公开(公告)号：CN103088318A

公开(公告)日：2013-05-08

申请号：CN201310009608.6

申请日：2013-01-10

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 冉军学 ,  胡强 ,  胡国新 ,  梁勇 ,  熊衍凯 ,  王军喜 ,  曾一平 ,  李晋闽

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455

Abstract: 一种MOCVD设备反应室进气的气体混合与隔离装置，包括：一第一气体入口；一第一气体出口；一第一直通阀门的一端与第一气体入口连通，该第一直通阀门的另一端与第一气体出口连通；一第一旁通阀门的一端与第一直通阀门的一端连接；一第二旁通阀门的一端与第一直通阀门的另一端连接；一第二气体入口；一第二气体出口；一第二直通阀门的一端与第二气体入口连通，该第二直通阀门的另一端与第二气体出口连通；一第三旁通阀门的一端与第二直通阀门的一端连接，该第三旁通阀门的另一端与第一旁通阀门的另一端连接；一第四旁通阀门的一端与第二直通阀门的另一端连接，该第四旁通阀门的另一端与第二旁通阀门的另一端连接；一气体混合器位于第一旁通阀门及第二旁通阀门之间并与之连通。

公开(公告)号：CN103074674B

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201310010357.3

申请日：2013-01-10

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 冉军学 ,  胡强 ,  胡国新 ,  梁勇 ,  熊衍凯 ,  王军喜 ,  曾一平 ,  李晋闽

IPC: C30B25/14 ,  C30B25/08 ,  C23C16/455

Abstract: 一种用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置，包括：一筒体；一水冷匀气板，该水冷匀气板制作在筒体内；一上盖板，该上盖板固定在筒体上，该上盖板与水冷匀气板之间形成一进气腔室；一气体隔离装置，该气体隔离装置固定在上盖板上，该气体隔离装置是将进气腔室隔离成至少两个进气腔室或使之连通。本发明可实现MOCVD反应室进气方式的多样性和灵活性，提高组份混合均匀性并可以避免严重的预反应。

公开(公告)号：CN103074674A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201310010357.3

申请日：2013-01-10

Applicant: 中国科学院半导体研究所

Inventor： 冉军学 ,  胡强 ,  胡国新 ,  梁勇 ,  熊衍凯 ,  王军喜 ,  曾一平 ,  李晋闽

IPC: C30B25/14 ,  C30B25/08 ,  C23C16/455

Abstract: 一种用于金属有机化学气相沉积设备的反应室进气装置，包括：一筒体；一水冷匀气板，该水冷匀气板制作在筒体内；一上盖板，该上盖板固定在筒体上，该上盖板与水冷匀气板之间形成一进气腔室；一气体隔离装置，该气体隔离装置固定在上盖板上，该气体隔离装置是将进气腔室隔离成至少两个进气腔室或使之连通。本发明可实现MOCVD反应室进气方式的多样性和灵活性，提高组份混合均匀性并可以避免严重的预反应。