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公开(公告)号:CN221147656U
公开(公告)日:2024-06-14
申请号:CN202323012732.6
申请日:2023-11-08
Applicant: 中国计量大学
IPC: G01D11/00
Abstract: 本实用新型涉及光电检测技术领域,具体为一种嵌入式光电检测装置,包括装置主体、显示屏和防护壳,装置主体的上端安装有显示屏,装置主体的侧面焊接有防护壳,防护壳的上端开设有嵌入槽,防护壳内开设有L型导向槽,L型导向槽的下端贯穿开设有通槽,嵌入槽内活动插接有光电传感器,光电传感器的侧面焊接有对接块,光电传感器的下端匹配安装有连接线,连接线的一端穿过通槽与装置主体连接,防护壳内对称安装有定位机构,本实用新型的有益效果是:对光电传感器安装时,将光电传感器的下端沿着嵌入槽插入,通过设置的定位机构对对接块进行固定,从而使光电传感器与防护壳之间固定连接,此时将连接线的一端穿过通槽与光电传感器下端的接口连接。
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公开(公告)号:CN222779359U
公开(公告)日:2025-04-22
申请号:CN202421487764.3
申请日:2024-06-27
Applicant: 中国计量大学
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B49/04 , B24B37/005
Abstract: 本实用新型公开了一种改善晶圆抛光平整度的抛光装置,包括底座和抛光仓,所述底座顶部的一端安装有抛光仓,且底座顶部远离抛光仓的一端安装有步进电机,所述步进电机的输出端安装有第一转轴,且第一转轴的顶部安装有转动板,所述抛光仓内部的底部安装有第三伺服电机。本实用新型安装有第二伺服电机、第二转轴、抛光磨片、磁性抛光盘、第三转轴和第三伺服电机,抛光时,第二伺服电机通过第二转轴带动抛光磨片顺时针转动,可通过抛光磨片对晶圆进行抛光处理,且第三伺服电机通过第三转轴带动磁性抛光盘逆时针转动,即可带动晶圆转动,可将晶圆不同位置处转动至抛光磨片下方进行抛光处理,有利于将晶圆抛光均匀。
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