一种基于多重反射的光压测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114323273B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202111476853.9

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本发明涉及一种基于多重反射的光压测量装置及方法,其装置包括称重模块、传感反射镜和反射单元,称重模块固定设置,传感反射镜水平固定安装在称重模块上;反射单元固定架设在传感反射镜的上方,用于将入射激光反射至传感反射镜,且激光在反射单元和传感反射镜之间经多次反射后射出。本发明的有益效果是结构简单,体积较小,便于调整和校准,且其能够实现激光在传感反射镜上的多次反射,大大提高光压的增益,从而提高了光压测量的精确度。

    高功率激光直径测量装置

    公开(公告)号:CN119223181B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411313390.8

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本公开提供了一种高功率激光直径测量装置,第一反射体和第二反射体分别设置于待测的高功率激光光束入射进入探测器的光路上,激光光束中被第一反射体遮挡的部分被第一反射体反射至第一收集器,激光光束中被第二反射体遮挡的部分被第二反射体反射至第二收集器;第一反射体和第二反射体均安装于第一支架,第一支架通过连接板集成安装于由第一位移台和第二位移台构成的位移台组;第一远心镜头、第一图像传感器、第二远心镜头和第二图像传感器分别用于对第一反射体和第二反射体进行实时观测。本公开提出的高功率激光直径测量装置,能够减少直径测量误差来源,提高测量准确度,可用于激光直径的直接测量,也可作为计量标准装置,校准其他高功率激光光斑分析仪。

    高功率激光直径测量装置

    公开(公告)号:CN119223181A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411313390.8

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本公开提供了一种高功率激光直径测量装置,第一反射体和第二反射体分别设置于待测的高功率激光光束入射进入探测器的光路上,激光光束中被第一反射体遮挡的部分被第一反射体反射至第一收集器,激光光束中被第二反射体遮挡的部分被第二反射体反射至第二收集器;第一反射体和第二反射体均安装于第一支架,第一支架通过连接板集成安装于由第一位移台和第二位移台构成的位移台组;第一远心镜头、第一图像传感器、第二远心镜头和第二图像传感器分别用于对第一反射体和第二反射体进行实时观测。本公开提出的高功率激光直径测量装置,能够减少直径测量误差来源,提高测量准确度,可用于激光直径的直接测量,也可作为计量标准装置,校准其他高功率激光光斑分析仪。

    利用光压或光辐射压力效应的测量方法及测量装置

    公开(公告)号:CN118392301A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410611467.3

    申请日:2024-05-16

    Abstract: 本发明涉及光学领域,提供一种利用光压或光辐射压力效应的测量方法及测量装置,方法包括:将物体静止悬浮设置;将准直、连续、功率稳定的光束垂直入射于物体的表面;测量物体在光束作用下的加速度;根据物体的加速度、质量、透射比、反射比以及受到的阻力,确定光束的光辐射功率;或,根据光束的光辐射功率、物体的加速度、透射比、反射比以及受到的阻力,确定物体的质量。本发明提供的方法,可以根据已知参数测量特定光束的光辐射功率或特定物体的质量,而且通过合理的数学转换,可以实现特定光束的光辐射功率与特定物体的质量的双向测量,即在同一测量中既可以测量光辐射功率也可以测量物体质量,提高了测量的灵活性和多功能性。

    一种辐射计校准用光源系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114812800A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210370932.X

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 一种辐射计校准用光源系统,用于辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等在高色温高辐照度条件下的标定和校准,包括:辐射光源、辐射隔热连接体、反射内壳、结构外壳、法兰、辐射调节器、匀光臂、开关挡板和冷却管路。辐射光源发出光辐射,通过反射内壁收集辐射光源发出的光辐射,向前会聚辐出;通过匀光内臂将光辐射导出并使辐射光场空间均匀化,通过辐照调节器调节辐照度和辐照光谱;在反射内壳、反射外壳之间留有间隙,通过冷媒冷却。本发明可提供高色温下50kW/m2以上的均匀辐照场,具有辐射照度高、辐照场均匀性好、高能效和无背景辐射干扰等优点,可拓展辐射计校准量限并提高准确度。

    在太赫兹波段具有宽带高吸收率涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN103191857A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201310119892.2

    申请日:2013-04-08

    Inventor: 邓玉强 孙青 于靖

    Abstract: 一种在太赫兹波段具有宽带高吸收率涂层的制备方法,包括如下步骤:步骤1:取碳化硅颗粒和黑漆涂料;步骤2:将碳化硅颗粒和黑漆涂料混合;步骤3:将混合后的碳化硅颗粒和黑漆涂料喷涂在基底材料的表面;步骤4:将喷涂有混合后的碳化硅颗粒和黑漆涂料的基底材料晾干或烘干,完成制备。本发明具有制备简单、吸收率高、吸收带宽宽的涂层材料,通过混合碳化硅颗粒和黑漆涂层,实现了频率大于0.05THz(对应波长小于6mm)的电磁辐射的宽波段全吸收,该涂层可用于太赫兹波段辐射强度的绝对测量和目标在太赫兹波段的隐身。

    一种基于微悬臂器件的激光功率测量装置与方法

    公开(公告)号:CN116358700A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202310649178.8

    申请日:2023-06-02

    Abstract: 本发明公开了一种基于微悬臂器件的激光功率测量装置与方法,包括高能激光发射单元,所述测量模块包括微悬臂器件和玻璃板,在所述高能激光发射单元的入射光路上设置微悬臂器件,光纤干涉仪通过探测光纤与测量模块连接用以测量微悬臂器件中心盘位移量,所述微悬臂器件和所述玻璃板之间设置有腔体用以产生压膜阻尼,用以提高信噪比和阻尼振动时间参数。本发明结构简单,利用压膜阻尼便可抑制阻尼振动和噪声,无需考虑双弹簧芯片质量平衡的问题;相比于电容式压力传感器:避免了电容边缘场效应带来的测量误差,具有更高的信噪比。

    高功率激光功率测量系统
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112504447A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202011445319.7

    申请日:2020-12-08

    Inventor: 孙青 林延东 马冲

    Abstract: 本发明公开了高功率激光功率测量系统,涉及激光测量技术领域。包括:测量反射镜、测量模块和反射镜组,其中,测量反射镜的非反光面与测量模块的测量端连接,且测量模块的测量方向与测量反射镜的反光面垂直,反射镜组用于改变入射的高功率激光的光路,使高功率激光经过测量反射镜的反射后沿入射光路的方向射出。发明测量系统的体积小、重量轻、响应速度快、无需水冷且可在线测量,测量准确度高且稳定性好。

    在太赫兹波段具有宽带高吸收率涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN103191857B

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201310119892.2

    申请日:2013-04-08

    Inventor: 邓玉强 孙青 于靖

    Abstract: 一种在太赫兹波段具有宽带高吸收率涂层的制备方法,包括如下步骤:步骤1:取碳化硅颗粒和黑漆涂料;步骤2:将碳化硅颗粒和黑漆涂料混合;步骤3:将混合后的碳化硅颗粒和黑漆涂料喷涂在基底材料的表面;步骤4:将喷涂有混合后的碳化硅颗粒和黑漆涂料的基底材料晾干或烘干,完成制备。本发明具有制备简单、吸收率高、吸收带宽宽的涂层材料,通过混合碳化硅颗粒和黑漆涂层,实现了频率大于0.05THz(对应波长小于6mm)的电磁辐射的宽波段全吸收,该涂层可用于太赫兹波段辐射强度的绝对测量和目标在太赫兹波段的隐身。

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