一种双楔腔绝对辐射计
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115014512B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202210637696.3

    申请日:2022-06-07

    Abstract: 一种双楔腔绝对辐射计,包括第一矩形平面传感单元、第二矩形平面传感单元、第三矩形平面传感单元、第四矩形平面传感单元、反射支撑体和光阑。反射支撑体固定连接于第一至第四矩形平面传感单元的侧边,与第一及第二矩形平面传感单元构成用于光辐射探测的第一楔腔空间,同时与第三及第四矩形平面传感单元构成用于补偿背景漂移的第二楔腔空间。本发明采用楔形腔作为光辐射接收结构,光辐射照射面为平面,相对于传统圆锥腔,在保证宽光谱高吸收率的同时,改善了器件面响应均匀性,并使加热层与传感层核心器件更易于标准化批量加工、制造及装配,大幅提高了器件的生产效率、量产一致性及其计量特性。

    一种基于多重反射的光压测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114323273B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202111476853.9

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本发明涉及一种基于多重反射的光压测量装置及方法,其装置包括称重模块、传感反射镜和反射单元,称重模块固定设置,传感反射镜水平固定安装在称重模块上;反射单元固定架设在传感反射镜的上方,用于将入射激光反射至传感反射镜,且激光在反射单元和传感反射镜之间经多次反射后射出。本发明的有益效果是结构简单,体积较小,便于调整和校准,且其能够实现激光在传感反射镜上的多次反射,大大提高光压的增益,从而提高了光压测量的精确度。

    一种双楔腔绝对辐射计
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115014512A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210637696.3

    申请日:2022-06-07

    Abstract: 一种双楔腔绝对辐射计,包括第一矩形平面传感单元、第二矩形平面传感单元、第三矩形平面传感单元、第四矩形平面传感单元、反射支撑体和光阑。反射支撑体固定连接于第一至第四矩形平面传感单元的侧边,与第一及第二矩形平面传感单元构成用于光辐射探测的第一楔腔空间,同时与第三及第四矩形平面传感单元构成用于补偿背景漂移的第二楔腔空间。本发明采用楔形腔作为光辐射接收结构,光辐射照射面为平面,相对于传统圆锥腔,在保证宽光谱高吸收率的同时,改善了器件面响应均匀性,并使加热层与传感层核心器件更易于标准化批量加工、制造及装配,大幅提高了器件的生产效率、量产一致性及其计量特性。

    一种基于多重反射的光压测量装置及方法

    公开(公告)号:CN114323273A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202111476853.9

    申请日:2021-12-06

    Abstract: 本发明涉及一种基于多重反射的光压测量装置及方法,其装置包括称重模块、传感反射镜和反射单元,称重模块固定设置,传感反射镜水平固定安装在称重模块上;反射单元固定架设在传感反射镜的上方,用于将入射激光反射至传感反射镜,且激光在反射单元和传感反射镜之间经多次反射后射出。本发明的有益效果是结构简单,体积较小,便于调整和校准,且其能够实现激光在传感反射镜上的多次反射,大大提高光压的增益,从而提高了光压测量的精确度。

    一种辐射计校准用光源系统

    公开(公告)号:CN110657886A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910977230.6

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 一种辐射计校准用光源系统,用于辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等在高色温高辐照度条件下的标定和校准,包括:辐射光源、辐射光源连接件、反射内壳、结构外壳、后法兰、前法兰、辐射调节器、导光内臂、导光外臂、开关挡板和冷却管路。辐射光源发出光辐射,通过反射内壁收集辐射光源发出的光辐射,向前会聚辐出;通过导光内臂将光辐射导出并使辐射光场空间均匀化,通过辐照调节器调节辐照度和辐照光谱;在反射内壳、反射外壳之间留有间隙,通过冷媒冷却。本发明可提供高色温下50kW/m2以上的均匀辐照场,具有辐射照度高、辐照场均匀性好、高能效和无背景辐射干扰等优点,可拓展辐射计校准量限并提高准确度。

    高功率激光直径测量装置

    公开(公告)号:CN119223181B

    公开(公告)日:2025-05-02

    申请号:CN202411313390.8

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本公开提供了一种高功率激光直径测量装置,第一反射体和第二反射体分别设置于待测的高功率激光光束入射进入探测器的光路上,激光光束中被第一反射体遮挡的部分被第一反射体反射至第一收集器,激光光束中被第二反射体遮挡的部分被第二反射体反射至第二收集器;第一反射体和第二反射体均安装于第一支架,第一支架通过连接板集成安装于由第一位移台和第二位移台构成的位移台组;第一远心镜头、第一图像传感器、第二远心镜头和第二图像传感器分别用于对第一反射体和第二反射体进行实时观测。本公开提出的高功率激光直径测量装置,能够减少直径测量误差来源,提高测量准确度,可用于激光直径的直接测量,也可作为计量标准装置,校准其他高功率激光光斑分析仪。

    高功率激光直径测量装置

    公开(公告)号:CN119223181A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411313390.8

    申请日:2024-09-20

    Abstract: 本公开提供了一种高功率激光直径测量装置,第一反射体和第二反射体分别设置于待测的高功率激光光束入射进入探测器的光路上,激光光束中被第一反射体遮挡的部分被第一反射体反射至第一收集器,激光光束中被第二反射体遮挡的部分被第二反射体反射至第二收集器;第一反射体和第二反射体均安装于第一支架,第一支架通过连接板集成安装于由第一位移台和第二位移台构成的位移台组;第一远心镜头、第一图像传感器、第二远心镜头和第二图像传感器分别用于对第一反射体和第二反射体进行实时观测。本公开提出的高功率激光直径测量装置,能够减少直径测量误差来源,提高测量准确度,可用于激光直径的直接测量,也可作为计量标准装置,校准其他高功率激光光斑分析仪。

    一种辐射计校准用光源系统

    公开(公告)号:CN114812800A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210370932.X

    申请日:2019-10-14

    Abstract: 一种辐射计校准用光源系统,用于辐射热计、辐射式热流计、总辐射表、全光谱辐射计、辐射传感器等在高色温高辐照度条件下的标定和校准,包括:辐射光源、辐射隔热连接体、反射内壳、结构外壳、法兰、辐射调节器、匀光臂、开关挡板和冷却管路。辐射光源发出光辐射,通过反射内壁收集辐射光源发出的光辐射,向前会聚辐出;通过匀光内臂将光辐射导出并使辐射光场空间均匀化,通过辐照调节器调节辐照度和辐照光谱;在反射内壳、反射外壳之间留有间隙,通过冷媒冷却。本发明可提供高色温下50kW/m2以上的均匀辐照场,具有辐射照度高、辐照场均匀性好、高能效和无背景辐射干扰等优点,可拓展辐射计校准量限并提高准确度。

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