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公开(公告)号:CN118507236A
公开(公告)日:2024-08-16
申请号:CN202410590405.9
申请日:2024-05-13
Applicant: 中国计量大学 , 绵阳量大技术创新服务有限公司
Abstract: 本发明涉及永磁材料制备技术领域,提一种提高钐钴磁体耐高低温温度冲击的方法,所述制备方法包括:(1)对钐钴磁体表面使用低于钐钴磁体熔点温度的激光进行加热处理;(2)同时对磁体表面激光加热区域施加局域磁场;(3)上述方法将使钐钴磁体表面的部分元素提前扩散,使磁体表面完成部分氧化,对内部磁体形成保护,延迟氧化和高温应用时的元素扩散,优化了磁体高温应用的磁稳定性,从而提高钐钴磁体的温度冲击性能。
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公开(公告)号:CN118099040A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202410426713.8
申请日:2024-04-10
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明公布了一种晶圆清洗装置,包括晶圆件A,还包括清洗箱、毛刷座、第一传动辊、第二传动辊和电机,所述清洗箱的一侧贯穿连接有排污管,且排污管连通在清洗箱内壁底部,本发明的有益效果是,首先通过设置的第一传动辊和第二传动辊相互配合,从而能够对放入的晶圆件进行夹持定位,然后通过设置的电机能够驱动夹持的晶圆件在清洗箱内部旋转,最后将清洗箱注入清洗液,使设置的晶圆件前后的两个刷条对其进行刷洗,结构合理,能够使晶圆件旋转刷洗,能够提高清洁的效果。
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公开(公告)号:CN118064970A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410414999.8
申请日:2024-04-08
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本发明涉及半导体设备技术领域,特别涉及一种碳化硅外延生长反应室,包括:第一发热体与第二发热体,所述第二发热体的内部的顶端设有放置槽,所述第一发热体外表面套接有第一连接板,所述第二发热体的外表面套接有第二连接板,所述第一连接板与第二连接板的端面分别设有第一连接孔与第二连接孔,所述第一连接孔与第二连接孔分别活动连接第一连接轴与第二连接轴,所述第一连接轴与第二连接轴设置在第一端板的一侧面,所述第一端板的端面连接保温筒,通过设置第一端板,实现对第一发热体与第二发热体的固定,可在使用过程中,防止第一发热体与第二发热体在保温筒内会发生相对旋转,导致散热路径发生改变,从而影响反应室温场分布。
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公开(公告)号:CN222779359U
公开(公告)日:2025-04-22
申请号:CN202421487764.3
申请日:2024-06-27
Applicant: 中国计量大学
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B49/04 , B24B37/005
Abstract: 本实用新型公开了一种改善晶圆抛光平整度的抛光装置,包括底座和抛光仓,所述底座顶部的一端安装有抛光仓,且底座顶部远离抛光仓的一端安装有步进电机,所述步进电机的输出端安装有第一转轴,且第一转轴的顶部安装有转动板,所述抛光仓内部的底部安装有第三伺服电机。本实用新型安装有第二伺服电机、第二转轴、抛光磨片、磁性抛光盘、第三转轴和第三伺服电机,抛光时,第二伺服电机通过第二转轴带动抛光磨片顺时针转动,可通过抛光磨片对晶圆进行抛光处理,且第三伺服电机通过第三转轴带动磁性抛光盘逆时针转动,即可带动晶圆转动,可将晶圆不同位置处转动至抛光磨片下方进行抛光处理,有利于将晶圆抛光均匀。
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公开(公告)号:CN222434682U
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202420706255.9
申请日:2024-04-08
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本实用新型涉及半导体设备技术领域,特别涉及一种碳化硅外延生长反应室,包括:第一发热体与第二发热体,所述第二发热体的内部的顶端设有放置槽,所述第一发热体外表面套接有第一连接板,所述第二发热体的外表面套接有第二连接板,所述第一连接板与第二连接板的端面分别设有第一连接孔与第二连接孔,所述第一连接孔与第二连接孔分别活动连接第一连接轴与第二连接轴,所述第一连接轴与第二连接轴设置在第一端板的一侧面,所述第一端板的端面连接保温筒,通过设置第一端板,实现对第一发热体与第二发热体的固定,可在使用过程中,防止第一发热体与第二发热体在保温筒内会发生相对旋转,导致散热路径发生改变,从而影响反应室温场分布。
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公开(公告)号:CN221147656U
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202323012732.6
申请日:2023-11-08
Applicant: 中国计量大学
IPC: G01D11/00
Abstract: 本实用新型涉及光电检测技术领域,具体为一种嵌入式光电检测装置,包括装置主体、显示屏和防护壳,装置主体的上端安装有显示屏,装置主体的侧面焊接有防护壳,防护壳的上端开设有嵌入槽,防护壳内开设有L型导向槽,L型导向槽的下端贯穿开设有通槽,嵌入槽内活动插接有光电传感器,光电传感器的侧面焊接有对接块,光电传感器的下端匹配安装有连接线,连接线的一端穿过通槽与装置主体连接,防护壳内对称安装有定位机构,本实用新型的有益效果是:对光电传感器安装时,将光电传感器的下端沿着嵌入槽插入,通过设置的定位机构对对接块进行固定,从而使光电传感器与防护壳之间固定连接,此时将连接线的一端穿过通槽与光电传感器下端的接口连接。
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公开(公告)号:CN222421896U
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN202420730643.0
申请日:2024-04-10
Applicant: 中国计量大学
Abstract: 本实用新型公布了一种晶圆清洗装置,包括晶圆件A,还包括清洗箱、毛刷座、第一传动辊、第二传动辊和电机,所述清洗箱的一侧贯穿连接有排污管,且排污管连通在清洗箱内壁底部,本实用新型的有益效果是,首先通过设置的第一传动辊和第二传动辊相互配合,从而能够对放入的晶圆件进行夹持定位,然后通过设置的电机能够驱动夹持的晶圆件在清洗箱内部旋转,最后将清洗箱注入清洗液,使设置的晶圆件前后的两个刷条对其进行刷洗,结构合理,能够使晶圆件旋转刷洗,能够提高清洁的效果。
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