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公开(公告)号：CN104160479B
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201380013532.2
申请日：2013-02-01
Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 提供了一种用于制造半导体结构的解决方案。该半导体结构包括使用一组外延生长周期生长在基板上的多个半导体层。在每个外延生长周期期间，生长具有拉伸应力或压缩应力中的一个的第一半导体层，然后直接在第一半导体层上生长具有拉伸应力或压缩应力中的另一个的第二半导体层。一组生长条件中的一个或多个、一层或两层的厚度、和/或层之间的晶格失配，可以被配置成在层之间的界面的最小百分比内产生目标级别的压缩和/或拉伸应力。
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公开(公告)号：CN105006505B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201510179524.6
申请日：2015-04-15
Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 本发明涉及具有应力管理的半导体异质结构。提供了一种异质结构，包括：衬底；和在所述衬底上外延生长的族III氮化物层，其中，所述族III氮化物层包括：第一族III氮化物材料和具有第一厚度的多个子层；和第二族III氮化物材料和具有第二厚度的多个薄子层，以及其中，所述多个子层与所述多个薄子层交替，其中，所述第一族III氮化物材料包括至少0.05的镓的摩尔分数，其中，所述第一族III氮化物材料中的镓的摩尔分数与所述第一族III氮化物材料中镓的摩尔分数有至少0.05的差异，且其中，所述第二厚度是所述第一厚度的最多百分之五。
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公开(公告)号：CN104979440B
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201510170384.6
申请日：2015-04-10
Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 提供了配置用于其上的半导体层的外延生长的复合衬底。复合衬底包括由具有不同热膨胀系数的不同材料制成的多个衬底层。半导体层的材料的热膨胀系数可以在衬底层材料的热系数之间。复合衬底可以具有配置为减小在针对使用异质结构制造的器件的工作温度和/或室内温度下的半导体层内的拉伸应力量的复合热膨胀系数。
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公开(公告)号：CN105263531B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201480016435.3
申请日：2014-03-18
Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 用于给可流动产品，诸如液体、混悬剂、霜剂、胶体、乳剂、粉末等等，以及与其相关的配件和产品，诸如容器、帽、刷子、敷抹器等等，消毒的解决方案。在实施例中，紫外线防渗帽被配置为封住对应于可流动产品的容积。至少一个紫外线辐射源可以被安装在帽上并且被配置为产生用于给被封区域消毒的紫外线辐射。紫外线辐射源可被配置为只有在容积被紫外线防渗帽封住时才产生紫外线辐射。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104736261A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380053723.1
申请日：2013-08-28
Applicant: 传感器电子技术股份有限公司
CPC classification number: A61L2/10 , A61L2202/14 , A61L2202/21 , F25D17/042 , F25D27/005 , F25D2317/0417
Abstract: 紫外辐射被指向区域中。位于该区域中的物品和/或该区域的一个或多个条件在一段时间上被监视。基于该监视，通过调整由紫外辐射源生成的紫外辐射的方向、强度、模式和/或频谱功率来控制紫外辐射源。对紫外辐射源的调整可以对应于包括存储期限保存操作配置、消毒操作配置和乙烯分解操作配置的多个可选择的操作配置中之一，每种操作配置可以包括对应的目标波长范围和/或目标强度范围。
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公开(公告)号：CN111035859B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201911314813.7
申请日：2015-10-28
Applicant: 首尔伟傲世有限公司 , 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 公开了一种紫外处理装置，所述紫外处理装置包括：柔性基底，包括位于第一侧上的紫外吸收层和与第一侧相对定位的第二侧；以及紫外辐射系统，结合到柔性基底，其中，紫外辐射系统包括：被构造为穿过第二侧发射紫外辐射的至少一个紫外辐射源、被配置为控制所述至少一个紫外辐射源的操作的控制系统、以及被配置为检测与第二侧邻近定位的表面上的病原体活性的至少一个感测单元，其中，控制系统基于病原体活性控制所述至少一个紫外辐射源的操作。
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公开(公告)号：CN112316173A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011283256.X
申请日：2015-09-14
Applicant: 首尔伟傲世有限公司 , 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 提供了一种漫射照明器。所述漫射照明器包括一组光源和包括多个层的导光结构。层中的至少一些层可由含氟聚合物形成，至少一个层可由透明流体形成。导光结构还包括漫射光通过其射出的发射表面。导光结构还可包括与所述多个层中的至少一层相关的漫射元件。每个漫射元件可使光漫射到朗伯分布的40％之内。漫射元件可基于在与待照射表面相对应的目标距离处的漫射光的期望的均匀性来布置。漫射照明器可发射紫外光，并且可实现为杀菌系统的一部分。
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公开(公告)号：CN111905123A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010843044.6
申请日：2015-10-15
Applicant: 首尔伟傲世有限公司 , 传感器电子技术股份有限公司
Abstract: 提供了一种能够使用紫外辐射对物体的表面检测和/或灭菌的系统。所述系统可以包括包含用于诱导污染物中的荧光和/或对物体的表面进行灭菌的紫外源的杀菌室和/或手持式紫外单元。所述物体可以包括防护服，所述防护服由使用者穿戴并且还可以包括用于在空气进入防护服之前对空气杀菌的紫外源。所述系统可以实施为多层次系统，其用于保护使用者和其它物体免受暴露于污染物，并且在暴露到包括污染物的环境之后对防护服进行灭菌。
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