23C16/45523 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C30/005 , C30B28/14
Abstract: 表面被覆切削工具包括基材和形成在所述基材上的覆膜。所述覆膜包括α‑Al2O3层。所述α‑Al2O3层包含多个α‑Al2O3晶粒和多个κ‑Al2O3晶粒，并且织构系数TC(hkl)中的TC(006)大于5。Cκ比Cα和Cκ之和的比率：[Cκ/(Cα+Cκ)×100](％)为0.05％至7％，其中Cα为由所述覆膜的x射线衍射的测量数据获得的所述α‑Al2O3晶粒的峰计数的总数，并且Cκ为由所述覆膜的x射线衍射的测量数据获得的所述κ‑Al2O3晶粒的峰计数的总数。
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公开(公告)号：CN106660138A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580004244.X
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 根据本发明的表面被覆切削工具(10)包括基材(11)和在基材上形成的覆膜(12)。该覆膜具有包含多个α‑Al2O3的晶粒的α‑Al2O3层(16)。所述α‑Al2O3层包括在厚度方向上位于基材侧并且厚度为1μm的下层部分(16B)，以及位于与所述基材侧相对的表面侧并且厚度为2μm的上层部分(16A)。对于沿着包括所述α‑Al2O3层的表面的法线的平面切割所述α‑Al2O3层而获得的截面，当通过FE‑SEM对所述截面进行EBSD分析从而指定所述晶粒各自的晶体取向，并且基于所述晶体取向制作彩色图时，在所述彩色图中，在所述上层部分中，(001)面的法线方向相对于所述α‑Al2O3层的表面的法线方向在±10°之内的晶粒所占据的面积为90％以上，并且在所述下层部分中，所述面积为50％以下。
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公开(公告)号：CN106660139B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201580004924.1
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种表面被覆切削工具，包括基材和形成在所述基材上的覆膜。所述覆膜包括α‑Al2O3层(1)。所述α‑Al2O3层(1)包含α‑Al2O3晶粒和硫，并且在织构系数TC(hkl)中具有大于5的TC(006)。所述硫具有这样的浓度分布，其中在α‑Al2O3层的厚度方向上，沿着远离α‑Al2O3层的基材侧表面的方向，硫的浓度降低。
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公开(公告)号：CN106660139A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580004924.1
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 一种表面被覆切削工具，包括基材和形成在所述基材上的覆膜。所述覆膜包括α‑Al2O3层(1)。所述α‑Al2O3层(1)包含α‑Al2O3晶粒和硫，并且在织构系数TC(hkl)中具有大于5的TC(006)。所述硫具有这样的浓度分布，其中在α‑Al2O3层的厚度方向上，沿着远离α‑Al2O3层的基材侧表面的方向，硫的浓度降低。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106103793A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201580014264.5
申请日：2015-09-30
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 本发明为一种硬质覆膜，其中：所述硬质覆膜包括两个第一结晶相以及配置于所述两个第一结晶相之间的第二结晶相；所述两个第一结晶相各自独立地包括Ti1–x1Alx1N相和Alx2Ti1–x2N相交替层叠的层叠结构，其中所述Ti1–x1Alx1N相具有氯化钠型晶体结构并且所述Alx2Ti1–x2N相具有氯化钠型晶体结构；所述Ti1–x1Alx1N相中的Al组成比x1满足关系式0.5≤x1≤0.75；所述Alx2Ti1–x2N相中的Al组成比x2满足关系式0.75
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公开(公告)号：CN106660138B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201580004244.X
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 根据本发明的表面被覆切削工具(10)包括基材(11)和在基材上形成的覆膜(12)。该覆膜具有包含多个α‑Al2O3的晶粒的α‑Al2O3层(16)。所述α‑Al2O3层包括在厚度方向上位于基材侧并且厚度为1μm的下层部分(16B)，以及位于与所述基材侧相对的表面侧并且厚度为2μm的上层部分(16A)。对于沿着包括所述α‑Al2O3层的表面的法线的平面切割所述α‑Al2O3层而获得的截面，当通过FE‑SEM对所述截面进行EBSD分析从而指定所述晶粒各自的晶体取向，并且基于所述晶体取向制作彩色图时，在所述彩色图中，在所述上层部分中，(001)面的法线方向相对于所述α‑Al2O3层的表面的法线方向在±10°之内的晶粒所占据的面积为90％以上，并且在所述下层部分中，所述面积为50％以下。
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公开(公告)号：CN106660137B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201580004243.5
申请日：2015-08-28
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 根据本发明的表面被覆切削工具(10)中所包括的覆膜(12)具有包含多个α‑Al2O3晶粒的α‑Al2O3层。在平行于α‑Al2O3层的表面的加工面的15μm见方的彩色图中，粗晶粒A所占据的面积A1为50％以下，并且面积A1中具有(001)面取向的晶粒所占据的面积A2为90％以上，α‑Al2O3中的中等尺寸晶粒B所占据的面积B1为20％以上50％以下，并且面积B1中具有(001)面取向的晶粒所占据的面积B2为90％以上，α‑Al2O3中的微细晶粒C所占据的面积C1为10％以上50％以下，并且面积C1中具有(001)面取向的晶粒所占据的面积C2为50％以上，并且相对于彩色图的总面积，面积A1、面积B1及面积C1的总面积所占的比例为95％以上。
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公开(公告)号：CN106103793B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201580014264.5
申请日：2015-09-30
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
Abstract: 本发明为一种硬质覆膜，其中：所述硬质覆膜包括两个第一结晶相以及配置于所述两个第一结晶相之间的第二结晶相；所述两个第一结晶相各自独立地包括Ti1–x1Alx1N相和Alx2Ti1–x2N相交替层叠的层叠结构，其中所述Ti1–x1Alx1N相具有氯化钠型晶体结构并且所述Alx2Ti1–x2N相具有氯化钠型晶体结构；所述Ti1–x1Alx1N相中的Al组成比x1满足关系式0.5≤x1≤0.75；所述Alx2Ti1–x2N相中的Al组成比x2满足关系式0.75
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公开(公告)号：CN106856658A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：CN201580004925.6
申请日：2015-10-09
Applicant: 住友电工硬质合金株式会社
CPC classification number: B23B27/148 , B23B2224/04 , B23B2224/32 , B23B2228/04 , B23B2228/105 , C23C16/0272 , C23C16/403 , C23C16/56 , C23C28/044
Abstract: 一种表面被覆切削工具，包括基材和形成在所述基材上的覆膜。所述覆膜包括含有多个α‑Al2O3晶粒的α‑Al2O3层。所述α‑Al2O3层包括设置在基材侧的下层部、设置在下层部上的中间部以及设置在中间部上的上层部。在利用电子背散射衍射分析装置对α‑Al2O3层的截面抛光面进行的晶体取向成像中，所述下层部中具有(001)取向的α‑Al2O3晶粒的面积比小于35％，所述中间部中具有(001)取向的α‑Al2O3晶粒的面积比为35％以上，并且所述上层部中具有(001)取向的α‑Al2O3晶粒的面积比小于35％。所述α‑Al2O3层的厚度为4μm至18μm，并且所述中间部的厚度占α‑Al2O3层厚度的50％以上，所述下层部和所述上层部各自的厚度为1μm以上。
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