-
公开(公告)号:CN117859210A
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202280057881.3
申请日:2022-08-24
Applicant: 京瓷株式会社
IPC: H01L33/32 , C23C16/04 , C30B25/04 , H01L21/205 , H01L21/301 , H01S5/343
Abstract: 进行如下工序:准备在主基板的上方形成有第1半导体部(S1)的半导体基板(11);通过在第1半导体部(S1)形成多个沟槽(TR),来将第1半导体部(S1)分割成多个基底半导体部(8);和在多个基底半导体部(8)的至少1个的上方形成化合物半导体部(9)。
-
公开(公告)号:CN117678081A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202280050232.0
申请日:2022-07-15
Applicant: 京瓷株式会社
Abstract: 具备:半导体基板,具备主基板、位于比主基板更上方且包含掩模部以及开口部的掩模、和位于比掩模更上方的基底半导体部;和化合物半导体部,位于比半导体基板更上方,具有第1发光部,半导体基板包含:第1孔洞,在厚度方向上贯通主基板,在第1发光部的下方与第1发光部重叠。
-