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公开(公告)号:CN103646986A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201310729555.5
申请日:2013-12-26
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/105 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L31/1013 , H01L31/11 , H01L31/1848 , H01L31/1852
Abstract: 本发明公开了一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法。该探测器包括:衬底;缓冲层;n-i-p-i-n单元,其包括缓冲层上依次生长的下n型掺杂层、下i型有源层、p型掺杂层、上i型有源层和上n型掺杂层;上台面,其是通过刻蚀上n型掺杂层、上i型有源层、p型掺杂层两侧形成的台面;下台面,其是通过刻蚀上台面下方两侧的p型掺杂层形成;n型欧姆接触金属层,其生长在上n型掺杂层表面,以及下台面一侧的下n型掺杂层上表面;p型欧姆接触金属层,其生长在上台面一侧的p型掺杂层上表面;加厚金属层,其生长在n型欧姆接触金属层和p型欧姆接触金属层上表面,其尺寸大于其下方的欧姆接触金属层的尺寸;二氧化硅层。
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公开(公告)号:CN103646986B
公开(公告)日:2016-08-17
申请号:CN201310729555.5
申请日:2013-12-26
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L31/105 , H01L31/18
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种AlGaN基双色日盲紫外探测器及制作方法。该探测器包括:衬底;缓冲层;n?i?p?i?n单元,其包括缓冲层上依次生长的下n型掺杂层、下i型有源层、p型掺杂层、上i型有源层和上n型掺杂层;上台面,其是通过刻蚀上n型掺杂层、上i型有源层、p型掺杂层两侧形成的台面;下台面,其是通过刻蚀上台面下方两侧的p型掺杂层形成;n型欧姆接触金属层,其生长在上n型掺杂层表面,以及下台面一侧的下n型掺杂层上表面;p型欧姆接触金属层,其生长在上台面一侧的p型掺杂层上表面;加厚金属层,其生长在n型欧姆接触金属层和p型欧姆接触金属层上表面,其尺寸大于其下方的欧姆接触金属层的尺寸;二氧化硅层。
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