一种基于零维金属卤化物的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112331793A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202011242065.9

    申请日:2020-11-09

    Abstract: 本发明公开了一种基于零维金属卤化物的发光二极管及其制备方法。该发光二极管包括溶液和器件结构,所述溶液包括PEDOT:PSS、溶于氯苯的Poly‑TPD溶液以及溶于DMSO的Ph4PCl和SbCl3溶液,其中Ph4PCl和SbCl3的摩尔比为2:1。所述的器件结构为ITO/PEDOT:PSS/Poly‑TPD/(Ph4P2)SbCl5/TPBi/LiF/Al。从而实现零维金属卤化物的橙色电致发光器件,以促进零维金属卤化物在显示照明上的应用。本发明中的各功能层对环境友好,制备方法简便,同时适应于其它零维金属卤化物,具有良好的应用前景。

    一种离子型大位阻锑化物发光材料的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN115073523B

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202210856357.4

    申请日:2022-07-15

    Abstract: 本发明属于发光材料领域,具体涉及一种离子型大位阻锑化物发光材料及其制备方法和应用。其化学式为C66H60X3SbCl6(其中X=Sb,As,P,优选Sb)。本发明的发光材料在250‑450nm有很宽的激发带,最佳激发峰位于365nm处,可以很好的与商用紫外芯片相匹配,发射出发射峰位于619nm的明亮橙黄色发光。该材料制备方法简单易行、对环境友好,克服了传统铅基钙钛矿材料的毒性和不稳定性;而且此离子型大位阻锑化物发光材料的成本低,反应条件温和,生产周期短,荧光量子产率高,在白光照明和高能射线探测及成像领域具有非常好的发展前景。

    一种基于零维金属卤化物的发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112331793B

    公开(公告)日:2024-08-20

    申请号:CN202011242065.9

    申请日:2020-11-09

    Abstract: 本发明公开了一种基于零维金属卤化物的发光二极管及其制备方法。该发光二极管包括溶液和器件结构,所述溶液包括PEDOT:PSS、溶于氯苯的Poly‑TPD溶液以及溶于DMSO的Ph4PCl和SbCl3溶液,其中Ph4PCl和SbCl3的摩尔比为2:1。所述的器件结构为ITO/PEDOT:PSS/Poly‑TPD/(Ph4P)2SbCl5/TPBi/LiF/Al。从而实现零维金属卤化物的橙色电致发光器件,以促进零维金属卤化物在显示照明上的应用。本发明中的各功能层对环境友好,制备方法简便,同时适应于其它零维金属卤化物,具有良好的应用前景。

    一种离子型大位阻锑化物发光材料的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN115073523A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210856357.4

    申请日:2022-07-15

    Abstract: 本发明属于发光材料领域,具体涉及一种离子型大位阻锑化物发光材料及其制备方法和应用。其化学式为C66H60X3SbCl6(其中X=Sb,As,P,优选Sb)。本发明的发光材料在250‑450nm有很宽的激发带,最佳激发峰位于365nm处,可以很好的与商用紫外芯片相匹配,发射出发射峰位于619nm的明亮橙黄色发光。该材料制备方法简单易行、对环境友好,克服了传统铅基钙钛矿材料的毒性和不稳定性;而且此离子型大位阻锑化物发光材料的成本低,反应条件温和,生产周期短,荧光量子产率高,在白光照明和高能射线探测及成像领域具有非常好的发展前景。

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