两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN101866933B

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN200910081985.4

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 一种两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,包括:一半绝缘半导体GaAs衬底;一第一半导体GaAs接触层,制作在半绝缘半导体GaAs衬底上;一第一多量子阱红外探测器,制作在第一半导体GaAs接触层上,该第一半导体GaAs接触层的一侧形成一台面;一第二半导体GaAs接触层,制作在第一多量子阱红外探测器上;一第二多量子阱红外探测器,制作在第二半导体GaAs接触层上;一第三半导体GaAs接触层,制作在第二多量子阱红外探测器上;一上接触电极和一下接触电极分别制作在第三半导体GaAs接触层上面和第一半导体GaAs接触层形成的台面上。

    电压调制型中长波双色量子阱红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN101866932A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200910081984.X

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 一种电压调制型中长波双色量子阱红外探测器,包括:一半绝缘半导体GaAs衬底;一第一半导体GaAs接触层,制作在半绝缘半导体GaAs衬底上;一第一多量子阱红外探测器,制作在第一半导体GaAs接触层上,在第一半导体GaAs接触层的一侧形成一台面;一第二半导体GaAs接触层,制作在第一多量子阱红外探测器上;一第二多量子阱红外探测器,制作在第二半导体GaAs接触层上;一第三半导体GaAs接触层,制作在第二多量子阱红外探测器上;一上接触电极和下接触电极,分别制作在第三半导体GaAs接触上和第一半导体GaAs接触层形成的台面上。

    电压调制型中长波双色量子阱红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN101866932B

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN200910081984.X

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 一种电压调制型中长波双色量子阱红外探测器,包括:一半绝缘半导体GaAs衬底;一第一半导体GaAs接触层,制作在半绝缘半导体GaAs衬底上;一第一多量子阱红外探测器,制作在第一半导体GaAs接触层上,在第一半导体GaAs接触层的一侧形成一台面;一第二半导体GaAs接触层,制作在第一多量子阱红外探测器上;一第二多量子阱红外探测器,制作在第二半导体GaAs接触层上;一第三半导体GaAs接触层,制作在第二多量子阱红外探测器上;一上接触电极和下接触电极,分别制作在第三半导体GaAs接触上和第一半导体GaAs接触层形成的台面上。

    两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器及其制作方法

    公开(公告)号:CN101866933A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200910081985.4

    申请日:2009-04-15

    Abstract: 一种两端结构中长波同时响应量子阱红外探测器,包括:一半绝缘半导体GaAs衬底;一第一半导体GaAs接触层,制作在半绝缘半导体GaAs衬底上;一第一多量子阱红外探测器,制作在第一半导体GaAs接触层上,该第一半导体GaAs接触层的一侧形成一台面;一第二半导体GaAs接触层,制作在第一多量子阱红外探测器上;一第二多量子阱红外探测器,制作在第二半导体GaAs接触层上;一第三半导体GaAs接触层,制作在第二多量子阱红外探测器上;一上接触电极和一下接触电极分别制作在第三半导体GaAs接触层上面和第一半导体GaAs接触层形成的台面上。

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